公开(公告)号：KR1020130006355A

公开(公告)日：2013-01-16

申请号：KR1020120073645

申请日：2012-07-06

Applicant: 캐논 가부시끼가이샤

Inventor： 이시까와도모노리 ,  고레나가노부시게

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: H01J37/20 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/09 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/20221 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/2004

Abstract: PURPOSE: A charged particle beam drawing apparatus and an article manufacturing method are provided to suppress an external magnetic field of an electron beam by including a magnetic shielding member which shields a magnetic field inputted to the inside of an electronic optical system housing through an opening. CONSTITUTION: A driving device(11) is fixed to a stage support member(4). A substrate stage body(6a) appropriately moves with the driving of the driving device. An optical system housing(3) emits charged particle beams to the substrate. A magnetic field shielding member(12) shields magnetic field inputted to the electronic optical system housing through an opening(9). A detector(13) measures a location of an X-Y direction of the substrate stage body.

Abstract translation: 目的：提供带电粒子束描绘装置和物品制造方法，通过包括屏蔽通过开口的电子光学系统壳体内部的磁场的磁屏蔽构件来抑制电子束的外部磁场。 构成：驱动装置（11）固定在台架支承件（4）上。 衬底台体（6a）随着驱动装置的驱动而适当地移动。 光学系统壳体（3）向基板发射带电粒子束。 磁场屏蔽构件（12）通过开口（9）屏蔽输入到电子光学系统外壳的磁场。 检测器（13）测量衬底载物台的X-Y方向的位置。

公开(公告)号：EP2797099B1

公开(公告)日：2017-09-27

申请号：EP14165693.4

申请日：2014-04-23

Applicant: Hitachi, Ltd.

Inventor： Sugawara, Akira ,  Shimakura, Tomokazu ,  Takahashi, Yoshio

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/20

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/09 ,  H01J37/266 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/2008

公开(公告)号：EP2797099A3

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：EP14165693.4

申请日：2014-04-23

Applicant: Hitachi, Ltd.

Inventor： Sugawara, Akira ,  Shimakura, Tomokazu ,  Takahashi, Yoshio

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/20

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/09 ,  H01J37/266 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/2008

Abstract: The disclosed invention provides a sample holder capable of reducing or preventing the influence of a charged particle beam 11 deflected by applying a magnetic field to a sample 201 and provided with means for simply switching between a mode of observing the sample while applying a magnetic field to the sample, and a mode free of a magnetic field in which a magnetic field becomes zero completely. The sample holder includes a magnetic field generating element 301 including three or more magnetic gaps 351-353 for applying a magnetic field to a sample, a cantilever-beam-shaped sample holding element 202 that holds the sample 201 on one end thereof, and a moving mechanism that adjusts a relative position between a sample and a magnetic gap. The magnetic gaps 351-353 can be placed along an optical axis of the charged particle beam 11.

公开(公告)号：EP2253007B1

公开(公告)日：2013-05-15

申请号：EP09720887.0

申请日：2009-03-05

Applicant: Bruker Nano GmbH

Inventor： BAUMANN, Thomas

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/2442 ,  H01J2237/2561 ,  H01J2237/2807

公开(公告)号：EP2253007A1

公开(公告)日：2010-11-24

申请号：EP09720887.0

申请日：2009-03-05

Applicant: BRUCKER NANO GMBH

Inventor： BAUMANN, Thomas

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/244 ,  H01J37/256 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/028 ,  H01J2237/2442 ,  H01J2237/2561 ,  H01J2237/2807

Abstract: The invention relates to a low stray field magnetic trap (30) for capturing electrons for an X-ray detector (24), and an X-ray detector (24) comprising the magnetic trap (30), in particular of the EDX type. The magnetic trap (30) according to the invention comprises: (a) a ring element (32) made of a soft-magnetic material with an inner and an outer periphery and (b) a plurality N of magnetic elements (34) comprising a permanent magnetic material, said magnetic elements disposed at the inner periphery of the ring element (32), the magnetic direction of orientation of said magnetic elements being selected such that a magnetic field exists in the center of the magnetic trap (30), wherein the plurality N of magnetic elements (34) numbers at least three and is preferred to be selected according to 2n + 2 with n being a natural number. The magnetic trap (30) according to the invention is characterized by an especially low magnetic stray field and has a very homogeneous and especially strong magnetic field.

公开(公告)号：EP0821392B1

公开(公告)日：2004-09-29

申请号：EP96112018.5

申请日：1996-07-25

Applicant: Advantest Corporation

Inventor： Schmitt, Reinhold ,  Lanio, Stefan, Dr. ,  Jasinski, Thomas

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/147 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0264

公开(公告)号：WO2013171229A1

公开(公告)日：2013-11-21

申请号：PCT/EP2013/059963

申请日：2013-05-14

Applicant: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.

Inventor： VAN VEEN, Alexander Hendrik Vincent ,  URBANUS, Willem Henk

IPC: H01J37/30 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/09 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/147 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/302 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/0262 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/16 ,  H01J2237/182 ,  H01J2237/188

Abstract: The invention relates to a charged particle lithography system for exposing a target. The system includes a charged particle beam generator for generating a charged particle beam; an aperture array (6) for forming a plurality of beamlets from the charged particle beam; and a beamlet projector (12) for projecting the beamlets onto a surface of the target. The charged particle beam generator includes a charged particle source (3) for generating a diverging charged particle beam; a collimator system (5a,5b,5c,5d; 72;300) for refracting the diverging charged particle beam; and a cooling arrangement (203) for removing heat from the collimator system, the cooling arrangement comprising a body surrounding at least a portion of the collimator system.

