스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 및 그제조방법
    21.
    发明授权
    스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 및 그제조방법 失效
    磁存储器件采用自旋分裂感应电压差

    公开(公告)号:KR100704544B1

    公开(公告)日:2007-04-09

    申请号:KR1020050041684

    申请日:2005-05-18

    Abstract: 본 발명은 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 특히 화합물 반도체 2차원 전자우물층과 강자성체로 구성되고, 자화방향에 따른 전위차를 이용한 비 휘발성 스핀 메모리 소자에 관한 것이다.
    본 발명의 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자는 2차원 전자우물층에서 스핀분극을 이용하여 강자성체와의 접합을 통해 평행 또는 반평행에서 나타나는 전위차를 이용하는 것을 특징으로 한다.
    본 발명의 스핀분극에 의한 전위차를 이용한 자기 메모리 소자 제조방법은 화합물 반도체 기판 상에 2차원 전자우물층을 포함한 웨이퍼를 성장시키는 제1단계; 상기 결과물에 리쏘그래피(lithography) 공정과 이온밀링(ion-milling)을 이용하여 워드라인을 정의하는 2단계; 상기 결과물 상에서 상기 워드라인이 증착되지 않은 부분에 산화막을 증착하는 제3단계; 전자빔 리소그래피와 스퍼터를 이용하여 상기 워드라인 상에 강자성체를 증착하는 제4단계; 및 상기 결과물을 패터닝하여 Al이나 Au을 증착하고, 비트라인을 형성하는 제5단계;을 포함한다.
    스핀분극 메모리 소자, 2차원 전자우물층, 전위차

    PEMBE로 제조된 상온 자성반도체 및 그 소자
    22.
    发明公开
    PEMBE로 제조된 상온 자성반도체 및 그 소자 失效
    使用PEMBE方法和使用该方法的电子设备制造的室温操作的FERROMAGNETIC SEMICONDUCTOR

    公开(公告)号:KR1020040021459A

    公开(公告)日:2004-03-10

    申请号:KR1020020053306

    申请日:2002-09-04

    Abstract: PURPOSE: A room temperature operating ferromagnetic semiconductor fabricated by a PEMBE(Plasma-enhanced Molecular Beam Epitaxy) method and an electronic device using the same are provided to apply the magnetic semiconductor to a spin electron device by obtaining a characteristic of the magnetic semiconductor in the room temperature. CONSTITUTION: A room temperature operating ferromagnetic semiconductor fabricated by a PEMBE method includes a compound semiconductor of the third to the fifth group. The compound semiconductor is formed with one element A selected from Ga, Al, and In and one element B selected from N and P. The element A of the compound semiconductor is replaced by one element C selected from Mn, Mg, Co, Fe, Ni, Cr, and V. The Curie temperature of the room temperature operating magnetic semiconductor is more than the room temperature.

    Abstract translation: 目的:提供通过PEMBE(等离子体增强分子束外延)方法制造的室温操作铁磁半导体和使用其的电子器件,以通过获得磁性半导体的特性,将磁性半导体施加到自旋电子器件 室内温度。 构成:通过PEMBE法制造的室温操作铁磁半导体包括第三至第五组的化合物半导体。 化合物半导体由选自Ga,Al和In的一种元素A和选自N和P的一种元素B形成。化合物半导体的元素A被选自Mn,Mg,Co,Fe, Ni,Cr和V.室温操作磁性半导体的居里温度大于室温。

    철계연자성박막합금및그의제조방법
    24.
    发明公开
    철계연자성박막합금및그의제조방법 失效
    铁基磁性薄膜合金及其制造方法

    公开(公告)号:KR1019990080976A

    公开(公告)日:1999-11-15

    申请号:KR1019980014602

    申请日:1998-04-23

    Abstract: 본 발명은 수십 MHz 이상의 고주파 영역에서 높은 포화자속밀도와 우수한 연자기 특성을 가지며 추가적인 열처리 공정 등을 거치지 않는 새로운 Fe-Hf-CN계 및 Fe-Hf-N계 재료 및 상기 재료의 제조방법을 제공하기 위해, 철계 연자성 박막의 증착 중에 형성되는 비정질화를 막고 조직을 결정화하기 위하여 입자의 에너지를 증가시킨다. 본 발명의 철계 연자성 박막합금의 조성은 다음과 같고 미세구조는 초미세결정립으로 이루어져 있으며 그 조성은 다음과 같다: Fe
    x Hf
    y C
    z N
    v ; 이때, x, y, z, v는 각각 원자 %로서, 68 ≤ x ≤ 85; 4 ≤ y ≤ 10; 0 ≤ z ≤ 12; 3 ≤ v≤ 20; 15 ≤ y + z + v ≤ 32; (단, x + y + z + v = 100). 또한, 순철, Fe-Hf계 합금, Fe-Hf-C계 합금 등에 Hf, Hf의 질화물 및 탄화물 그리고 C의 소편을 배치하여 불활성 가스 분위기나 C나 N을 함유하고 있는 분위기 하에서 나노(nano) 크기의 초미세 결정립 조직을 얻기 위해 냉각속도의 조절 또는 입자에너지를 조절하는 증착조건으로 전력의 양이 4~8W/㎠, N
    2 분량은 2~20%이며 ([C]+[N])/[Hf]의 성분비를 1.5~2.5로 유지함으로써, 열처리 공정 없이 증착 상태에서 초미세 결정립 구조를 갖는 철계 연자성 박막합금의 제조방법을 제공한다.

