公开(公告)号：KR1020170017796A

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：KR1020160099612

申请日：2016-08-04

Applicant: 비아비 솔루션즈 아이엔씨.

Inventor： 스미스,파울라 ,  흐루스카,커티스알. ,  캐칭,벤자민에프. ,  쿰스,폴지.

IPC: G01J3/26 ,  G02B6/293

CPC classification number: G01J3/0229 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0216 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/12 ,  G01J3/26 ,  G01J3/2803 ,  G01J2003/1213 ,  G01J2003/1217 ,  G01J2003/123 ,  G01J2003/1234 ,  G01J2003/1239 ,  G01J2003/1291 ,  G01J2003/2806 ,  G01J2003/2813 ,  G01N21/255 ,  G01N21/8507 ,  G02B5/22 ,  G02B5/3025 ,  G02B6/4215

Abstract: 업스트림필터가다운스트림필터의공간필터로서기능하도록서로고정된거리로스택되는 2개의횡방향가변대역통과필터를포함하는광학어셈블리가개시된다. 횡방향변위는, 업스트림및 다운스트림필터들상의사선빔의침투위치들에서전송통과대역들이오버랩하지않을때 사선빔의억제를유도할수 있다. 광검출기어레이는다운스트림필터의다운스트림에배치될수 있다. 광학어셈블리는유체샘플의스펙트로스코픽측정들을위해다양한광도관들또는광섬유들을통해커플링될수 있다.

Abstract translation: 公开了一种光学组件，其包括彼此以固定距离堆叠的两个横向可变带通光学滤光器，使得上游滤波器用作下游滤波器的空间滤波器。 当倾斜光束的入射位置在上游和下游滤波器上的传输通带不重叠时，横向位移可能导致倾斜光束的抑制。 光电检测器阵列可以设置在下游滤波器的下游。 光学组件可以经由各种光学导管或光纤耦合，用于流动样品的光谱测量。

公开(公告)号：KR1020160135769A

公开(公告)日：2016-11-28

申请号：KR1020167028947

申请日：2015-03-20

Applicant: 케이엘에이-텐코 코포레이션

Inventor： 마나센암논 ,  힐앤디앤드류 ,  아브라모브아비

IPC: G01N21/88 ,  G03F7/20 ,  G01J3/02 ,  G01N21/47 ,  G01N21/95 ,  G01N21/956

CPC classification number: G01N21/8806 ,  G01J1/0228 ,  G01J3/02 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/2823 ,  G01N21/47 ,  G01N21/8851 ,  G01N21/9501 ,  G01N21/956 ,  G01N21/95623 ,  G01N2021/8848 ,  G01N2201/06 ,  G03F7/70633

Abstract: 계측타겟의조명을스펙트럼범위및/또는편광과관련하여패터닝하고, 패터닝된조명으로계측타겟을조명하며, 그리고수집패턴을동공평면픽셀에적용함으로써, 동공평면에서, 선택된동공평면픽셀을각각의단일검출기(들)로지향시키는것에의해서타겟으로부터산란된복사선을측정하는방법및 시스템이제공된다. 단일검출기측정(압축감지)이광 감도를증가시켰고, 그러한광 감도는조명을패터닝하기위해서그리고미리규정된계측매개변수와관련하여검출된산란복사선의정보콘텐츠를추가적으로향상시키기위해서이용된다.

Abstract translation: 提供了方法和系统，其针对光谱范围和/或偏振来对计量目标进行照明，通过图案化照明照亮度量目标，并且通过在瞳孔平面指导所选择的瞳孔来测量从目标散射的辐射 通过将收集图案应用于瞳孔平面像素，从一个或多个单个检测器的平面像素。 单个检测器测量（压缩感测）具有增加的光敏度，其用于对照明进行图案化，并且相对于预定义的度量参数进一步增强检测到的散射辐射的信息内容。

公开(公告)号：KR1020160132936A

公开(公告)日：2016-11-21

申请号：KR1020167028123

申请日：2015-03-12

Applicant: 내셔널 유니버시티 오브 싱가포르

Inventor： 허슬러,사샤피에르 ,  모저,허버트오스카 ,  퍼닥,알록

IPC: G01J3/02 ,  G01J3/453

CPC classification number: G01J3/4531 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0272

