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公开(公告)号:AU2003298535A8
公开(公告)日:2004-05-04
申请号:AU2003298535
申请日:2003-08-01
Applicant: INTEL CORP
Inventor: TRAN QUAN , GINSBURG EYAL , RAO VALLURI , WANG LI-PENG , TALALYEVSKY ALEXANDER , MA QING , BAR-SADEH EYAL , HECK JOHN
Abstract: A film bulk acoustic resonator filter (10) may be formed with a plurality of interconnected series and shunt film bulk acoustic resonators (38) formed on the same membrane (35). Each of the film bulk acoustic resonators (38) may be formed from a common lower conductive layer which is defined to form the bottom electrode (32) of each film bulk acoustic resonator (38). A common top conductive layer may be defined to form each top electrode (36) of each film bulk acoustic resonator (38). A common piezoelectric film layer (34), that may or may not be patterned, forms a continuous or discontinuous film.
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公开(公告)号:AU2003265874A1
公开(公告)日:2004-03-19
申请号:AU2003265874
申请日:2003-08-28
Applicant: INTEL CORP
Inventor: MA QING , RAVI KRAMADHATI , RAO VALLURI
Abstract: A switch structure having multiple contact surfaces that may contact each other. One or more of the contact surfaces may be coated with a resilient material such as diamond.
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公开(公告)号:AU2003217346A1
公开(公告)日:2003-10-13
申请号:AU2003217346
申请日:2003-02-05
Applicant: INTEL CORP
Inventor: HECK JOHN , BERRY MICHELE , WONG DANIEL , RAO VALLURI
Abstract: A packaged microelectromechanical system may be formed in a hermetic cavity by forming the system on a semiconductor structure and covering the system with a thermally decomposing film. That film may then be covered by a sealing cover. Subsequently, the thermally decomposing material may be decomposed, forming a cavity, which can then be sealed to hermetically enclose the system.
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公开(公告)号:DE102013114594B4
公开(公告)日:2022-03-17
申请号:DE102013114594
申请日:2013-12-20
Applicant: INTEL CORP
Inventor: TELESPHOR KAMGAING , RAO VALLURI , DEGANI OFIR
Abstract: Verfahren zum Ausbilden einer Paketstruktur (100; 131; 132), das Folgendes umfasst:Bereitstellen eines elektronischen Bauelements (118) mit einer aktiven Seite (120) und einer gegenüberliegenden Rückseite;Bereitstellen eines Paketsubstrats (126) auf der aktiven Seite (120) des Bauelements (118);Bilden einer diskreten Antenne (102) auf der Rückseite des Bauelements (118), wobei die diskrete Antenne (102) ein Antennensubstrat (104) umfasst;Bilden einer Antennensubstrat-Durchkontaktierung (108) durch das Antennensubstrat (104), wobei die Antennensubstrat-Durchkontaktierung (108) vertikal durch das Antennensubstrat (104) angeordnet ist,Koppeln der Antennensubstrat-Durchkontaktierung (108) mit einer Substrat-Durchkontaktierung (116), die vertikal innerhalb des Bauelements (118) angeordnet ist, undelektrisches Koppeln des Bauelements (118) mit dem Paketsubstrat (126),wobei die Antennensubstrat-Durchkontaktierung (108) mit der Substrat-Durchkontaktierung (116) durch eine leitende Struktur oder Metall-Metall-Bindung gekoppelt ist,wobei das Verfahren ferner das Bilden eines Erdantennenkontakts (111) auf einem unteren Abschnitt der diskreten Antenne (102) umfasst,wobei der Erdantennenkontakt (111) mit einer Erdungssubstrat-Durchkontaktierung (117) elektrisch gekoppelt ist, die vertikal innerhalb des Bauelements (118) angeordnet ist.
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公开(公告)号:DE102013114594A1
公开(公告)日:2014-06-26
申请号:DE102013114594
申请日:2013-12-20
Applicant: INTEL CORP
Inventor: TELESPHOR KAMGAING , RAO VALLURI , DEGANI OFIR
Abstract: Es werden Verfahren zum Bilden einer mikroelektronischen Paketstruktur und dadurch zugehörige gebildete Strukturen beschrieben. Diese Strukturen und Verfahren können das Bilden einer Paketstruktur enthalten, umfassend eine diskrete Antenne, die auf einer Rückseite eines Bauelements angeordnet ist, wobei die diskrete Antenne ein Antennensubstrat, eine Antennensubstrat-Durchkontaktierung umfasst, die vertikal durch das Antennensubstrat angeordnet ist. Eine Bauelementsubstrat-Durchkontaktierung, die vertikal innerhalb des Bauelements angeordnet ist, ist mit der Antennensubstrat-Durchkontaktierung verbunden, und ein Paketsubstrat ist mit einer aktiven Seite des Bauelements verbunden.
