OPTISCHES BAUTEIL AUS QUARZGLAS ZUR VERWENDUNG IN DER ArF-EXCIMERLASER-LITHOGRAPHIE SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES BAUTEILS
    211.
    发明申请
    OPTISCHES BAUTEIL AUS QUARZGLAS ZUR VERWENDUNG IN DER ArF-EXCIMERLASER-LITHOGRAPHIE SOWIE VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG DES BAUTEILS 审中-公开
    光学部件QUARZGLAS FOR USE IN ArF准分子激光光刻法和制造方法COMPONENT

    公开(公告)号:WO2014128148A2

    公开(公告)日:2014-08-28

    申请号:PCT/EP2014/053199

    申请日:2014-02-19

    Inventor: KUEHN, Bodo

    Abstract: Die Erfindung geht von einem optischen Bauteil aus synthetischem Quarzglas zur Verwendung in der ArF-Excimerlaser-Lithographie mit einer Einsatzwellenlänge von 193 nm aus, mit einer Glasstruktur im Wesentlichen ohne Sauerstoffdefektstellen, einem Wasserstoffgehalt im Bereich von 0,1 x 10 16 Molekülen/cm 3 bis 1,0 x 10 18 Molekülen/cm 3 und einem Gehalt an SiH-Gruppen von weniger als 2 x 10 17 Molekülen/cm 3 und mit einem Gehalt an Hydroxylgruppen im Bereich zwischen 0,1 und 100 Gew.-ppm, wobei die Glasstruktur eine fiktive Temperatur von weniger 1070 °C aufweist. Um ausgehend von einer Messung des Kompaktierungsverhaltens bei einer Messwellenlänge von 633 nm eine verlässliche Prädiktion zum Kompaktierungsverhalten beim Einsatz mit UV-Laserstrahlung der Einsatzwellenlänge ermöglicht, wird eine Ausgestaltung des optischen Bauteil vorgeschlagen, bei der es auf Bestrahlung mit Strahlung einer Wellenlänge von 193 nm mit 5x10 9 Pulsen mit einer Pulsbreite von 125 ns und einer Energiedichte von jeweils 500µJ/cm 2 sowie einer Pulswiederholfrequenz von 2000 Hz mit einer laserinduzierten Brechzahländerung reagiert, deren Betrag bei Vermessung mit der Einsatzwellenlänge von 193 nm einen ersten Messwert M 193nm und bei Vermessung mit einer Messwellenlänge von 633 nm einen zweiten Messwert M 633nm ergibt, wobei gilt: M 193nm /M 633nm

    Abstract translation:

    本发明涉及一种用于在ArF准分子激光光刻法使用与Einsatzwellenl&AUML光学合成石英玻璃构件; 193纳米的长度,具有玻璃结构基本没有氧缺陷,在的范围内的氢含量 0.1×10 16 分子导航用途LEN /厘米 3 至1.0×10 18 分子导航用途LEN /厘米 3 < / SUP>和小于2×10 17 分子导航用途的SiH基团的含量LEN /厘米 3 和与羟基基团的0.1°范围内的内容和 100重量ppm,玻璃结构的概念温度低于1070℃ 为了从Kompaktierungsverhaltens的测量在一个Messwellenl&AUML开始; 633nm的长度的VERL&AUML; ssliche镨&AUML;用语与Einsatzwellenl BEAR长度ERM&ouml的紫外激光辐射使用时压实行为; glicht,该光学装置的结构,提出了,这是对 照射具有波长&AUML辐射;焦耳/厘米 2 ,和脉冲重复的2000频率; 193nm下用5×10 9 脉冲与125毫微秒的脉冲宽度和500微的能量密度的长度 用激光诱导的折射率&AUML赫兹反应的变化,与所述Einsatzwellenl&AUML测量时的量; 193nm的第一测量值M长度<子> 193nm的和测量与Messwellenl&AUML; 633nm的第二测量值M长度<子 > 633nm,其中:M193nm / M633nm

    光ファイバ母材及び光ファイバ母材製造方法
    212.
    发明申请
    光ファイバ母材及び光ファイバ母材製造方法 审中-公开
    光纤预制件和制造光纤预制件的方法