Abstract: 광학간섭장치(100)는여기서개시된다. 기술된실시예에서, 광학간섭장치(100)는광의시준된빔을수용하기위한위상변위기어레이(108)를포함한다. 위상변위기어레이(108)는다양한위상변위들을가지는적어도몇몇의광학광 채널들과, 광의시준된빔의각각의선으로부터광학광 채널들을생산하기위해셀들(128)의어레이를포함한다. 광학간섭장치(100)는초점거리를가지고광학탐지기(116)에의한탐지를위한위상변위기어레이(108)의하류에이미지및 그것의초점거리에서광의집중된빔을, 광학광 채널들로부터, 동시에생산하도록배열되는포커싱렌즈(110)를더 포함한다. 또한, 광학간섭장치(100)는광학탐지기(116)에의한탐지를위해영차수에서공간적으로분포된간섭광 패턴을생산하도록광의집중된빔을여과하도록배열되고포커싱렌즈(100)의초점거리에서배열되는광학공간필터(122)를포함한다. 또한, 공간적으로분포되는간섭광 패턴을생산하기위한방법은개시된다.

Abstract translation: 本文公开了光学干涉装置100。 在所描述的实施例中，光学干涉装置100包括用于接收准直光束的移相器阵列108。 移相器阵列108包括用于从准直光束的各个光线产生光学光通道的单元阵列128，其中至少一些光学光通道具有不同的相移。 光学干涉装置100还包括聚焦透镜110，该聚焦透镜110具有焦距并且被布置成从光学光通道同时产生在其焦平面上的聚焦光束和在移相器阵列108下游的图像，用于通过光学 光学干涉装置100还包括布置在聚焦透镜110的焦距处的光学空间滤光器112，并布置成滤光聚焦光束，以产生空间分布的干涉光图案，用于由光学器件检测 还公开了一种用于产生空间分布的干涉光图案的方法。

公开(公告)号：KR1020140114447A

公开(公告)日：2014-09-26

申请号：KR1020147023627

申请日：2013-02-27

Applicant: 고쿠리츠다이가쿠호우징 카가와다이가쿠

Inventor： 이시마루이치로

IPC: G01N21/359 ,  A61B5/145 ,  A61B5/1455 ,  A61B5/00 ,  G01B9/02 ,  G01N21/25 ,  G01N21/45 ,  G01N21/49

CPC classification number: A61B5/1455 ,  A61B5/14532 ,  A61B5/6887 ,  A61B5/7257 ,  A61B2562/0233 ,  G01B9/02041 ,  G01B9/02049 ,  G01B9/0207 ,  G01J3/0205 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0256 ,  G01J3/0272 ,  G01J3/10 ,  G01J3/18 ,  G01J3/4532 ,  G01J3/4535 ,  G01J2003/102 ,  G01J2003/4538 ,  G01N21/255 ,  G01N21/359 ,  G01N21/45 ,  G01N21/49 ,  G01N21/9501 ,  G01N2201/0612

Abstract: 본 발명은 측정 대상으로부터 발사된 측정광을 고정 미러부와 가동 미러부에 입사시켜, 상기 고정 미러부에 의해서 반사된 측정광과 상기 가동 미러부에 의해서 반사된 측정광의 간섭광을 형성한다. 이때, 상기 가동 미러부를 이동시킴으로써 측정광의 간섭광 강도 변화를 얻고, 이 변화에 기초하여 측정광의 인터페로그램을 구한다. 또, 동시에, 측정광의 파장 대역의 일부인 협대역의 파장의 참조광을, 상기 고정 미러부와 상기 가동 미러부에 입사시켜, 그 고정 미러부에 의해서 반사된 참조광과 그 가동 미러부에 의해서 반사된 참조광의 간섭광을 형성한다. 이때, 상기 가동 미러부를 이동시킴으로써 참조광의 간섭광 강도 변화의 진폭, 및 상기 측정광 중 상기 참조광과 같은 파장의 측정광과 상기 참조광의 위상차에 기초하여 상기 측정광의 인터페로그램을 보정하고, 보정 후의 인터페로그램에 기초하여 상기 측정광의 스펙트럼을 구한다.

公开(公告)号：KR1020120049331A

公开(公告)日：2012-05-16

申请号：KR1020127006254

申请日：2010-08-10

Applicant: 코닌클리케 필립스 엔.브이.

