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公开(公告)号：CN103946417A
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：CN201280019492.8
申请日：2012-10-23
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/56 , C23C14/0042 , C23C14/0047 , C23C14/0089 , C23C14/0652 , C23C14/10 , C23C14/352 , C23C14/562 , H01J37/321 , H01J37/3244 , H01J37/32752 , H01J37/3405 , H01J37/3411 , H01J37/3417 , H01J37/3429 , H01J37/3476
Abstract: 本发明提供薄膜形成装置、溅射阴极以及薄膜形成方法，所述薄膜形成装置、溅射阴极及薄膜形成方法能够在大型基板上以高成膜速率形成光学多层膜。一种薄膜形成装置1，其中，在真空槽21内，利用溅射在基板43上形成金属化合物的薄膜。真空槽21内具备由金属或具有导电性的金属化合物构成的靶材63a、b和活性种源，所述活性种源按照在电磁性及压力方面与靶材63a、b相互影响的方式而设置、并且可生成反应性气体的活性种。活性种源具备供给反应性气体的气体源76、77和将能量供给至真空槽内从而将反应性气体激发为等离子体状态的能量源80。能量源80在与真空槽21之间具备用于将能量供给至真空槽21内的电介质窗，该电介质窗按照与基板43平行、或以相对于基板43呈小于90°的角度向靶材63a、b侧倾斜的方式配置。
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公开(公告)号：CN103154299A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201280003216.2
申请日：2012-09-26
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/58 , C23C14/0031 , C23C14/022 , C23C14/24 , C23C14/541 , C23C14/546
Abstract: 本发明提供一种能够高效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。其是基板支架12可旋转地配设在真空容器10内的成膜装置1，所述基板支架12具有用于保持2个以上基板的基体保持面，成膜装置1的构成为具有蒸镀源34和离子源38，其中，所述蒸镀源34按照如下构成配置在真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够对所述基体保持面的部分区域即第1区域(A3)供给比该第1区域以外的其他区域(残余区域)更多量的成膜材料；所述离子源38按照如下构成、配置和/或朝向设置在所述真空容器10内：使其向旋转停止时的基板支架12工作的情况下，能够仅向着该基体保持面的部分区域即第2区域(A2)照射能量粒子。
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公开(公告)号：CN102892918A
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：CN201180024261.1
申请日：2011-06-13
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/545 , C23C14/3464 , C23C14/3492 , C23C14/505 , C23C14/547 , G02B5/28
Abstract: 本发明的课题在于提供一种薄膜形成方法，其能够省去测试成膜所导致的成膜浪费，能够提高成膜效率。所述薄膜形成方法为：溅射靶材(29a、29b)，在保持于旋转筒(13)且旋转的基板(S)和监视基板(S0)上以目标膜厚T1形成作为第1薄膜的A膜后，再溅射用于A膜的形成的靶材(29a、29b)，用于以目标膜厚T3形成作为与A膜相同组成的其它薄膜的第2薄膜即C膜，所述薄膜形成方法具有膜厚监视工序S4、S5、停止工序S7、实际时间取得工序S8、实际速度计算工序S9和必要时间计算工序S24。
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公开(公告)号：CN102076880B
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN200980124622.2
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/0031 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B5/285
Abstract: 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，真空容器(10)具备与真空容器(10)电气悬浮的内壁(30)，中和器(40)配设在真空容器(10)的内侧侧面侧并离开离子枪(38)。
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公开(公告)号：CN102472611A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080029355.3
申请日：2010-06-29
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: G01B11/06 , C23C14/34 , C23C14/547 , G01B11/0625
Abstract: 本发明提供能够高精度地计测光学膜厚和分光特性的光学式膜厚计以及具有光学式膜厚计的薄膜形成装置。光学式膜厚计由投光器(11)、反射镜(17)、受光器(19)和分光器(20)构成，具有反射镜(17)，该反射镜(17)相对于测定光的入射方向位于实际基板(S)的相反侧，且反射面被配置成与测定光的光轴大致垂直。另外，实际基板(S)被配置成相对于测定光的光轴具有规定的倾斜角度(α)。测定光(出射光和反射光)2次透过实际基板(S)，能够增大透过率(光量)的变化量，能够提高膜厚测定的控制精度。另外，能够防止因透过位置的不同而产生测定误差，另外，在受光器(19)侧不会检测到未通过规定路径而2次透过测定基板的测定光，所以能够高精度地计测光学膜厚和分光特性。
