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    ELECTRON LENS AND THE ELECTRON BEAM DEVICE
    32.
    发明公开
    ELECTRON LENS AND THE ELECTRON BEAM DEVICE 有权
    ELEKTRONENOBJEKTIV UND ELEKTRONENSTRAHLVORRICHTUNG

    公开(公告)号：EP2587517A1

    公开(公告)日：2013-05-01

    申请号：EP11836299.5

    申请日：2011-10-25

    Applicant: Param Corporation

    Inventor： YASUDA Hiroshi

    IPC: H01J37/143 ,  H01J37/141 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

    CPC classification number: H01J3/24 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J3/20 ,  H01J37/143 ,  H01J37/3007 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/1405

    Abstract: There provided a device for effectively drawing a fine pattern using a permanent magnet. The device has an outer cylinder 201 composed of a cylindrical ferromagnet with a Z axis as a central axis, a cylindrical permanent magnet 202 located inside the outer cylinder and polarized along the Z axis direction, a correction coil 204 located inside the cylindrical permanent magnet with a gap from the cylindrical permanent magnet, for adjusting a magnetic field strength generated by the cylindrical permanent magnet along the Z axis direction, and a coolant passage 203 located in the gap between the cylindrical permanent magnet and the correction coil, for allowing a coolant to flow therethrough and controlling temperature changes in the cylindrical permanent magnet.

    Abstract translation: 提供了一种用于使用永磁体有效地绘制精细图案的装置。 该装置具有：外圆筒201，其具有以Z轴为中心轴的圆柱形铁磁体，位于外筒内侧且沿着Z轴方向极化的圆筒形永久磁铁202，位于筒状永久磁铁内部的校正线圈204， 用于调整由圆柱形永磁体沿着Z轴方向产生的磁场强度的圆柱形永磁体的间隙和位于圆柱形永磁体和校正线圈之间的间隙中的冷却剂通道203，用于允许冷却剂 流过并控制圆筒形永久磁铁中的温度变化。

    전자빔 확산 단면 수정 장치 및 방법
    37.
    发明公开
    전자빔 확산 단면 수정 장치 및 방법 有权
    电子束扩散和交叉截面形状方法和装置

    公开(公告)号：KR1020160032715A

    公开(公告)日：2016-03-24

    申请号：KR1020157037295

    申请日：2014-10-17

    Applicant: 화중과기대

    Inventor： 후앙,지앙 ,  판,밍우 ,  유,티아오친 ,  장,리게 ,  주오,첸 ,  양,준 ,  시옹,용치안 ,  리우,카이펭 ,  우,제랄드에프. ,  카오,레이

    IPC: G21K5/04 ,  G21K1/093

    CPC classification number: H01J37/143 ,  G21K1/093 ,  G21K5/04 ,  H01J3/12 ,  H01J33/00 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/0835 ,  H01J2237/1405 ,  H01J2237/152

    Abstract: 본발명은일의종전자빔확산단면수정장치및 그방법을제공하는바, 구체적으로: 2개조의영구자성철을포함한다. 제1조영구자성철로구성된자기장이전자빔을근사한타원형으로확산시키고, 제2조영구자성철로구성된자기장은전자빔변두리에대한수정을하여근사한직사각형을형성한다. 4개의종향포지션연결장치에대한조작을통해제1조영구자성철의상, 하마그네틱요크를그들사이의중심을향해동기화로이동시키고, 타원형과근사한전자빔에대한 1차종향압축을하며, 이어서제2조영구자성철의상, 하마그네틱요크를그들사이의중심을향해동기화로이동시키고, 직사각형과근사한전자빔에대해전자빔종향사이즈가 80mm로압축될때까지 2차종향압축을계속한다. 본발명은확산후의전자빔종향사이즈에대한합리한압축을통해최고의조사균일도와조사효율을보장하는외에종래의티타늄윈도우의설정범위내에서유지할수도있다.

    Electron column using a magnetic lens layer having a permanent magnet
    39.
    发明专利
    Electron column using a magnetic lens layer having a permanent magnet 审中-公开

    公开(公告)号：JP2010506374A

    公开(公告)日：2010-02-25

    申请号：JP2009532290

    申请日：2007-10-09

    Applicant: シーイービーティー・カンパニー・リミティッドCebt Co., Ltd.

    Inventor： キム・ホセオブ

    IPC: H01J37/143 ,  H01J37/145

    CPC classification number: H01J37/145 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/12 ,  H01J37/143 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/1405 ,  H01J2237/26 ,  H01J2237/3175

    Abstract: 【課題】 磁気レンズ層は、電子ビームを集束させる役割を果たすので、電子カラムのフォーカスにおいて、精密なフォーカスを実現することができ、フォーカスに使用される電圧を低めることができてフォーカスの制御に有利である。 磁気レンズ層は、電子ビームを集束させて偏向をより容易に制御することを可能にする。 係る磁気レンズ層は、支持体を導体から形成し、フォーカスレンズの一つのレンズ層の代わりに使用して電子カラムの構造を単純化させることができる。
    【解決手段】
    磁気レンズ層を用いた電子カラムが開示される。 この電子カラムは、永久磁石を用いて電子ビームを集束させるための磁気レンズ層を含む。 この磁気レンズ層は、支持板、前記支持板の内部に貫設されたアパーチャ、および前記アパーチャを中心として配列され、前記支持板の上に位置しあるいは前記支持板の内部に挿入された永久磁石を含む。
    【選択図】 図３

    자기 렌즈층을 포함한 전자 칼럼
    40.
    发明公开
    자기 렌즈층을 포함한 전자 칼럼 有权
    使用磁性镜片的电子柱

    公开(公告)号：KR1020080032895A

    公开(公告)日：2008-04-16

    申请号：KR1020060098993

    申请日：2006-10-11

    Applicant: 씨이비티 주식회사

    Inventor： 김호섭

    IPC: H01J37/14

    CPC classification number: H01J37/145 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/12 ,  H01J37/143 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/1205 ,  H01J2237/1405 ,  H01J2237/26 ,  H01J2237/3175

    Abstract: An electron column is provided to facilitate a focusing control by decreasing a voltage, which is used for a focusing process. An uppermost electrode layer(L1) and a lowermost electrode layer(L3) are grounded. A variable voltage is applied on a middle electrode layer(L2) for performing a focusing process. A magnetic lens layer(M) is arranged on the uppermost electrode layer for a pre-focusing process. An electron beam, which is incident on the magnetic lens layer, is pre-focused. A path of the electron beam is focused on a center of the middle electrode layer, on which a focusing voltage is applied. The pre-focusing process is controlled by a voltage and a current, which are applied on the middle electrode layer.

    Abstract translation: 提供电子柱以通过降低用于聚焦过程的电压来促进聚焦控制。 最上电极层（L1）和最下电极层（L3）接地。 在中间电极层（L2）上施加可变电压以进行聚焦处理。 磁性透镜层（M）布置在最上面的电极层上用于预聚焦处理。 入射在磁性透镜层上的电子束被预聚焦。 电子束的路径聚焦在施加聚焦电压的中间电极层的中心。 预聚焦过程由施加在中间电极层上的电压和电流控制。

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