    公开(公告)号:WO2014119559A1

    公开(公告)日:2014-08-07

    申请号:PCT/JP2014/051814

    申请日:2014-01-28

    Abstract:  線引きされることで低損失の光ファイバとなることができる光ファイバ母材を提供する。 光ファイバ母材1は、コア部10と、コア部10を取り囲むクラッド部20とを備える。コア部10は、第1コア部11と、第1コア部11を取り囲む第2コア部12とを含む。クラッド部20は、第2コア部12を取り囲む第1クラッド部21と、第1クラッド部21を取り囲む第2クラッド部22とを含む。第1コア部11は、アルカリ金属元素を含み、アルカリ金属原子濃度が100atomic ppm以上である領域の一部または全部でガラス中に含まれる酸素分子の濃度が30mol ppb以上200mol ppb以下であり、アルカリ金属原子濃度が50atomic ppm以下である領域でガラス中に含まれる酸素分子の濃度が10mol ppb以下である。

    Abstract translation: 提供了可以被拉入低损耗光纤的光纤预制件。 该光纤预制件(1)包括芯部(10)和包围芯部(10)的包层部(20)。 芯部(10)包含围绕第一芯部(11)的第一芯部(11)和第二芯部(12)。 包层部(20)包含围绕第二芯部(12)的第一包层部(21)和包围第一包层部(21)的第二包层部(22)。 第一芯部(11)含有碱金属。 在碱金属原子浓度大于或等于100原子ppm的部分或全部区域中,玻璃中氧分子的浓度为30〜200mol ppb,其浓度为 碱金属原子小于或等于50原子ppm,玻璃中氧分子的浓度小于或等于10mol ppb。

    OPTICAL FIBER CONTAINING ALKALI METAL OXIDE
    214.
    发明申请
    OPTICAL FIBER CONTAINING ALKALI METAL OXIDE 审中-公开
    包含碱金属氧化物的光纤

    公开(公告)号:WO2007149344A1

    公开(公告)日:2007-12-27

    申请号:PCT/US2007/014114

    申请日:2007-06-15

    Abstract: Disclosed is an optical fiber having a silica-based core comprising an alkali metal oxide selected from the group consisting of K2O, Na2O, LiO2, Rb2O, Cs2O and mixtures thereof in an average concentration in said core between about 50 and 500 ppm by weight, said core further comprising chlorine and fluorine, wherein the average concentration of fluorine in said core is greater than the average concentration of alkali metal oxide in said core and the average concentration of chlorine in said core is greater than the average concentration of alkali metal oxide in said core; and a silica-based cladding surrounding and directly adjacent the core. By appropriately selecting the concentration of alkali metal oxide dopant in the core and the cladding, a low loss optical fiber may be obtained.

    Abstract translation: 公开了一种光纤,其具有二氧化硅基核,其包含选自K2O,Na2O,LiO2,Rb2O,Cs2O及其混合物的碱金属氧化物,其中所述芯中的平均浓度为约50至500重量ppm, 所述芯还包含氯和氟,其中所述芯中的氟的平均浓度大于所述芯中的碱金属氧化物的平均浓度,并且所述芯中的平均氯浓度大于碱金属氧化物的平均浓度 说核心; 以及围绕并直接邻近芯的二氧化硅基包层。 通过适当地选择芯和包层中的碱金属氧化物掺杂剂的浓度,可以获得低损耗光纤。

    PRODUCTION OF SILICA GLASS BODIES WITH DEW-POINT CONTROL IN THE MELTING FURNACE
    218.
    发明申请
    PRODUCTION OF SILICA GLASS BODIES WITH DEW-POINT CONTROL IN THE MELTING FURNACE 审中-公开
    在熔化炉中用陶瓷杯检查石英玻璃体的制备

