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公开(公告)号：KR100431625B1
公开(公告)日：2004-10-08
申请号：KR1019960079360
申请日：1996-12-31
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: PURPOSE: A liquid crystal display device is provided to overcome the electromagnetic interference(EMI) problem generated due to the high driving frequency by allowing the liquid crystal panel to be operated by four divided frequency. CONSTITUTION: A liquid crystal display device includes a liquid crystal panel(100), a plurality of odd number data driving integrated circuits(DIC#1,DIC#3...) and a plurality of even number data driving integrated circuits(DIC#2,DIC#4...). The liquid crystal panel is provided with a plurality of data lines. The plurality of odd number data driving integrated circuits receives the data corresponding to the odd number output among each of the channels through the first odd number data line and receives the data corresponding to the even number output among each of the channels through the first even number data signal line. The plurality of odd number data driving integrated circuits simultaneously drives the input data corresponding to the odd number data lines and the even number data lines. The plurality of even number data driving integrated circuits receives the data corresponding to odd number output among each of the channels through the second odd data signal lines and receives the data corresponding to the even number among each of the channels through the second even number data signal lines. And, the plurality of even number data driving integrated circuits simultaneously drives the odd number data line and the even number of data lines corresponding to the input data with synchronizing to the second horizontal start signal.
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公开(公告)号：KR1019980067645A
公开(公告)日：1998-10-15
申请号：KR1019970003844
申请日：1997-02-06
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: G09G3/36
Abstract: 이 발명은 액정 표시 장치용 동기신호의 극성 감지회로(polarity detecting circuit)에 관한 것으로서,
입력되는 동기신호의 극성을 감지하며, 입력되는 동기신호의 극성에 관계없이 액정 표시 장치에서 필요로 하는 극성으로 변환함으로써 외부 그래픽 제어장치에서 동기신호의 극성을 액정 표시 장치에서 필요로 하는 극성으로 변환하는 처리를 행하지 않아도 되는 잇점을 제공한다.-
公开(公告)号：KR101932035B1
公开(公告)日：2018-12-26
申请号：KR1020120012927
申请日：2012-02-08
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302 , H01L21/02
Abstract: 기판 처리용 유체 공급 시스템이 개시된다. 유체 공급 시스템은 건조 유체를 공급하여 기판상에 도포된 린스액을 건조하는 기판 건조부; 상기 기판의 건조과정에서 상기 건조 유체와 상기 린스액이 혼합된 혼합 유체를 상기 기판 건조부로부터 회수하고, 상기 혼합 유체에서 상기 건조 유체를 분리하는 건조 유체 분리부; 및 상기 건조 유체 분리부에서 분리된 상기 건조 유체를 상기 기판 건조부에 재공급하는 건조 유체 공급부를 포함한다.
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公开(公告)号：KR1020160016005A
公开(公告)日：2016-02-15
申请号：KR1020140099100
申请日：2014-08-01
Applicant: 삼성전자주식회사
CPC classification number: G06F1/3293 , G06T1/20 , Y02D10/122
Abstract: 이미지처리방법및 이미지처리장치가제공된다. 이미지처리방법은, GPU(Graphic Processing Unit)가렌더링한제1 이미지를상기 GPU로부터수신하고, 상기제1 이미지와, 상기 GPU가상기제1 이미지보다먼저렌더링한제2 이미지를비교하고, 상기제1 이미지와상기제2 이미지의비교결과에따라상기 GPU의렌더링빈도를제어하는것을포함한다. 이미지처리장치는, GPU(Graphic Processing Unit)가렌더링한제1 이미지를상기 GPU로부터수신하는데이터모니터; 및상기데이터모니터로부터수신한상기제1 이미지와, 상기 GPU가상기제1 이미지보다먼저렌더링한제2 이미지를비교하고, 그비교결과에따라상기 GPU의렌더링빈도를제어하는렌더링빈도컨트롤러를포함한다.