    자기변형합금박막실리콘마이크로캔티레버
    25.
    发明公开
    자기변형합금박막실리콘마이크로캔티레버 失效
    磁性应变合金薄膜硅微悬臂梁

    公开(公告)号:KR1019990066594A

    公开(公告)日:1999-08-16

    申请号:KR1019980002647

    申请日:1998-01-31

    Abstract: 두께가 약 1 내지 20μm인 실리콘 마이크로 구조물에 다음의 조성식,
    Sm
    x Fe
    y
    [이때, x,y는 원자%로서, 23≤x≤58, 42≤y≤77 (단, x+y=100)]
    또는,
    Sm
    x Fe
    y B
    z
    [이때, x,y,z는 원자%로서, 23≤x≤58, 42≤y≤77, 및 0.4≤z≤0.7 (단, x+y+z=100)]
    으로 이루어진 거대 자기변형 합금 박막이 코팅되어 있는 자기변형 합금 박막 실리콘 마이크로 캔티레버에 대한 것으로서, 본 발명의 캔티레버는 낮은 자기장에서도 큰 변위를 갖는다.

    자기헤드용 철계 연자성 박막합금 및 그 제조방법
    26.
    发明授权
    자기헤드용 철계 연자성 박막합금 및 그 제조방법 失效
    一种磁头用铁基软磁薄膜合金及其制造方法

    公开(公告)号:KR1019960004664B1

    公开(公告)日:1996-04-11

    申请号:KR1019930017669

    申请日:1993-09-03

    Abstract: The soft magnetic thin film alloy for magnetic head comprises FexHfyCzNvOw, where x is 71-86; y is 5.5-10.5; z is 1-13; v is 1-13; w is 0-3; z+v+w are 7.5-18.5; x+y+z+v+w = 100. The alloy has high satd. magnetic flux density, high magnetic permeability, and high thermal durability in MHz band.

    Abstract translation: 用于磁头的软磁薄膜合金包括FexHfyCzNvOw,其中x为71-86; y为5.5-10.5; z为1-13; v为1-13; w为0-3; z + v + w为7.5〜18.5; x + y + z + v + w =​​ 100。 磁通密度,高磁导率和高频耐久性。

    스핀을 이용한 상보성 소자 및 그 구현 방법
    29.
    发明授权
    스핀을 이용한 상보성 소자 및 그 구현 방법 有权
    补充旋转装置和操作方法

    公开(公告)号:KR101435549B1

    公开(公告)日:2014-09-02

    申请号:KR1020130027349

    申请日:2013-03-14

    CPC classification number: H01L29/0673 H01L29/41725 H01L29/4238 H01L29/66984

    Abstract: Provided is a complementary device which includes a gate electrode, a channel, a source electrode which is connected to the gate electrode and the channel, and a first drain electrode and a second drain electrode which are connected to the gate electrode and the channel. In the first drain electrode, a spin which is injected into the source electrode rotates and moves in a first direction from the source electrode to the first drain electrode through the channel by applying the voltage to the gate electrode. In the second drain electrode, the spin which is injected into the source electrode rotates and moves in a second direction from the source electrode to the second drain electrode through the channel by applying the voltage to the gate electrode. The direction of the spin reaching the first drain electrode is opposite to the direction of the spin reaching the second drain electrode.

    Abstract translation: 提供了一种互补装置,其包括栅电极,沟道,连接到栅电极和沟道的源极,以及连接到栅电极和沟道的第一漏电极和第二漏电极。 在第一漏电极中,通过向栅电极施加电压,注入到源电极的自旋通过沟道从第一方向从源电极向第一漏电极移动。 在第二漏电极中,通过向栅电极施加电压,注入到源电极中的自旋通过沟道沿着第二方向从源电极向第二漏电极移动。 到达第一漏电极的自旋方向与到达第二漏电极的自旋方向相反。

    스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자
    30.
    发明授权
    스핀토크를 이용한 측면형 스핀 소자 有权
    使用自旋扭矩的横向旋转装置

    公开(公告)号:KR101417956B1

    公开(公告)日:2014-08-14

    申请号:KR1020120140275

    申请日:2012-12-05

    Abstract: 본 발명은 측면형 스핀 소자에 관한 것으로, 상기 측면형 스핀 소자는 기판상에 형성되는 전송채널; 상기 전송채널 상에 형성되는 소스; 및 상기 전송채널 상에 형성되는 드레인 자유층, 드레인 중간층, 및 드레인 고정층으로 이루어지며, 상기 소스로부터 주입되고 상기 전송채널에 의해 확산된 스핀전자에 의해 상기 드레인 고정층에 대한 상기 드레인 자유층의 자기 방향이 변경되는 드레인을 포함할 수 있다.

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