公开(公告)号：KR100366602B1

公开(公告)日：2003-05-01

申请号：KR1019970041992

申请日：1997-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  아나이노리유키

IPC: H01L21/02

CPC classification number: B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D3/104 ,  G03F7/16 ,  G03F7/161

Abstract: A coating apparatus has a spin chuck for attracting and holding a semiconductor wafer in a horizontal state by means of vacuum. A movable beam is arranged above the spin chuck. The movable beam includes first and second nozzles integrally formed. The first nozzle is used for supplying a photo-resist liquid while the second nozzle is used for supplying a solvent for the photo-resist liquid. When a coating process is performed, the movable beam above the wafer is horizontally moved in one direction. The solvent is first supplied onto the wafer from the second nozzle, and the coating or photo-resist liquid is then supplied from the first nozzle, following the solvent. Wettability of the wafer relative to the photo-resist is increased by the solvent, prior to supply of the photo-resist liquid.

Abstract translation: 涂布设备具有旋转卡盘，用于通过真空吸引并保持水平状态的半导体晶片。 旋转卡盘上方设有可移动的横梁。 可移动梁包括整体形成的第一和第二喷嘴。 第一喷嘴用于供应光刻胶液体，而第二喷嘴用于供应光刻胶液体的溶剂。 当执行涂覆工艺时，晶片上方的可移动梁在一个方向上水平移动。 首先将溶剂从第二喷嘴供应到晶片上，然后从溶剂后的第一喷嘴供应涂层或光刻胶液体。 在提供光致抗蚀剂液体之前，通过溶剂增加晶片相对于光致抗蚀剂的润湿性。

公开(公告)号：KR1020020091776A

公开(公告)日：2002-12-06

申请号：KR1020020025467

申请日：2002-05-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G02F1/13 ,  B65G13/04 ,  B65G39/14 ,  B65G49/06 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/677 ,  Y10S414/14

Abstract: PURPOSE: A conveyor is provided to prevent slip between both sides of a substrate and a conveyor roller with a pressure roller, and to dry securely by restricting remaining processing fluid around the center of the substrate. CONSTITUTION: When conveying a substrate(G) by a conveyer, the substrate on a conveying roller(43) is conveyed while pressing both terminals with a pressure roller(36). Further, a supporting roller(37) having a diameter larger than the diameter of a placing part(43a) of the conveying roller is provided, and the substrate is conveyed while being projected upward so that the substrate is prevented from being warped.

Abstract translation: 目的：提供输送机以防止基板两侧和带有压力辊的输送辊之间滑动，并通过围绕基板中心限制剩余的处理流体来确保干燥。 构成：当通过输送机输送基板（G）时，输送辊（43）上的基板被输送，同时用加压辊（36）按压两个端子。 此外，提供了直径大于输送辊的放置部分（43a）的直径的支撑辊（37），并且基板被向上突出地被输送，从而防止了基板翘曲。

公开(公告)号：KR1020010092699A

公开(公告)日：2001-10-26

申请号：KR1020010014353

申请日：2001-03-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다기미오

IPC: H01L21/304

Abstract: PURPOSE: To provide a processing device used for processing a resist film formed on a substrate such as a liquid crystal display(LCD) glass substrate or a semiconductor wafer and its use. CONSTITUTION: A device 23A which processes a substrate G coated with a resist film has such a structure that it is capable of vacuum-drying the substrate G and removing off the resist film formed on the peripheral edge of the substrate G held at a prescribed position.

Abstract translation: 目的：提供用于处理形成在液晶显示器（LCD）玻璃基板或半导体晶片等基板上的抗蚀剂膜的处理装置及其用途。 构成：对涂布有抗蚀剂膜的基板G进行处理的装置23A具有能够对基板G进行真空干燥并除去形成在保持在规定位置的基板G的周缘的抗蚀剂膜的结构 。