Inventor： 브루터스루드 ,  무지스램코테오도루스요하네스 ,  슈마이츠하롤드아그네스빌헬무스

IPC: G01J3/28 ,  G01J3/02 ,  H04N9/04 ,  H04N9/097

CPC classification number: H04N9/045 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/2803 ,  H04N9/097

Abstract: 멀티-스펙트럼 카메라는 광이 통과하도록 허용하는 적어도 하나의 홀(203)을 갖는 차단 소자(201)를 포함한다. 분산 소자(205)는 상이한 파장 종속 방향들로 상기 적어도 하나의 홀(203)로부터의 광을 확산시키고 렌즈(207)는 이미지 평면(209)상에서 상기 분산 소자(205)로부터의 광을 포커싱한다. 마이크로렌즈 어레이(211)는 렌즈(207)로부터 광을 수신하고 이미지 센서(213)는 상기 마이크로렌즈 어레이(211)로부터 광을 수신하며 상기 이미지 센서(213)의 픽셀들에 대한 입사 광 값들을 포함하는 픽셀 값 신호를 생성한다. 그 후 프로세서는 상기 픽셀 값 신호로부터 멀티-스펙트럼 이미지를 생성한다. 상기 접근법은 단일 순간 센서 측정으로 하여금 적어도 하나의 공간적 차원 및 하나의 스펙트럼 차원을 포함하는 멀티-스펙트럼 이미지를 제공할 수 있게 허용할 수 있다. 상기 멀티-스펙트럼 이미지는 상기 센서 출력의 후-처리에 의해 생성될 수 있으며, 물리적 필터링 또는 부품들의 이동은 필요하지 않다.

公开(公告)号：KR1020120036745A

公开(公告)日：2012-04-18

申请号：KR1020110097510

申请日：2011-09-27

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 백문철 ,  강광용 ,  곽민환 ,  강승범

IPC: H01Q1/38 ,  H01Q19/06

CPC classification number: H01Q1/364 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/42 ,  H01Q15/02 ,  H01Q15/08 ,  H01Q19/062

Abstract: PURPOSE: A condenser lens integrated photoconductive antenna element and a manufacturing method thereof are provided to simplify the entire manufacturing process by directly evaporating a poly-crystal GaAs thin film on a silicon condenser lens. CONSTITUTION: A photoconductor thin film(202) is evaporated on a condenser lens(201). The condenser lens comprises high-resistivity silicon. The photoconductor thin film comprises poly-crystal GaAs. A metal electrode(203) for a photoconductive antenna is formed on the photoconductor thin-film. The condenser lens and the photoconductor thin film are formed into one body. A sample holder accepts the condenser lens. The sample holder comprises a mounting part in which the condenser lens is mounted, and a cover having a penetration hole in which the condenser lens is inserted.

Abstract translation: 目的：提供聚光透镜集成光电导天线元件及其制造方法，以通过在硅聚光透镜上直接蒸发多晶GaAs薄膜来简化整个制造过程。 构成：光电导体薄膜（202）在聚光透镜（201）上蒸发。 聚光透镜包括高电阻率硅。 光电导体薄膜包括多晶GaAs。 在感光体薄膜上形成用于光电导天线的金属电极（203）。 聚光透镜和感光体薄膜形成为一体。 样品架接收聚光透镜。 样品架包括其中安装聚光透镜的安装部分和具有插入聚光透镜的穿透孔的盖。

公开(公告)号：KR1020060112652A

公开(公告)日：2006-11-01

申请号：KR1020067008342

申请日：2004-10-20

Applicant: 램 리써치 코포레이션

Inventor： 맥밀린브라이언케이 ,  다사파프랑수와찬드라세카

IPC: G01N21/00 ,  G01J3/30

CPC classification number: G01N21/68 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/443 ,  H01J37/32963

Abstract: Broadly speaking, an invention is provided for monitoring a plasma optical emission. More specifically, the present invention provides a method for monitoring the plasma optical emission through a variable aperture to detect an endpoint of a plasma etching process without interferences that could lead to false endpoint calls. The method includes collecting optical emission data from a plasma through an aperture defined by moveable members. The moveable members are capable of varying a configuration of the aperture. The method also includes holding the moveable members at a particular time to cause the aperture to maintain a fixed configuration. The method further includes detecting a specific perturbation in the plasma optical emission while holding the moveable members.

