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公开(公告)号:KR101986894B1
公开(公告)日:2019-06-07
申请号:KR1020170104557
申请日:2017-08-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/67 , H01L23/544
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公开(公告)号:KR101838793B1
公开(公告)日:2018-03-14
申请号:KR1020160038454
申请日:2016-03-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: [과제] 각기판을안정적으로균일하게가열할수 있는기판가열장치를제공한다. [해결수단] 기판가열장치(10)는, 내부에가열가스가존재하는수용실(11)과, 유리기판(G)을가열하는복수의가열유닛(12)을구비하고, 복수의가열유닛(12)은수용실(11)의내부에있어서서로평행하고또한이격되며, 그리고상하방향에관해서중첩되도록배치되며, 각가열유닛(12)은, 유리기판(G)을수용하는가열실(18)과, 당해가열실(18)의내부에가열된가스를도입하는유닛팬(19)을갖는다.
Abstract translation: 发明内容本发明提供一种能够稳定且均匀地加热各基板的基板加热装置。 基板加热装置(10)包括存在加热气体的容纳室(11)和用于加热玻璃基板(G)的多个加热单元(12) 12在收纳室11的内部彼此平行且隔开地配置,在上下方向上重叠,各加热部12具有收纳玻璃基板G的加热室18, 以及用于将加热后的气体导入加热室18的单元风扇19。
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公开(公告)号:KR101754260B1
公开(公告)日:2017-07-06
申请号:KR1020140028390
申请日:2014-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 기판상에도포된유기재료막중의용매를효율좋게, 단시간에제거할수 있고, 또한기판의면내에서균일한건조처리가가능한건조장치및 건조처리방법을제공한다. 건조장치(100)는진공배기가능한처리용기(1)와, 처리용기(1) 내에서기판(S)을지지하는지지부재로서의재치대(3)와, 재치대(3)에지지되는기판(S) 상의유기재료막을향해가스를분사하는가스분사장치(5)와, 제어부(6)를구비하고있다. 또한건조장치(100)는, 처리용기(1) 내의압력을조절하는압력제어기구를구비하고있다. 복수의노즐(51)은가스의분사유량, 가스의종류를, 노즐(51)마다독립하여조절할수 있도록구성되어있다.
Abstract translation: 本发明提供一种干燥装置和干燥方法,其能够在短时间内有效地除去涂布在基板上的有机材料膜中的溶剂,并且能够在基板的平面内进行均匀的干燥处理。 干燥装置100具有:能够进行真空排气的处理容器1;作为用于将基板S支承在处理容器1内的支承部件的载置台3;基板(未图示) 用于向基板S上的有机材料膜注入气体的气体注入装置5以及控制部6。 此外,干燥装置100具备用于控制处理容器1内的压力的压力控制机构。 多个喷嘴51构成为能够针对各喷嘴51独立地调整气体的流量和气体的种类。
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公开(公告)号:KR1020170045163A
公开(公告)日:2017-04-26
申请号:KR1020170047124
申请日:2017-04-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의건조처리방법은, 건조장치의처리용기내에서, 기판의표면에도포된유기재료막중의용매를휘발시켜제거하는건조처리공정과, 상기건조처리공정의종료후에상기기판을상기처리용기로부터반출한후, 상기처리용기내에잔류한상기용매중에포함되는유기화합물을저분자량의화합물로분해하여상기처리용기내로부터배출시키는리프레쉬공정을구비한다. 상기리프레쉬공정은, 상기처리용기내를대기압으로부터상기용매의증기압인제 1 압력까지감압배기하는단계와, 상기처리용기내가상기제 1 압력으로있는상태에서, 상기처리용기내로의자외선의조사를개시하는단계와, 상기처리용기내를상기제 1 압력보다낮은제 2 압력까지감압하는단계와, 상기처리용기내를상기제 2 압력까지감압하는도중에, 상기자외선의조사를종료하는단계를포함하고, 상기제 1 압력이 0.001 ~ 10 Pa의범위내이다.
Abstract translation: 本发明的干燥处理方法中,在干燥装置的处理容器后的基板,通过有机材料薄膜的溶剂的蒸发除去的干燥处理步骤中施加到基底的表面上,干燥处理步骤结束时,在处理容器 并且将残留在处理容器内的残留溶剂中含有的有机化合物减压成低分子量化合物,并从处理容器内排出分解的有机化合物。 所述刷新步骤包括抽真空由大气压到西班牙的溶剂的第一压力的蒸汽压力的处理容器内部的步骤,而所述处理室我到第一压力,以启动紫外光的照射到处理室 步骤和,处理容器内的减压步骤以比第一压力低的第二压力,所述处理容器的内部,同时在减压下于第二压力,并且以结束紫外线的照射的步骤,所述 第一压力在0.001至10Pa的范围内。
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公开(公告)号:KR1020170038161A
公开(公告)日:2017-04-06
申请号:KR1020160123241
申请日:2016-09-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L51/56 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/683 , H01L21/687 , H01L51/00
Abstract: 기판상의유기재료막을건조처리할시, 처리용기내에혼입된수분의영향을최대한저감한다. 건조장치(100)는진공배기가능한처리용기(1)와, 처리용기(1) 내에서기판(S)을지지하는기판지지부로서의기판지지부(3)를구비하고, 건조처리동안, 처리용기(1) 내의압력이대기압으로부터 500 Pa까지는기판(S)을제 1 높이위치로유지하고, 처리용기(1) 내의압력이 3 Pa 이하에서는기판(S)을제 1 높이위치보다낮은제 2 높이위치로하강시킨다. 제 1 높이위치에기판(S)을유지한상태로감압배기를행함으로써, 처리용기(1) 내의수분을저벽(11)의배기구(11a)로부터신속하게배출할수 있다.
