公开(公告)号：KR100134547B1

公开(公告)日：1998-04-20

申请号：KR1019940025241

申请日：1994-10-01

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  이지연 ,  김철호

IPC: H01S3/00 ,  H01L21/205 ,  H01S3/18

Abstract: 본 발명은 레이저를 발생시키는 장비, 또는 레이저를 이용하는 장비에 필수적으로 장착되어야 하는 레이저 거울의 제조방법에 관한 것으로, 원자의 증착이 아닌 102 ∼ 103개 원자들의 모임인 덩어리를 이온화시키고 고전압을 걸어 가속화시켜서 기판을 때림으로서 기판에서 퍼지는 현상이 일어나도록 함으로써 1. 고밀도 금속 박막, 2. 고 평탄성 금속 박막, 3. 기판과 금속간의 고 접착력, 4. 제조한 금속 박막과 기판간의 예리한 계면 형성 등을 모두 만족하는 레이저 거울을 제작하도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR100391778B1

公开(公告)日：2003-07-22

申请号：KR1020010000571

申请日：2001-01-05

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  한성 ,  조준식 ,  김기환

IPC: C23C16/54

Abstract: PURPOSE: A method is provided to improve adhesion force between polymer and metal layer or easily form the metal layer on the polymer having low plating property without a metal seed layer, and simplify treating processes when forming the metal layer on the polymer by electroless or electrolytic plating. CONSTITUTION: The method for improving adhesion force between polymer and metal comprises the processes of partially breaking polymer bonds on the surface of the polymer by irradiating ion beams having an energy onto the polymer as injecting a reactive gas into a vacuum chamber; injecting the reactive gas into the vacuum chamber so that atoms on the surface of the bond broken polymer are reacted with the reactive gas, thereby changing the property of the surface of the polymer into hydrophilic property; and depositing a metal layer on the surface of the polymer changed into the hydrophilic property, wherein an acceleration voltage of the ion beams is 300 to 2000 V, the ion is an ionization gas such as argon, nitrogen, hydrogen, helium, oxygen, ammonia, or a mixture thereof, the reactive gas is oxygen, nitrogen, ammonia, hydrogen, or a mixture thereof, and the deposition of the metal layer is done by an electroless or electrolytic plating.

Abstract translation: 目的：提供一种提高聚合物与金属层之间的粘合力或在没有金属籽晶层的情况下容易地在具有低电镀性能的聚合物上形成金属层的方法，并简化了通过无电解或电解质在聚合物上形成金属层时的处理过程 电镀。 构成：提高聚合物与金属之间的粘附力的方法包括通过向聚合物上照射具有能量的离子束以将反应气体注入真空室中来部分地破坏聚合物表面上的聚合物键的过程; 将反应气体注入真空室，使键合断裂聚合物表面上的原子与反应气体反应，从而将聚合物表面的性质改变为亲水性; 并且在聚合物表面上沉积金属层改变为亲水性，其中离子束的加速电压为300至2000V，离子为电离气体如氩，氮，氢，氦，氧，氨 或它们的混合物，反应气体是氧气，氮气，氨气，氢气或它们的混合物，金属层的沉积通过无电镀或电解镀完成。

公开(公告)号：KR100329810B1

公开(公告)日：2002-03-25

申请号：KR1020007005975

申请日：1998-12-04

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  조정

IPC: C23C14/46

Abstract: 이온빔 (IB)을 이용한 고분자, 금속 및 세라믹 재료의 표면처리장치가 개시되어 있는데, 표면처리되는 재료에 인가되는 전압 (22)을 공급하고 제어함으로써 재료에 조사되는 이온빔 (IB) 에너지를 조절할 수 있고, 이온빔이 조사되는 진공조 영역에서의 반응성 가스 진공도를 이온빔이 발생되는 영역에서의 것과 다르게 하고, 또한 양면 조사 처리 및 연속 처리를 적용할 수 있다.