Abstract translation: 概括地说，提供了一种用于监测等离子体光发射的发明。 更具体地，本发明提供了一种用于通过可变孔径监测等离子体光发射以检测等离子体蚀刻过程的端点的方法，而不会导致虚假端点呼叫的干扰。 该方法包括通过由可移动构件限定的孔收集来自等离子体的光发射数据。 可移动构件能够改变孔径的构造。 该方法还包括在特定时间保持可移动构件以使孔保持固定构型。 该方法还包括在保持可移动构件的同时检测等离子体光发射中的特定扰动。

公开(公告)号：KR1020050014795A

公开(公告)日：2005-02-07

申请号：KR1020047013944

申请日：2003-03-06

Applicant: 아스펙트릭스, 인크.

Inventor： 해글러,토마스,더블유.

IPC: G01J3/04

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0216 ,  G01J3/0218 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/027 ,  G01J3/0289 ,  G01J3/06 ,  G01J3/1804 ,  G01J3/2846 ,  G01J3/42 ,  G01J2001/4242 ,  G01J2003/1217

Abstract: 본 발명은 파장별로 분산되거나 한 라인을 따라 이미지화되는 복사의 공간 변조 방식의 분석기 및 인코더를 이용하여 복사를 분석하기 위한 방법 및 장치에 관한 것이다.

公开(公告)号：KR1020030041147A

公开(公告)日：2003-05-23

申请号：KR1020037004802

申请日：2001-10-03

Applicant: 나노메트릭스 인코포레이티드

Inventor： 샌듀스카이존브이.

IPC: G01J4/00

CPC classification number: G01J3/02 ,  G01J3/0229 ,  G01N21/47 ,  G01N2021/214

Abstract: 샘플의 개구수차 분석을 위한 장치 및 방법으로서, 가변 조사(30) 또는 관측(40)으로부터의 입사각 측정, 또는 그 두 가지 모두를 사용한다. 계측 응용이 제공되며, 특히 스케터로미터, 일립소미터, 양방향 반사율 또는 투과율 분포함수 측정을 포함하는 유사한 분석방법을 포함한다. 제공된 장치 및 방법은 최소한의 이동부분을 사용하여 샘플의 임계치수의 분석을 가능하게 하고, 입사 및 산란 각도의 범위가 가변 개구수 또는 개구(30, 40)에 의해 변한다.

公开(公告)号：KR100275422B1

公开(公告)日：2000-12-15

申请号：KR1019920024776

申请日：1992-12-19

Applicant: 텍사스 인스트루먼츠 인코포레이티드

Inventor： 로날드이.스태포드

IPC: G02B27/10

CPC classification number: G01J3/28 ,  G01J3/021 ,  G01J3/0229 ,  G01J2003/2866 ,  G01N2201/0675

Abstract: 입사한 복사선을 관련 파장 스펙트럼으로 분산하는 프리즘(44)에 복사선의 평행 광선을 제공하기 위해 입구 슬릿(40)과 시준기(42)를 채택한 SLM 분광기가 제공된다. 프리즘(44)로부터의 스펙트럼은 변형가능 미러 장치(DMD)와 같은 공간 광 변조기(SLM)(46)에 입사된다. SLM 표면의 작은 부분을 선택적으로 활성화(또는 불활성화)함으로써 SLM에 입사한 스펙트럼의 일부분을 파라볼라 집속 미러(48)과 같은 집속 장치에 선택적으로 반사 또는 전송하는 것이 가능하다. 집속 장치는 SLM 상의 선택된 셀에 의해 반사된 스펙트럼의 부분을 다시 감지기(50)에 집속한다. 선택된 파장은 SLM에서 어느 열의 셀들이 활성화(또는 불활성화)되었는지의 함수이다. 본 발명의 SLM 분광기는 가시광과, 근적외선 또는 자외선과 같은 가시광에 가까운 광을 분석하는 데에 사용될 수 있다. 감지기 또는 검출기의 출력은 적절히 증폭되어, 적절한 교정 후에 특정 파장 또는 파장 대역에 있는 에너지의 양을 결정하기 위해 채택될 수 있다.