Abstract translation: 当基板上的有机材料膜经受干燥处理时,尽可能减少了结合到处理容器中的水分的影响。 干燥装置100包括真空排气处理容器1和作为用于支撑处理容器1内的基板S的基板支撑部的基板支撑部3, 在处理容器1内的压力为3Pa以下的情况下,基板S被保持在从大气压至500Pa的第一高度位置,基板S被降低至比第一高度位置低的第二高度位置 。 通过在将基板S保持在第一高度位置的状态下进行减压排气,能够使处理容器1内的水从底壁11的排气口11a迅速排出。
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公开(公告)号:KR1020150035430A
公开(公告)日:2015-04-06
申请号:KR1020140128270
申请日:2014-09-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L51/56 , H01L51/0003 , H01L51/0026
Abstract: 간이한설비로, 기판상의유기재료막으로부터용매를단시간에효율좋게제거한다. 건조장치(100)의시트지지부(5)는, 처리용기(1) 내에서기판(S) 상에형성된유기재료막으로부터휘발한용매를흡착하는가요성의용매흡착시트(200)를지지한다. 시트지지부(5)는, 재치대(3) 및그에지지된기판(S)에대하여, 용매흡착시트(200)를이간시킨상태로배치한다. 시트지지부(5)는, 미사용의용매흡착시트(200)를감은제 1 롤보지부(51A)와, 처리용기(1) 내의분위기에노출한용매흡착시트(200)를감는제 2 롤보지부(51B)를구비하고있다.
Abstract translation: 本发明通过简单的设备在短时间内有效地从基板上的有机材料中除去溶剂。 干燥装置(100)的片材支撑单元(5)支撑从处理容器(1)内的基板(S)上形成的有机材料膜挥发的柔性溶剂吸收片(200)。 片材支撑单元(5)将待分离的溶剂吸收片(200)从支撑的基底(S)排列。 片材支撑单元(5)包括: 围绕未使用的溶剂吸收片(200)卷绕的第一辊保持单元(51A); 以及第二辊保持单元(51B),其卷绕在暴露于处理容器(1)内部的大气的溶剂吸收片(200)的周围。
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公开(公告)号:KR1020140113398A
公开(公告)日:2014-09-24
申请号:KR1020140028389
申请日:2014-03-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L51/56 , H01L21/67098 , H01L51/0003 , H01L51/0026
Abstract: Provided is a drying apparatus capable of removing solvent from an organic material film coated on a substrate with good efficiency, in a short period of time, and while refreshing a member used for capturing the solvent. The drying apparatus (100) includes a processing receptacle (1) able to perform evacuation, a placing bed (3) for supporting a substrate (S) in the processing receptacle (1) as a supporting member, and a solvent capturing unit (5) installed to face the substrate (S) supported by the placing bed (3) for capturing volatile solvent from the organic material film. In addition, the solvent capturing unit (5) includes a temperature control device (7) which serves as a solvent release device for releasing the captured solvent. The solvent capturing unit (5) includes at least one sheet of a capturing plate (50) facing the substrate (S) placed on the placing bed (3) to be disposed in parallel to a surface of the substrate (S). The solvent capturing unit (5) has multiple through-holes (50a) formed therein.
Abstract translation: 提供一种干燥装置,其能够在短时间内以高效率的方式从涂布在基板上的有机材料膜除去溶剂,同时刷新用于捕获溶剂的部件。 干燥装置(100)包括能够进行排气的处理容器(1),用于将作为支撑部件的处理容器(1)中的基板(S)支撑的放置台(3)和溶剂捕捉部 )安装成面对由放置床(3)支撑的用于从有机材料膜捕获挥发性溶剂的基板(S)。 此外,溶剂捕获单元(5)包括用作释放捕获的溶剂的溶剂释放装置的温度控制装置(7)。 溶剂捕获单元(5)包括至少一个面对放置在放置床(3)上以与基底(S)的表面平行设置的基底(S)的捕获板(50)的片材。 溶剂捕捉单元(5)具有形成在其中的多个通孔(50a)。
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公开(公告)号:KR3003427770000S
公开(公告)日:2004-01-28
申请号:KR3020030009479
申请日:2003-04-07
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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