Abstract translation: 提供了图像处理方法和图像处理装置。 该图像处理方法包括以下步骤：从GPU接收由图形处理单元（GPU）渲染的第一图像; 将第一图像与在第一图像之前由GPU呈现的第二图像进行比较; 以及根据所述第一图像和所述第二图像之间的比较结果来控制所述GPU的绘制频率。 该图像处理装置包括：数据监视器，用于从GPU接收由GPU呈现的第一图像; 以及渲染频率控制器，其将从数据监视器接收的第一图像与第一图像之前的GPU渲染的第二图像进行比较，并且根据比较结果控制GPU的渲染频率。
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公开(公告)号：KR1020150119675A
公开(公告)日：2015-10-26
申请号：KR1020140045382
申请日：2014-04-16
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: C11D7/02 , C11D7/50 , H01L21/306
CPC classification number: C11D11/0047 , C11D7/08 , C11D7/10 , C11D7/5022 , H01L21/02063 , H01L21/02068 , H01L21/02071
Abstract: 금속불화물이용해되지않는유기용매, 바이플루오라이드(HF)를생성하는불소화합물, 및 1.5 중량% 이하의초순수를포함하는세정액조성물및 상기세정액조성물을이용한반도체소자의세정방법이제공된다.
Abstract translation: 本发明提供一种清洗液组合物和使用该清洗液组合物的半导体装置的清洗方法，其特征在于，所述清洗液组合物含有金属氟化物不溶的有机溶剂， 用于产生氟化物的氟化合物（HF 2 - ）; 以及基于清洗液组合物的总重量为1.5重量％以下的超纯水。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020140144806A
公开(公告)日：2014-12-22
申请号：KR1020130066681
申请日：2013-06-11
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/302
CPC classification number: F26B25/06 , H01L21/67017 , H01L21/67109
Abstract: 본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시 예에 따른 기판 처리 장치는 초임계 상태의 공정유체를 이용하여 기판에 대한 건조 공정이 수행될 수 있는 챔버; 상기 챔버로 상기 공정유체를 공급하는 공정유체공급유닛을 포함하되, 상기 공정유체공급유닛은, 상기 공정유체를 저장하는 저장탱크; 연결관으로 상기 저장탱크와 연결되고 공급관으로 상기 챔버와 연결되되, 상기 공정유체가 저장되는 내부공간을 가로지르는 히터를 갖는 변환탱크를 포함한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置。 根据本发明的一个实施方式的基板处理装置包括使用超临界状态的处理流体进行基板的干燥处理的室，以及将处理流体供给到室的处理流体供给单元。 处理液供给单元包括存储处理流体的储罐和通过连接管连接到储罐的转化槽，通过供给管与室连接，并且包括与内部空间交叉的内部空间 储存加工液。
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公开(公告)号：KR1020140117758A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：KR1020130032249
申请日：2013-03-26
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/6708 , H01L21/67017 , H01L21/67051
Abstract: The present invention relates to a substrate processing apparatus. The substrate processing apparatus, according to an embodiment of the present invention, comprises: a housing; a plurality of opening/closing members for providing a driving force to open/close the housing; a fluid storage member for supplying a fluid to the opening/closing member; and a fluid dispensing unit which is connected to the fluid storage member through a supply line and dispenses the fluid supplied from the fluid storage member to each of the opening/closing members. The fluid dispensing unit includes: dispensing lines connected to each of the opening/closing members by being branched out from the supply line; and a fluid dispensing member located at the position where the dispensing lines are branched out from the supply line.
Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置。 根据本发明的实施例的基板处理装置包括：壳体; 多个打开/关闭构件，用于提供打开/关闭壳体的驱动力; 流体存储部件，用于向所述开闭部件供给流体; 以及流体分配单元，其通过供应管线连接到流体存储构件，并将从流体存储构件供应的流体分配给每个打开/关闭构件。 流体分配单元包括：通过从供应管线分支而将连接到每个打开/关闭构件的分配管线; 以及位于所述分配线从所述供给线分支出的位置的流体分配构件。
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公开(公告)号：KR101075997B1
公开(公告)日：2011-10-21
申请号：KR1020080083291
申请日：2008-08-26
Applicant: 삼성전자주식회사
Abstract: 본발명은 WCDMA, GSM, CDMA, Wibro 가운데적어도어느하나의통신시스템을지원하는다중모드단말기에서네트워크등록시등록하고자하는네트워크에의한등록거절에따른서비스불능상태가발생할경우, 서비스불능상태를해제하여다른네트워크로의등록을시도하기위한장치및 방법에관한것으로다중모드단말기에서네트워크등록을수행하는장치는서비스등록시기 설정되어있는서비스등록의우선순위를확인하고, 상기확인한우선순위의서비스를제공하는네트워크로의등록과정수행시서비스불능에해당하는거절이발생할경우, 다중모드단말기를재부팅하도록처리하는시스템등록관리부를포함하여종래의다중모드단말기에서서비스불능을해제하기위하여수행하는전원오프과정또는심 카드해제과정없이다른네트워크로의등록을수행하여네트워크시스템의부하를줄이고서비스이용의기회를향상시킬수 있다.
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公开(公告)号：KR100807226B1
公开(公告)日：2008-02-28
申请号：KR1020060078837
申请日：2006-08-21
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/8242 , H01L27/108
CPC classification number: H01L28/91 , H01L27/10814 , H01L27/10817 , H01L27/10852
Abstract: 반도체 장치의 제조 방법에서, 패드 영역을 갖는 기판 상에 질화물을 포함하는 식각 저지막 및 산화물을 포함하는 몰드막이 형성된다. 상기 몰드막 및 식각 저지막을 패터닝하여 상기 기판의 패드 영역을 노출시키는 개구를 형성한다. 황산(H
2 SO
4 ) 및 물(H
2 O)을 포함하는 식각액을 이용하여 상기 개구에 의해 노출된 상기 식각 저지막의 측면 부위를 식각함으로써 상기 식각 저지막에 의해 한정된 개구의 하부를 상기 몰드막에 의해 한정된 개구의 중앙 부위보다 넓게 확장시킨다. 이어서, 상기 확장된 개구의 표면들 상에 하부 전극을 형성하고, 상기 하부 전극 상에 유전막 및 상부 전극을 형성하여 커패시터를 완성한다. 상기와 같이 하부가 확장된 개구 내에 하부 전극을 형성하므로 상기 커패시터의 구조적 안정성이 향상될 수 있다.Abstract translation: 在制造半导体器件的方法中，在具有焊盘区域的衬底上形成包括氧化物的模制膜和包含氮化物的蚀刻停止膜。 模制膜和蚀刻停止膜被图案化以形成暴露衬底的焊盘区域的开口。 硫酸（H
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公开(公告)号：KR100734330B1
公开(公告)日：2007-07-02
申请号：KR1020060072264
申请日：2006-07-31
Applicant: 삼성전자주식회사
IPC: H01L21/304
Abstract: A method for drying a substrate and an apparatus for performing the same are provided to restrain a water spot and to prevent declination of a fine pattern by using a cleaning liquid containing deionized water and an organic fluoride based compound vapor. A substrate is cleaned by using a cleaning liquid containing deionized water and then rinsed by using a drying agent containing an organic fluoride based compound and alcohol(S10). An organic fluoride based compound vapor is supplied on to the rinsed substrate to form an organic fluoride base compound vapor atmosphere around the substrate, thereby removing the ionized water and the alcohol residing on the substrate(S20).
Abstract translation: 提供了一种用于干燥基板的方法和用于执行该方法的设备，以通过使用含有去离子水和有机氟化物基化合物蒸汽的清洁液来抑制水斑并防止精细图案的倾斜。 通过使用含有去离子水的清洁液来清洁基板，然后通过使用含有机氟化物基化合物和醇的干燥剂进行冲洗（S10）。 将有机氟化物基化合物蒸气供应到漂洗后的基板上以在基板周围形成有机氟化物基化合物蒸气气氛，由此除去沉积在基板上的离子化水和醇（S20）。
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