Abstract:
Die Erfindung geht von einem optischen Bauteil aus synthetischem Quarzglas zur Verwendung in der ArF-Excimerlaser-Lithographie mit einer Einsatzwellenlänge von 193 nm aus, mit einer Glasstruktur im Wesentlichen ohne Sauerstoffdefektstellen, einem Wasserstoffgehalt im Bereich von 0,1 x 10 16 Molekülen/cm 3 bis 1,0 x 10 18 Molekülen/cm 3 und einem Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 2 x 10 17 Molekülen/cm 3 und mit einem Gehalt an Hydroxylgruppen im Bereich zwischen 0,1 und 100 Gew.-ppm, wobei die Glasstruktur eine fiktive Temperatur von weniger 1070 °C aufweist. Um ausgehend von einer Messung des Kompaktierungsverhaltens bei einer Messwellenlänge von 633 nm eine verlässliche Prädiktion zum Kompaktierungsverhalten beim Einsatz mit UV-Laserstrahlung der Einsatzwellenlänge ermöglicht, wird eine Ausgestaltung des optischen Bauteil vorgeschlagen, bei der es auf Bestrahlung mit Strahlung einer Wellenlänge von 193 nm mit 5x10 9 Pulsen mit einer Pulsbreite von 125 ns und einer Energiedichte von jeweils 500µJ/cm 2 sowie einer Pulswiederholfrequenz von 2000 Hz mit einer laserinduzierten Brechzahländerung reagiert, deren Betrag bei Vermessung mit der Einsatzwellenlänge von 193 nm einen ersten Messwert M 193nm und bei Vermessung mit einer Messwellenlänge von 633 nm einen zweiten Messwert M 633nm ergibt, wobei gilt: M 193nm /M 633nm
Abstract:
Hollow ingots of transparent synthetic vitreous silica glass of external diameter greater than 400 mm and internal diameter greater than 300 mm are disclosed. The ingots are substantially free from bubbles or inclusions greater than 100 μιη in diameter, have no more than 100 ppB of any individual metallic impurity, and have chlorine concentration less than 5 ppM. Also disclosed are methods for producing such ingots, in which a porous soot body of density greater than 0.4 g/ cm 3 is deposited on an oxidation resistant mandrel. The soot body is dehydrated on a mandrel comprising graphite, carbon fibre reinforced carbon, silicon carbide, silicon impregnated silicon carbide, silicon carbide-coated graphite or vitreous silica, either under vacuum or in the presence of a reducing gas, and then sintered to transparent pore-free glass under vacuum or in an atmosphere of helium.
Abstract:
Disclosed is an optical fiber having a silica-based core comprising an alkali metal oxide selected from the group consisting of K2O, Na2O, LiO2, Rb2O, Cs2O and mixtures thereof in an average concentration in said core between about 50 and 500 ppm by weight, said core further comprising chlorine and fluorine, wherein the average concentration of fluorine in said core is greater than the average concentration of alkali metal oxide in said core and the average concentration of chlorine in said core is greater than the average concentration of alkali metal oxide in said core; and a silica-based cladding surrounding and directly adjacent the core. By appropriately selecting the concentration of alkali metal oxide dopant in the core and the cladding, a low loss optical fiber may be obtained.
Abstract:
What is disclosed includes OD-doped synthetic silica glass capable of being used in optical elements for use in lithography below about 300 nm. OD-doped synthetic silica glass was found to have significantly lower polarization-induced birefringence value than non-OD-doped silica glass with comparable concentration of OH. Also disclosed are processes for making OD-dopes synthetic silica glasses, optical member comprising such glasses, and lithographic systems comprising such optical member. The glass is particularly suitable for immersion lithographic systems due to the exceptionally low polarization-induced birefringence values at about 193 nm.
Abstract:
An electrodeless lamp and process for emitting ultraviolet and/or vacuum ultraviolet radiation comprises an envelope formed of an ultra-pure and/or low-defect quartz material and an ultraviolet and/or vacuum ultraviolet emissive material disposed in the interior region of the envelope. The electrodeless lamp formed of the ultra-pure and/or low-defect quartz material minimizes degradation during use.
Abstract:
A method of forming an alkali metal oxide-doped optical fiber by diffusing an alkali metal into a surface of a glass article is disclosed. The silica glass article may be in the form of a tube or a rod, or a collection of tubes or rods. The silica glass article containing the alkali metal, and impurities that may have been unintentionally diffused into the glass article, is etched to a depth sufficient to remove the impurities. The silica glass article may be further processed to form a complete optical fiber preform. The preform, when drawn into an optical fiber, exhibits a low attenuation.
Abstract:
The invention relates to a method for producing a silica glass body, comprising the method steps: i.) providing silicon dioxide particles ii.) forming a glass melt from the silicon dioxide particles in a furnace and iii.) forming a silica glass body from at least one portion of the glass melt, wherein the furnace has a gas outlet, through which gas can be removed from the furnace and the dew point of the gas exiting the furnace through the gas outlet is less than 0°C. The invention also relates to a silica glass body that can be obtained by said method. In addition, the invention relates to a light guide, a lighting means and a shaped article, each of which can be obtained by further processing the silica glass body. The invention further relates to the adjustment of the dew point at the outlet of a furnace, comprising: providing a starting material in the furnace; operating said furnace, a gas flow being conducted through the furnace; and varying the residual moisture of the starting material or the gas exchange rate of the gas flow.
Abstract:
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen eines Siliziumdioxidgranulats, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Siliziumdioxidgranulat und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze, wobei das Bereitstellen die Schritte I. Erzeugen eines Siliziumdioxidpulvers mit mindestens zwei Teilchen hergestellt aus einer Silizium-Chlor-Verbindung, II. Kontaktieren des Siliziumdioxidpulvers mit Ammoniak unter Erhalt eines behandelten Siliziumdioxidpulvers und III. Granulieren des behandelten Siliziumdioxidpulvers zu einem Siliziumdioxidgranulat beinhaltet, und wobei der Chlorgehalt des Siliziumdioxidpulvers höher ist als der Chlorgehalt des Siliziumdioxidgranulats. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Herstellen eines Siliziumdioxidgranulats. Weiterhin betrifft die Erfindung einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.
Abstract:
Die Erfindung betrifft einen Ofen beinhaltend einen Schmelztiegel mit einer Tiegelwand, eine Feststoffzuführung mit einem Auslass, einen Gaseinlass und einen Gasauslass, wobei im Schmelztiegel der Gaseinlass unterhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist und der Gasauslass auf gleicher Höhe wie oder oberhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen und Einführen eines Schüttguts ausgewählt aus Siliziumdioxidgranulat und Quarzglaskörnung in den Ofen und Bereitstellen eines Gases, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Schüttgut und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist, sowie einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.