公开(公告)号：KR100305906B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980054848

申请日：1998-12-14

Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  최성창 ,  김기환 ,  한성 ,  석진우

IPC: C08J7/00

Abstract: 본 발명은 이온빔을 이용하여 친수성으로 표면개질된 고분자 콘택트렌즈 및 그 표면개질방법에 관한 것으로, 고분자 콘택트렌즈 표면으로, 반응성 기체를 유입시키면서 2000 eV 이하의 에너지를 가진 이온빔을 조사시킴으로써 상기 이온빔으로 고분자 콘택트렌즈의 표면을 활성화시키면서 활성화된 고분자 콘택트렌즈의 표면과 상기 반응성 기체를 반응시켜 그 표면에 친수성기를 형성시키는 고분자 콘택트렌즈의 표면개질방법과 그에 의해 표면개질된 고분자 콘택트렌즈를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020010028257A

公开(公告)日：2001-04-06

申请号：KR1019990040418

申请日：1999-09-20

Applicant: 한국과학기술연구원 ,  최병연

Inventor： 고석근 ,  최병연 ,  김기환

IPC: B29C71/04

CPC classification number: C08J7/12 ,  C08J2383/04 ,  B29C71/04 ,  B29K2083/00

Abstract: PURPOSE: A surface treated silicon rubber by ionic reaction is provided which improves hydrophilicity of the silicon rubber surface and enable the surface to be plated, colored and apply adhesive. Therefore, the silicon rubber is applied into various industries such as sports, construction, automobile, and the like. CONSTITUTION: The method for treating the surface of silicon rubber is characterized by irradiating ion endowed with energy and infusing reactant gas into the surface of silicon rubber to modify the surface and to improve its hydrophilicity and adhesivness. Wherein, ion energy ranges form 0.5-5.0 keV and the amount of the irradiating ranges from 10¬13-10¬18/cm¬2.

Abstract translation: 目的：提供通过离子反应进行表面处理的硅橡胶，改善了硅橡胶表面的亲水性，使表面能够镀，着色并涂上粘合剂。 因此，将硅橡胶应用于运动，建筑，汽车等各种行业。 构成：处理硅橡胶表面的方法的特征在于照射离子赋予能量并将反应气体注入硅橡胶的表面以改性表面并提高其亲水性和粘合性。 其中，离子能量范围为0.5-5.0keV，照射量范围为10〜13〜18 / cm 2。

公开(公告)号：KR1020000041712A

公开(公告)日：2000-07-15

申请号：KR1019980057666

申请日：1998-12-23

Applicant: 주식회사 삼양홀딩스 ,  한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  정형진 ,  최원국 ,  최성창 ,  한성 ,  김기환

IPC: C08J7/00

Abstract: PURPOSE: A hydrophilic polymer membrane the surface of which is modified is provided which has still lower wetting angle compared with common polymer membrane, does not destroy the surface structure of the membrane to preserve the characteristics of the membrane, and has excellent reproducibility, by irradiating ion beam to the membrane. CONSTITUTION: A hydrophilic polymer membrane the surface of which is modified is prepared from a surface-modifying method of the polymer membrane using a vacuum chamber equipped with a gas inlet, an ion source and a substrate holder, characterized in that it comprises a step of fixing a polymer membrane to the substrate holder; a step of introducing a reactive gas into the vacuum chamber through the gas inlet; a step of activating the surface of the polymer membrane by irradiating an ion beam having an energy of 2000 eV or less, generated from the ion source; and a step of reacting the activated surface of the polymer membrane with the reactive gas to form a hydrophilic group on the surface thereof.

Abstract translation: 目的：提供其表面改性的亲水性聚合物膜，其与普通聚合物膜相比具有较低的润湿角度，不破坏膜的表面结构以保持膜的特性，并且通过照射具有优异的再现性 离子束到膜。 构成：使用配备有气体入口，离子源和衬底保持器的真空室的聚合物膜的表面改性方法制备其表面被改性的亲水性聚合物膜，其特征在于它包括以下步骤： 将聚合物膜固定到衬底保持器; 通过气体入口将反应性气体引入真空室的步骤; 通过照射由离子源产生的具有2000eV以下的能量的离子束来活化聚合物膜的表面的工序; 以及使聚合物膜的活化表面与反应性气体反应以在其表面上形成亲水基团的步骤。

公开(公告)号：KR1019990047679A

公开(公告)日：1999-07-05

申请号：KR1019970066184

申请日：1997-12-05

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  최원국 ,  정형진 ,  조정

IPC: C23C14/32

Abstract: 본 발명은 이온 빔을 이용한 재료의 표면 처리 장치에 관한 것으로, 표면 처리되는 시편에 전압을 인가하고 조절하여 시편에 조사되는 이온 빔 에너지를 조절할 수 있고, 이온 도움 반응 장치에 이용되는 반응성 가스의 진공도를 이온 빔이 조사되는 부분과 이온 빔이 발생되는 부분에서 차별화시킬 수 있고, 양면 조사 방식 내지 연속 프로세스에 적용될 수 있는 표면 처리 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1019990041209A