Abstract translation: 本发明涉及用于曝光目标物的带电粒子光刻系统。 该系统包括用于产生带电粒子束的带电粒子束发生器; 用于从带电粒子束形成多个子束的孔径阵列（6） 以及用于将子束投影到目标表面上的小射束投影仪（12）。 带电粒子束发生器包括用于产生发散带电粒子束的带电粒子源（3） 用于折射发散带电粒子束的准直器系统（5a，5b，5c，5d; 72; 300） 以及用于从准直器系统去除热的冷却装置（203），所述冷却装置包括围绕准直器系统的至少一部分的主体。

公开(公告)号：WO2013171117A1

公开(公告)日：2013-11-21

申请号：PCT/EP2013/059604

申请日：2013-05-08

Applicant: MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.

Inventor： VAN DE PEUT, Teunis ,  DEN BOER, Hendrik

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/04

CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/045 ,  H01J37/243 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/2485 ,  H01J2237/31754 ,  H01J2237/31774

Abstract: The invention relates to a modulation device for modulating charged particle beamlets in accordance with pattern data in a multi-beamlet charged particle lithography system. The device comprises a plate-like body, an array of beamlet deflectors, a plurality of power supply terminals (202-205) for supplying at least two different voltages, a plurality of control circuits, and a conductive slab (201) for supplying electrical power to one or more of the power supply terminals (202-205). The plate-like body is divided into an elongated beam area (51) and an elongated non-beam area (52) positioned with their long edges adjacent to each other. The beamlet deflectors are located in the beam area. The control circuits are located in non-beam area. The conductive slab is connected to the control circuits in the non-beam area. The conductive slab comprises a plurality of thin conductive plates (202-205).

Abstract translation: 本发明涉及一种用于根据多子束带电粒子光刻系统中的图案数据调制带电粒子子束的调制装置。 该装置包括板状主体，​​子束偏转器阵列，用于提供至少两个不同电压的多个电源端子（202-205），多个控制电路和用于提供电气的导电板（201） 一个或多个电源端子（202-205）的电力。 板状体被分成细长的射束区域（51）和长边相邻的细长非光束区域（52）。 子束偏转器位于光束区域中。 控制电路位于非光束区域。 导电板连接到非射束区域中的控制电路。 导电板包括多个薄导电板（202-205）。

公开(公告)号：WO2012117998A1

公开(公告)日：2012-09-07

申请号：PCT/JP2012/054728

申请日：2012-02-27

Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ ,  田中 秀樹 ,  和久田 毅

Inventor： 田中　秀樹 ,  和久田　毅

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/16

CPC classification number: H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/14 ,  H01J37/16 ,  H01J2237/0264

Abstract: 　試料室空間に突き出た対物レンズを有する構造であっても、磁気シールド機能を高めることが可能な電子顕微鏡を提供する。　電子線を収束させて試料４に照射する対物レンズ６と、試料４を収納する試料室を形成する試料室容器５と、試料室容器５の内部に設けられた試料室磁気シールド７と、対物レンズ６の周囲を囲む筒形の対物レンズ磁気シールド８とを備える。試料室容器５の上部壁となる上板１０と試料室磁気シールド７の上部シールド９には、電子線の進行方向で対向する第１、第２の穴が設けられる。対物レンズ６は、上板１０に設けられた第１の穴の内側で保持される。対物レンズ６の下端は、上板１０の下端よりも低い位置に、かつ上部シールド９に設けられた第２の穴の位置またはこの位置に接近した位置に配置される。対物レンズ磁気シールド８は、第１の穴の内側に位置して、その下端が上部シールド９と接続される。

Abstract translation: 提供一种能够增加磁屏蔽功能的电子显微镜，即使其结构具有投影到样本室空间中的物镜。 电子显微镜设有：用于聚焦电子束并照射样品（4）的物镜（6）; 用于形成容纳所述试样（4）的试样室的试样室容器（5）; 设置在所述样本室容器（5）内部的试样室磁屏蔽（7）; 以及用于围绕物镜（6）的周边的管状物镜磁屏蔽（8）。 在形成电子束行进方向的第一孔和第二孔设置在形成试样室容器（5）的上壁的上板（10）中，并且在上板 试样室磁屏蔽（7）。 物镜（6）被保持在设置在上板（10）中的第一孔的内侧。 物镜（6）的下端位于比上板（10）的下端更低的位置处，并且位于设置在上屏蔽件（9）中的第二孔的位置处，或位于靠近 这个位置。 物镜磁屏蔽（8）位于第一孔内，其下端与上罩（9）连接。

公开(公告)号：WO2011034020A1

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：PCT/JP2010/065720

申请日：2010-09-13

Applicant: 国立大学法人浜松医科大学 ,  村中 祥悟

Inventor： 村中　祥悟

IPC: H01J37/16 ,  H01J37/09 ,  H01J37/20

CPC classification number: H01J37/26 ,  H01J37/09 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/0264 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/20264 ,  H01J2237/28

Abstract: 本発明の電子顕微鏡は、内部の真空度を維持すると共に浮遊磁場を遮蔽する筐体内において、パルス信号によって制御される圧電アクチュエータ（５１，６１）を駆動対象物（４３）の位置調整に用いることを特徴とする。 これにより、圧電アクチュエータを筐体内に配置しても像障害の発生を抑制することができるようになり、更に、駆動に金属ロッドを使用した場合のような複雑な構造を回避することもできるようになった。

Abstract translation: 本发明提供一种电子显微镜，其特征在于，在保持真空度且杂散磁场为2的壳体中，使用由脉冲信号控制的压电致动器（51,61）来调节待驱动物体（43）的位置 受阻。 通过这样的结构，即使在压电致动器配置在壳体内的情况下也能够抑制图像干扰的产生，并且可以避免使用金属棒来驱动物体等复杂的结构。