    公开(公告)号:WO2017103123A3

    公开(公告)日:2017-08-24

    申请号:PCT/EP2016081448

    申请日:2016-12-16

    Abstract: The invention relates to a method for producing a silica glass body, comprising the method steps: i.) providing silicon dioxide particles ii.) forming a glass melt from the silicon dioxide particles in a furnace and iii.) forming a silica glass body from at least one portion of the glass melt, wherein the furnace has a gas outlet, through which gas can be removed from the furnace and the dew point of the gas exiting the furnace through the gas outlet is less than 0°C. The invention also relates to a silica glass body that can be obtained by said method. In addition, the invention relates to a light guide, a lighting means and a shaped article, each of which can be obtained by further processing the silica glass body. The invention further relates to the adjustment of the dew point at the outlet of a furnace, comprising: providing a starting material in the furnace; operating said furnace, a gas flow being conducted through the furnace; and varying the residual moisture of the starting material or the gas exchange rate of the gas flow.

    Abstract translation: 本发明涉及一种方法,用于制造石英玻璃体包括如下工艺步骤i。)提供的二氧化硅颗粒,二。)形成由二氧化硅粒子的熔融玻璃在烘箱中和iii)从所述熔融玻璃的至少一部分上形成石英玻璃体,炉内的气体出口 通过它从炉中取出气体,当气体通过气体出口离开炉的露点低于0℃时 本发明还涉及通过该方法可获得的石英玻璃体。 此外,本发明涉及一种光导,一种照明装置和一种成型体,每种光导体都可以通过对石英玻璃体进一步加工而获得。 本发明还涉及到露点在包括提供在所述炉中的输入材料,炉的操作中,其中,气体流通过烘箱,并改变起始材料的残留水分或气体流的气体交换率的炉子的出口处的调整。

    GASSPÜLUNG FÜR SCHMELZOFEN UND HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR QUARZGLAS
    220.
    发明申请
    GASSPÜLUNG FÜR SCHMELZOFEN UND HERSTELLUNGSVERFAHREN FÜR QUARZGLAS 审中-公开
    熔化炉的气体冲洗和石英玻璃的生产工艺

    公开(公告)号:WO2017103168A1

    公开(公告)日:2017-06-22

    申请号:PCT/EP2016/081521

    申请日:2016-12-16

    Abstract: Die Erfindung betrifft einen Ofen beinhaltend einen Schmelztiegel mit einer Tiegelwand, eine Feststoffzuführung mit einem Auslass, einen Gaseinlass und einen Gasauslass, wobei im Schmelztiegel der Gaseinlass unterhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist und der Gasauslass auf gleicher Höhe wie oder oberhalb des Auslasses der Feststoffzuführung angeordnet ist. Die Erfindung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Herstellen eines Quarzglaskörpers beinhaltend die Verfahrensschritte i.) Bereitstellen und Einführen eines Schüttguts ausgewählt aus Siliziumdioxidgranulat und Quarzglaskörnung in den Ofen und Bereitstellen eines Gases, ii.) Bilden einer Glasschmelze aus dem Schüttgut und iii.) Bilden eines Quarzglaskörpers aus zumindest einem Teil der Glasschmelze. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Quarzglaskörper, der durch dieses Verfahren erhältlich ist, sowie einen Lichtleiter, ein Leuchtmittel und einen Formkörper, die jeweils durch Weiterverarbeiten des Quarzglaskörpers erhältlich sind.

    Abstract translation:

    本发明涉及包含与坩埚壁的坩埚炉中,布置具有出口,气体入口和气体出口,其中,在Feststoffzuf导航用途出口下方的气体入口的坩埚Feststoffzuf导航用途导向货币和 气体出口位于与固体供应出口相同的高度或上方。 本发明还涉及一种方法,用于制造石英玻璃&OUML; rpers包括如下工艺步骤:i)提供和插入导航用途听到SCH导航用途ttguts选定&AUML;从Siliziumdioxidgranulat HLT和在烘箱中的石英玻璃与OUML ;. Rning和提供气体,ii)形成玻璃熔体 从散装材料和iii)由至少部分玻璃熔体形成石英玻璃体。 本发明还涉及一种可通过该方法获得的石英玻璃体,以及可通过进一步处理石英玻璃体而获得的光导,发光装置和成型体

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