公开(公告)号：KR101080487B1

公开(公告)日：2011-11-04

申请号：KR1020060080830

申请日：2006-08-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신야히로시 ,  데라다쇼오이찌 ,  미즈노쯔요시 ,  와까모또유끼히로

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67178 ,  B05D1/42 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/12 ,  H01L21/67092 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207

Abstract: 본발명에있어서는, 예를들어평탄화장치의처리용기내에히터가내장된보유지지대가설치된다. 보유지지대의상방에는하면이평탄하게형성된압박판이배치된다. 압박판은상하방향으로이동가능하고, 보유지지대상에하강하여기판상의레지스트막을상방으로부터압박할수 있다. 보유지지대상의기판을히터에의해소정의온도로가열하여, 레지스트막을건조시키는동안에, 압박판에의해레지스트막의상면을단속적으로압박하여평탄화한다. 본발명에따르면기판상에도포된도포막을충분히평탄화하여건조시킬수 있다.

公开(公告)号：KR1020110097616A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：KR1020110003793

申请日：2011-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신야히로시

IPC: B05C11/10 ,  B05C5/00 ,  B05C21/00

CPC classification number: B05C5/0225 ,  B05C11/1002 ,  B05D3/10

Abstract: 본 발명의 과제는 기판 폭 방향으로 긴 슬릿 형상의 토출구를 갖는 노즐을 구비한 도포 장치에 있어서, 생산성을 저하시키지 않고, 상기 노즐의 세정을 효과적으로 행하는 것이다.
피처리 기판(G)의 폭 방향으로 긴 슬릿 형상의 토출구(10a)를 갖고, 상기 기판에 대해, 상기 토출구로부터 도포액(R)을 토출하는 노즐(10)과, 상기 노즐에 대해 상기 기판을 상대 이동시키는 상대 이동 수단(5, 6)을 구비하는 도포 장치(1)이며, 상기 토출구가 형성되는 노즐 선단부(10b)에 있어서 도포액이 흐르는 유로 내에 설치된 광촉매층(30)과, 상기 광촉매층에 광촉매 가능한 광을 조사하는 광 조사 수단(34, 35)을 구비한다.

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种包括喷嘴的涂布装置，该喷嘴包括在基板的宽度方向上较长的狭缝状喷射口，该喷嘴可以有效地被清洁而不降低生产率。 解决方案：涂覆装置1包括喷嘴10，喷嘴10具有在要处理的基板G的宽度方向上较长的狭缝形状的喷射口10a，并将涂布液体R从喷射口10a喷射到基板上 R等 以及导致基板G相对于喷嘴10移动的相对移动装置5,6还包括设置在流路中的光催化剂层30，用于涂布液在喷嘴10的前端部10b中流过， 形成喷射口10a，以及用能激发光催化剂层30的光照射光催化剂层30的光照射装置34,35。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：KR1020070078073A

公开(公告)日：2007-07-30

申请号：KR1020070007395

申请日：2007-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아오끼시게끼 ,  사까이유우이찌 ,  야마시따미쯔오 ,  신야히로시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: F26B3/20 ,  F26B9/103 ,  F26B21/001 ,  G03F7/168 ,  G03F7/40 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67098 ,  H05B1/0233

Abstract: A heat processing apparatus and method, and a computer readable storage medium are provided to perform both of a process that gives weight to high uniformity and a process that gives weight to high product yield. A heating plate(121) is adapted to heat a substrate, and a space above the heating plate is surrounded by a cover(123). A first gas flow forming mechanism forms gas flows mainly arranged to realize a uniform heat process within the space above the heating plate. A second gas flow forming mechanism forms gas flows mainly arranged to exhaust and remove gas and/or sublimed substances generated from the substrate within the space above the heating plate. The first gas flow forming mechanism and the second gas flow forming mechanism are selectively capable of being switched therebetween.

Abstract translation: 提供热处理装置和方法以及计算机可读存储介质以执行赋予高均匀性的加工和赋予产品重量高的方法。 加热板（121）适于加热基板，并且加热板上方的空间被盖（123）包围。 第一气流形成机构形成气流，其主要设置为在加热板上方的空间内实现均匀的热处理。 第二气流形成机构形成气流，其主要布置为排出并除去在加热板上方的空间内从衬底产生的气体和/或升华物质。 第一气流形成机构和第二气流形成机构选择性地能够在其间切换。

公开(公告)号：KR100386130B1

公开(公告)日：2003-08-25

申请号：KR1019970001966

申请日：1997-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야에가시히데타미 ,  도시마다카유키 ,  아키모토마사미 ,  야마구치에이지 ,  가타노준이치 ,  기타노다카유키 ,  신야히로시 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67742 ,  Y10T29/41

Abstract: A processing apparatus comprising a plurality of process unit groups (G1 to G5) each including a plurality of process units to subject an object (w) to a series of processes, said process units being arranged vertically in multiple stages, an object transfer space (22) being defined among the process unit groups (G1 to G5); transfer means (21) for transferring the object (w), said transfer means (21) having a transfer member (73, 78a, 78b, 78c) vertically movable in the object transfer space (22), said transfer member (73, 78a, 78b, 78c) being capable of transferring the object (w) to each of said process units; and means (20b, 50 to 62, 84, 95, 95a, 96, 114, 114a, 115, 115a) for reducing a variation in condition of the object transfer space (22), the processing apparatus further comprising at least one first process unit group (G1, G2) in which process units including a resist coating unit for coating a resist and a developing unit for developing a pattern of the resist are vertically stacked; and at least one second process unit group (G3, G4, G5) in which at least one or all of an alignment unit for aligning an object to be processed, a baking unit for baking the object, a cooling unit for cooling the object, an adhesion unit for subjecting the object to an adhesion process, and an extension unit are vertically stacked, wherein said first process unit group (G1, G2) has such an arrangement that the coating unit is placed below the developing unit.

Abstract translation: 1。一种处理装置，其特征在于，具有：多个处理单元组（G1〜G5），其分别具有对被处理体（w）进行一系列处理的多个处理单元，该多个处理单元以多个阶段进行垂直配置， 22）被定义在处理单元组（G1到G5）中; 用于传送物体（w）的传送装置（21），所述传送装置（21）具有可在物体传送空间（22）中垂直移动的传送构件（73,78a，78b，78c），所述传送构件（73,78a ，78b，78c）能够将物体（w）转移到每个所述处理单元; 和用于减少所述物体转移空间（22）的状态变化的装置（20b，50至62,84,95,95a，96,114,114a，115,115a），所述处理装置还包括至少一个第一处理 单元组（G1，G2），其中包括用于涂覆抗蚀剂的抗蚀剂涂布单元和用于显影抗蚀剂图案的显影单元的处理单元垂直堆叠; 以及至少一个第二处理单元组（G3，G4，G5），其中用于对准待处理对象的对准单元，用于烘烤对象的烘烤单元，用于冷却所述对象的冷却单元， 用于对物体进行粘合处理的粘合单元和延伸单元垂直地堆叠，其中所述第一处理单元组（G1，G2）具有这样的布置，即涂覆单元位于显影单元下方。