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公开(公告)号:AT553380T
公开(公告)日:2012-04-15
申请号:AT04815440
申请日:2004-12-24
Applicant: INTEL CORP
Inventor: RAO VALLURI , MA QING , YAMAKAWA MINEO , BERLIN ANDREW , WANG LI-PENG , ZHANG YUEGANG
IPC: G01N33/543 , G01N29/02 , G01N29/036 , G01N29/34
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公开(公告)号:MY138825A
公开(公告)日:2009-07-31
申请号:MYPI20030639
申请日:2003-02-25
Applicant: INTEL CORP
Inventor: HECK JOHN , BERRY MICHELE , WONG DANIEL , RAO VALLURI
Abstract: A PACKAGED MICROELECTROMECHANICAL SYSTEM (18) MAY BE FORMED IN A HERMETIC CAVITY (22) BY FORMING THE SYSTEM (18) ON A SEMICONDUCTOR STRUCTURE (12) AND COVERING THE SYSTEM WITH A THERMALLY DECOMPOSING FILM (25). THAT FILM (25) MAY THEN BE COVERED BY A SEALING COVER (20). SUBSEQUENTLY, THE THERMALLY DECOMPOSING MATERIAL (25) MAY BE DECOMPOSED, FORMING A CAVITY (22), WHICH CAN THEN BE SEALED TO HERMETICALLY ENCLOSE THE SYSTEM (18).
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公开(公告)号:DE60323405D1
公开(公告)日:2008-10-16
申请号:DE60323405
申请日:2003-08-28
Applicant: INTEL CORP
Inventor: MA QING , RAVI KRAMADHATI , RAO VALLURI
Abstract: A switch structure having multiple contact surfaces that may contact each other. One or more of the contact surfaces may be coated with a resilient material such as diamond.
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公开(公告)号:MY122887A
公开(公告)日:2006-05-31
申请号:MYPI20022146
申请日:2002-06-10
Applicant: INTEL CORP
Inventor: MA QING , CHENG PENG , RAO VALLURI
Abstract: A TUNABLE INDUCTOR IS DISCLOSED. THE TUNABLE INDUCTOR COMPRISES A HELICAL (70) OR SPIRAL (92) INDUCTOR FORMED ON A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE (146) HAVING AN INPUT AND AN OUTPUT. THE HELICAL INDUCTOR (70) HAS A FULL LENGTH THAT PROVIDES A FULL INDUCTANCE. ALSO, A FULL INDUCTANCE SWITCH IS DISPOSED BETWEEN THE OUTPUT AND THE FULL LENGTH OF THE HELICAL INDUCTOR. FINALLY, AT LEAST ONE MICROELECTROMECHANICAL (MEMS) SWITCH (146) IS DISPOSED BETWEEN THE OUTPUT AND AN INTERMEDIATE LOCATION OF THE HELICAL INDUCTOR. FIG. 28
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公开(公告)号:GB2392329B
公开(公告)日:2005-03-16
申请号:GB0318456
申请日:2003-08-06
Applicant: INTEL CORP
Inventor: WANG LI-PENG , BAR-SADEH EYAL , RAO VALLURI , HECK JOHN , MA QING , TRAN QUAN , TALALYEVSKY ALEXANDER , GINSBURG EYAL
Abstract: A film bulk acoustic resonator filter (10) may be formed with a plurality of interconnected series and shunt film bulk acoustic resonators (38) formed on the same membrane (35). Each of the film bulk acoustic resonators (38) may be formed from a common lower conductive layer which is defined to form the bottom electrode (32) of each film bulk acoustic resonator (38). A common top conductive layer may be defined to form each top electrode (36) of each film bulk acoustic resonator (38). A common piezoelectric film layer (34), that may or may not be patterned, forms a continuous or discontinuous film.
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