Abstract:
반도체 칩을 실장하는 리이드 프레임에서, 다이패드의 상하 양측에 연결되어 상기 다이패드를 지지하는 서로 마주보는 한쌍의 타이 바를 서로 비대칭되게 형성한 후, 몰딩 공정에서 패키지 몸체를 형성하고, 트림 공정을 진행하여 반도체 패키지를 형성하였다. 그 다음 사기 반도체 패키지를 다수개 납땜 장치에 탑재하여 외부 리이드들의 일단에 납을 도포하였다. 이때 패키지 몸체의 외부로 노출되는 타이 바의 끝부분이 인접한 반도체 패키지의 타이 바 끝부분과 서로 엇갈리게 위치하게 된다. 따라서 반도체 패키지의 일부 리이드에 납을 도포하는 납땜 공정시 납이 튀어 타이 바의 주위에 납이 불규칙하게 도포되어 외관 불량이 발생하는 것을 방지하며, 상기 튀는 납에 의해 인접한 반도체 패키지들이 접착되어 불량이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
Abstract:
A semiconductor device package and a manufacturing method thereof are provided to minimize the parasitic capacitance between a metal wire and a rewiring pattern of the semiconductor device by forming a structure having a cavity between the metal wire and the rewiring pattern of the semiconductor device. A semiconductor device has a bonding pad(112). An interlayer dielectric(118) exposes a partial surface of the bonding pad. A rewiring pattern(122) is connected to the exposed partial surface of the bonding pad. A passivation layer exposes the exposed partial surface of the bonding pad and a partial surface of the rewiring pattern. The interlayer dielectric has a cavity(116) provided on a lower portion of the rewiring pattern. The interlayer dielectric includes a first interlayer dielectric having an undercut part and a second interlayer dielectric. The second interlayer dielectric covers the first interlayer dielectric and the undercut part. The first interlayer dielectric includes a negative type photoresist material.
Abstract:
본 발명은 리드 온 칩형 리드 프레임(Lead on chip type lead frame)에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 내부리드들이 다이 본딩, 와이어 본딩 및 성형 공정 등을 거치는 동안 열과 스트레스 등을 받아 변형되는 것을 방지하기 위한 리드 프레임 구조의 개선에 관한 것이며, 이를 위하여 하여 반도체 칩의 상면을 가로질러 형성되고 서로 연결되는 적어도 한쌍의 더미리드(Dummy lead)들을 포함하는 것을 특징으로 하는 리드 온 칩형 리드 프레임 구조를 개시하고 또한 더미리드들은 전기적으로 본딩패드에 전기적으로 연결되지 않는 것을 특징으로 하는 리드 프레임 구조를 개시하며, 이러한 구조적 특징에 따라 리드 온 칩형 반도체 패키지가 제조되는 과정에서 다이 본딩, 와이어 본딩 및 성형 공정 중 내부리드가 열에 의한 응력을 받아 변형되는 것을 감소시킬 수 있으며, 결국 더미리드들을 포함하는 리드 온 칩형 리드 프레임을 이용한 반도체 패키지의 수율을 향상시킬 수 있다. 리드 온 칩(LOC), 리드 프레임(Lead frame), 더미리드(Dummy lead), 내부리드(Inner lead), 열팽창계수(CTE)
Abstract:
양면 몰딩이 가능한 반도체 모듈용 인쇄회로기판과 이를 사용한 반도체 모듈 및 그 제조방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은 몰딩 공정에서 인쇄회로기판용 기판본체에 봉지수지가 기판본체를 관통하여 상하 방향으로 흐를 수 있도록 몰드주입용 관통홀을 형성한다. 따라서 종래에는 단면 몰딩만 가능하던 공정이 양면 몰딩도 가능하게 됨으로 인하여 생산성을 향상시키고, 제조원가를 절감하고, 공정불량을 감소시킨다. 반도체 모듈, 관통홀, 양면 몰딩.