公开(公告)号：KR100274756B1

公开(公告)日：2000-12-15

申请号：KR1019950024425

申请日：1995-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  세키구치겐지 ,  오모리츠타에

IPC: H01L21/312 ,  H01L21/027 ,  G03F7/06

CPC classification number: B05D1/005 ,  G03F7/162

Abstract: 처리용기 내에 수용된 기판을, 처리용기와 함께 회전 시키면서, 상기 기판의 면위에 도포액을 공급하여 도포막을 형성하는 도포막 형성 방법은, 기판의 면위에 용제를 도포하는 공정과, 기판에 도포액을 공급하는 공정과, 기판 및 처리용기를 제 1의 회전수로 회전시켜서, 도포액을 기판의 면위에서 확산시키는 공정과, 처리용기를 뚜껑체로 폐쇄하고, 기판을 처리용기내에 봉입하는 공정과, 뚜껑체가 구비된 처리용기 및 기판을 제 2의 회전수로 회전시켜서, 도포막의 막두께를 조정하는 공정을 가진다.

公开(公告)号：KR1019980019187A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970043253

申请日：1997-08-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와사키데쓰 ,  모토다기미오

IPC: H01L21/027

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
반도체웨이퍼와 같은 기판상에, 레지스트용액이나 현상액 등의 처리용액의 막을 형성하기 위한 기판처리방법 및 기판처리장치에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
대개위치에서 조정된 노즐의 토출구에 존재하는 처리용액의 상태를 노즐이 대기위치로 부터 사용위치로 이행할 때까지의 기간중 유지하여 둘수 있도록 하는데 있다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은, (a) 기판의 둘레 가장자리부가 사용위치에 위치하도록 기판을 재치대상에 재치하고, 이 재치대상의 기판으로부터 떨어진 곳에 위치하는 대기위치에 노즐과 접촉조정부재를 준비하며, 나아가서는 대기위치와 사용위치와의 사이에 제거수단을 준비하는 공정과, (b) 상기 대기위치에서 상기 접촉조정부재에 용제를 부착시킴과 동시에, 이 접촉조정부재를 노즐에 대하여 상대적으로 이동시키고, 이 접촉조정부재에 부착한 용제에, 노즐의 액토출구에 존재하는 처리용액을 접촉시켜서 처리용액을 토출시키므로써, 노즐의 액토출구에 존재하는 처리용액의 상태를 조절하는 공정과, (c) 노즐로부터 토출되는 처리용액이, 상기 제거수단으로 이행되도록, 상기 대기위치로부터 상기 제거수단을 경유하여 사용위치로 노즐을 이행시키는 공정과, (d) 노� �로부터 처리용액을 토출시키면서 기판과 노즐을 상대적으로 이동시키므로써, 기판상에 처리용액의 막을 형성하는 공정 을 구비함을 특징으로 하는 기판처리방법을 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체웨이퍼와 같은 기판상에 처리용액의 막을 형성하기 위해 사용한다.

公开(公告)号：KR1019960042125A

公开(公告)日：1996-12-21

申请号：KR1019960017656

申请日：1996-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사 ,  아나이노리유키

IPC: G02F1/13

Abstract: 레지스트 도포장치는, 승강가능하게 설치되고, 수취한 기판을 유지하고, 기판과 함께 스핀회전하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급원과, 스핀척상의 기판을 둘러싸고, 스핀척과 연동하여 회전되고, 기판으로 부터 원심분리되는 레지스트액을 받는 회전컵과, 이 회전컵 주위에 설치되고, 회전컵내로 부터 방출되는 폐기물을 받아내고, 받아낸 폐기물이 모이는 집합공간을 가지는 드레인컵과, 이 집합공간에 개구하는 배액구를 가지며, 이 배액구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 액체성분을 배출하는 배액통로와, 집합공간에 연이어 통하는 배기구를 가지며,이 배기구를 통해서 집합공간에 모인 폐기물 중 가스성분을 배기하는 배기통로와, 가스성분을 집합공간로 부터 배기통로쪽으로 안내하기 위해서, 적 도 배액구보다도 높은 위치에 설치된 배기안내통로와, 이 배기안내통로에 설치되고, 가스성분을 따라 가는 기류가 충돌하면, 이것에 포함되는 액체성분은 응측시키고, 액체성분이 배기통로쪽으로 가는 것을 저지하는 기액분리부재를 구비한다.