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公开(公告)号：CN102066602A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200980122366.3
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/34 , C23C14/50 , H01L21/285
CPC classification number: C23C14/505 , C23C14/345 , H01J37/32706 , H01J37/32733 , H01J37/34
Abstract: 本发明提供一种能减少附着在成膜面上的异物的发生率、具有自转公转机构的偏压溅射装置。在具备具有自转公转机构的基板支架(12)的偏压溅射装置(1)中，基板支架(12)由公转部件(21)和自转部件(23)构成，在安装于自转部件(23)上的各个基板(14)的背面侧，与基板(14)隔开0.5～10mm的位置处，设置有与基板(14)同等尺寸的圆板状基板电极(30)。
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公开(公告)号：CN100543174C
公开(公告)日：2009-09-23
申请号：CN200580026467.2
申请日：2005-08-05
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/34 , C23C14/564
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成装置，具有：等离子发生单元，其设在真空槽的与开口对应的位置，并在真空槽内产生等离子；在真空槽内保持基体并以旋转轴线为中心旋转驱动的基体保持单元；和离子消灭单元，其设在等离子发生单元和基体保持单元之间，并使由等离子发生单元产生的离子消灭，离子消灭单元由以排列多个与基体保持单元的旋转轴线平行的方向的筋的方式配置的纵栅和以排列多个与基体保持单元的旋转方向平行的方向的筋的方式配置的横栅构成，离子消灭单元在从等离子发生单元面向基体保持单元的方向上相对于等离子发生单元遮蔽基体保持单元的面积，小于等离子发生单元在从等离子发生单元面向基体保持单元的方向上的剩余面积。
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公开(公告)号：CN202968675U
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201220694172.X
申请日：2012-12-14
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/24
Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置，即使在使用防污性、疏油性、疏水性的成膜材料等的情况下，也能够降低施加于对真空容器内进行排气的泵的负载。本实用新型涉及在真空容器内使蒸镀物质蒸镀至基板的真空蒸镀装置（1）。真空蒸镀装置（1）构成为具备：拱顶型的基板保持构件（12），其用于保持多个基板（14）；旋转构件，其用于使基板保持构件(12)旋转；蒸镀构件(34)；排气构件，其用于将真空容器(10)内的气体分子排出；以及排气口(G1)，其由设于真空容器(10)的侧壁的开口构成，并能够供由排气构件排出到真空容器(10)外的气体分子通过，基板保持构件(12)的下端部配置在比排气口(G1)的上端部(G1a)靠下方的位置。
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公开(公告)号：CN205062167U
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201520843493.5
申请日：2015-10-28
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/34
CPC classification number: C23C14/34
Abstract: 本实用新型提供成膜装置。成膜装置具有：具有排气系统的真空容器；成膜区域，其形成于真空容器内；反应区域，其形成于真空容器内，并与成膜区域在空间上分离；阴极电极，其搭载靶材；溅射电源，其使面对靶材的被溅射面的成膜区域内产生溅射放电；等离子体产生单元，其使反应区域内产生通过在成膜区域内发生的溅射放电而形成的溅射等离子体之外的其他等离子体；将多个基板保持在外周面上的基板保持器；和使基板保持器旋转的驱动单元，借助驱动单元使基板保持器旋转，使基板在成膜区域内的规定的位置与反应区域内的规定的位置之间反复移动，成膜装置还具备：基板电极，其从背面搭载由基板保持器保持的基板；和偏置电源，其向基板电极供给电力。
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公开(公告)号：CN202968678U
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201220694165.X
申请日：2012-12-14
Applicant: 株式会社新柯隆
Abstract: 本实用新型提供一种真空蒸镀装置，其能够维持离子源的效率且不会使装置大型化，并且能够提高维护性。在具备照射离子或等离子体等能量粒子的能量粒子源的真空蒸镀装置中，提供能量粒子源的维护性高的真空蒸镀装置。真空蒸镀装置构成为具备：拱顶型的基板保持构件（12），其配设于真空容器（10）内，用于保持多个基板（14）；旋转构件，其用于使基板保持构件（12）旋转；蒸镀构件（34），其以与基板（14）对置的方式设置；以及能量粒子源（38），其用于对基板（14）照射能量粒子。能量粒子源（38）在能量粒子诱导部朝向基板方向的状态下，安装于在真空容器（10）配设的门（10a）的内壁面。
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