Abstract:
열방출 특성을 개선한 메모리 모듈, 메모리 모듈용 소켓 및 이를 이용한 메모리 모듈용 소켓 사용방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은 메모리 모듈에 회로연결용 탭이 있는 끝단에 공극(air gap)을 없애기 위한 갭 필라(gap filler)를 형성하거나, 메모리 모듈용 소켓의 바닥면에 공극을 없애기 위한 갭 필라(gap filler)를 형성한다. 또한 메모리 모듈을 메모리 모듈용 소켓에 삽입할 때에 열전달 특성을 갖는 구리스를 메모리 모듈의 회로연결용 탭에 코팅하고 삽입함으로써, 메모리 모듈에서 발생하는 열을 효과적으로 외부로 방출시킬 수 있다. 메모리 모듈, 메모리 모듈용 소켓, 갭 필라, 공극(air gap)
Abstract:
열방출 특성을 개선한 메모리 모듈, 메모리 모듈용 소켓 및 이를 이용한 메모리 모듈용 소켓 사용방법에 관해 개시한다. 이를 위해 본 발명은 메모리 모듈에 회로연결용 탭이 있는 끝단에 공극(air gap)을 없애기 위한 갭 필라(gap filler)를 형성하거나, 메모리 모듈용 소켓의 바닥면에 공극을 없애기 위한 갭 필라(gap filler)를 형성한다. 또한 메모리 모듈을 메모리 모듈용 소켓에 삽입할 때에 열전달 특성을 갖는 구리스를 메모리 모듈의 회로연결용 탭에 코팅하고 삽입함으로써, 메모리 모듈에서 발생하는 열을 효과적으로 외부로 방출시킬 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: A method for molding a semiconductor module and a PCB for the same are provided to improve the productivity and reduce the manufacturing cost by using a both-sided molding method. CONSTITUTION: The first semiconductor chip is loaded on the first side of a PCB. The second semiconductor chip is loaded on the second side of PCB corresponding to the first side of the PCB. The PCB is loaded into a mold apparatus including the first mold cavity(120a) for molding the first semiconductor chip and the second mold cavity(120b) for molding the second semiconductor chip. A molding resin is injected into the first and the second mold cavities through a mold injection hole(122).
Abstract:
PURPOSE: A method for molding both sides of a PCB module having a wafer level package and a mold used for the same are provided to enhance the productivity by molding simultaneously the top surface and the bottom of a PCB. CONSTITUTION: A wafer level package including a semiconductor chip having a bumper is prepared. A PCB module is formed by mounting wafer level packages having bumpers on the top surface and the bottom surface of a PCB(107). The PCB module is loaded between an upper mold including an upper cavity and an upper gate and a lower mold including a lower cavity and a lower gate. Epoxy molding compound(129) is implanted into the upper cavity and the lower cavity through an implantation part adjacent to the upper gate and the lower gate. The PCB module is separated from the upper mold, the lower mold, and the implantation part. The residual epoxy molding compound is removed from the implantation part.
Abstract:
본 발명은 성형 수지가 통과할 수 있도록 회로 기판을 관통하는 게이트 홀이 형성되어 있는 양면 실장형 회로 기판과 이를 이용한 멀티 칩 패키지에 관한 것이다. 본 발명에 따른 멀티 칩 패키지는 서로 마주보는 제1 면과 제2 면을 갖는 회로 기판을 포함한다. 제1 면은 패키지 영역과 주변부를 포함하고, 패키지 영역은 반도체 칩이 부착되는 칩 실장부와 반도체 칩과 전기적으로 연결되는 본딩부를 포함하고, 주변부는 성형 수지가 지나가는 런너부(runner area)를 포함하며, 패키지 영역과 주변부의 경계 영역에는 런너부와 연결되어 있는 게이트 홀이 형성되어 있고, 제2 면은 패키지 영역과 주변부를 포함하고, 패키지 영역은 반도체 칩이 부착되는 칩 실장부와 반도체 칩과 전기적으로 연결되는 본딩부를 포함하고, 주변부는 반도체 칩들을 외부와 전기적으로 연결하는 외부 접속 패턴을 포함하며, 제1 면에 형성된 게이트 홀과 대응되는 위치에 게이트 홀이 형성되어 있고, 제1 면과 제2 면에 형성된 게이트 홀은 회로 기판을 관통하여 제1 면에서 제2 면까지 하나의 관통 구멍으로 형성되어 있다.
Abstract:
PURPOSE: An IC(Integrated Circuit) having a chip pas formed on a cell region, a method for fabricating the same, and a multi-chip package are provided to reduce a chip size by shortening width of a peripheral region according to immigration of a chip pad. CONSTITUTION: A semiconductor substrate(11) has a peripheral region(Aperi) formed between cell regions(Acell1,Acell2). A chip pad wiring pattern(12) is formed on the semiconductor substrate(11). One end portion of the chip pad wiring pattern(12) is located at the peripheral region(Aperi) formed between cell regions(Acell1,Acell2). The chip pad wiring pattern(12) is formed with a conductive material such as aluminium. A final protection layer(16) is formed on the semiconductor substrate(11) in order to cover the chip pad wiring pattern(12). An interlayer dielectric(13) is formed on the final protection layer(16). A rewiring chip pad(15) is formed on the interlayer dielectric(13). A final insulating layer(18) is formed on the rewiring chip pad(15).