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019970061766

申请日：1997-11-21

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 고석근 ,  최원국 ,  금동화 ,  정형진 ,  변동진

IPC: H01J37/00

Abstract: 본 발명은 에너지를 가지는 반응성 이온입자를 기판표면에 조사함으로써, 산화물 기판표면을 질화물로 개질시키는 방법이며, 이렇게 표면개질된 기판에 성장하는 박막의 성질을 변화시킬 수 있으며, 결정성등 그 특성이 뛰어난 박막을 형성할 수 있다. 특별히 예를 들면, 종래의 열처리로 이루어지는 기판처리에 의해서는 고품위 GaN박막을 형성하기에는 Al
2 O
3 기판이 한계를 가지고 있었으나, Al
2 O
3 기판에 본 발명에 의한 이온빔 표면처리를 하여 우선 기판상에 AlN을 형성시키고, 그 위에 GaN을 증착시키므로써 물성이 우수한 고품위 GaN박막을 형성시킬 수 있다.

公开(公告)号：KR100203377B1

公开(公告)日：1999-06-15

申请号：KR1019960028714

申请日：1996-07-16

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 장홍규 ,  고석근 ,  정형진 ,  최원국

IPC: C23C14/10

CPC classification number: C23C14/5833 ,  C23C14/185 ,  C23C14/58

Abstract: 본 발명은 유리기판 상에 증착되는 금속박막의 접착력을 향상시키는 방법에 관한 것으로, 이온주입장치와 거대한 장치를 사용하지 않으면서 저에너지의 고전류 이온을 이용하여 소재 특성의 열화를 없애고, 금속박막과 유리기판의 접착력을 향상시키는 방법이다.
본 발명은 유리기판을 초음파 용기에서 아세톤으로 세척하고, 증류수로 세척한 후에 질소분위기에서 소정의 온도로 일정시간 건조하며, 건조된 유리기판을 진공조에 넣고 고전류 이온원을 사용하여 수 keV 이온을 만들어 금속표적에 조사함으로써 금속원자를 스퍼터링시켜 유리기판에 금속을 증착하고, 이와 같이 증착된 금속박막을 다시 1keV의 Ar이온으로 조사하여 금속박막을 밀한 상태로 만들어 금속박막과 유리기판의 접착력을 향상시키도록 하였다.
본 발명에 의한 접착방법에 의하여 금속박막과 유리기판의 접착력이 최대 9배까지 증가함을 보임으로써 상온에서도 고전류의 낮은 에너지를 이용하여 접착력이 우수한 박막을 제작할 수 있었다.

公开(公告)号：KR100182373B1

公开(公告)日：1999-04-01

申请号：KR1019960028938

申请日：1996-07-18

Applicant: 한국과학기술연구원

Inventor： 장홍규 ,  고석근 ,  정형진 ,  최원국

IPC: C23C16/54

CPC classification number: H01J37/32422 ,  C23C14/32

Abstract: 본 발명은 고품질 박막을 제작하기 위한 PIBD(Partially Ionized Beam Deposition)용 이온건에 관한 것으로, 본 발명은 금속을 증기상태로 만드는 도가니부와 증기상태의 금속을 이온화시키는 이온화부를 하나의 원통형 챔버 내에 형성하며, 상기 원통형 챔버외측에 이온화 효율을 높이기 위하여 자석을 배치하며, 상기 원통형 챔버의 하부에는 W-Re선으로 된 도가니 가열용 필라멘트와 도가니를 설치하고, 원통형 챔버의 상부에는 필라멘트와 양극을 설치하며, 상기 필라멘트를 용이하게 교체하기 위하여 상하단부에 플랜지를 설치한 구조이다. 또한, 도가니부와 이온화부 사이의 열차폐와 전자기장의 차폐를 위하여 몰리브덴판 또는 탄탈륨판과 같이 고융점 물질의 판을 설치하고, 이온원이 과열되는 것을 방지하기 위하여 수냉관을 도가니 가열부 외측에 설치하며, 상단부 플랜지와 진공 챔버 사이에 접지된 판을 설치함으로써 낮은 전력으로 도가니의 온도를 높일 수 있어 제품의 유지 비용이 절감되는 효과가 있고, 거리에 따른 전류밀도의 변화가 적어 제작된 박막의 성질이 균일하게 됨으로써 박막소자의 신뢰성을 향상시키도록 한 것이다.