Abstract:
An oligomer probe array is provided to show increased signal to noise ratio(SNR) and decreased cross-talk, thereby increasing the accuracy of analysis. An oligomer probe array comprises: a substrate; a plurality of probe cell actives formed on the substrate, each of the probe cell actives coupled to a linker excluding the edge side wall thereof to inactivate the edge side wall; a probe cell separation region separating the plurality of probe cell active and not including a functional group coupled to the oligomer probe; and a plurality of oligomer probe coupled to the linker of the probe cell active. A method for preparing an oligomer probe array comprises the steps of: (a) providing a substrate; (b) forming a plurality of probe cell active separated by probe cell separation regions on the substrate; (c) forming partition walls having a higher thickness than that of a plurality of probe cell on the probe cell separation region; (d) after spin-coating a linker solution on the substrate, spin-drying the non-reacted linker solution and baking the remaining linker solution; and (e) removing the partition walls to allow the linker to be coupled to the region excluding the edge side wall of each of the probe cell active.
Abstract:
An oligomer probe array is provided to be able to increase the surface area by fixing nano-particles on a fixation layer through a covalent bonding, thereby improving the reaction yield. An oligomer probe array(100) comprises a substrate(110); a plurality of fixed patterns(120) formed on the substrate; a probe cell separation region(130) separating the fixed patterns; a plurality of nano-particles(140) respectively coupled to each of the fixed patterns; and a plurality of oligomer probes(165) coupled to the nano-particles, where the probe cell separation region does not include a functional group coupled to the nano-particle or the oligomer probe. A method for preparing the oligomer probe array comprises the steps of: (a) providing a substrate; (b) forming a fixed pattern on the substrate, where the pattern is separated by a probe cell separation region; (c) coupling a plurality of nano-particles onto the fixed pattern; and (d) coupling a plurality of oligomer probe onto the nano-particles. Further, the plurality of fixed patterns have three dimension of surfaces.
Abstract:
An oligomer probe array having probe cell active formed in a substrate and a fabrication method thereof are provided to improve analysis accuracy by increasing SNR(signal to noise ratio) and reducing cross-talk through inhibiting coupling of oligomer probe on the side wall of the probe cell active and probe cell separating region. An oligomer probe array comprises: a substrate(100), a plurality of probe cell actives(120) formed in a certain region of the substrate and coupled with linkers(142); a probe cell separating region for separating the plurality of probe cell actives, having no functional group coupled with the linkers on the surface; and a plurality of oligomer probes(160) coupled with another linkers(143) of the probe cell actives, wherein the probe cell actives are physically separated by the probe cell separating region and chemically separated by the linkers; the linker is a silane-based or siloxane-based linker; the probe cell active consists of a silicon oxide film, a silicon nitride film, a metal oxide film, a spin-on siloxane film or a polymer film; and the substrate is a silicone or transparent glass substrate.
Abstract:
본 발명은 전극조절장치 및 이를 포함하는 챔버에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 교체 가능한 스페이서를 삽입하여 공정조건에 따라 전극의 위치를 조정할 수 있는 챔버에 관한 것이다. 본 발명은 전극조절장치에 있어서, 대상물을 그 상부에 유지하는 서셉터와, 상기 서셉터의 하부에 이격되어 있는 지지대와, 상기 서셉터의 높이를 조절하는 조절부를 포함하는 것을 특징으로 하는 전극조절장치 및 이를 포함하는 챔버이다. 이에 의해 공정특성에 변화를 줄 수 있는 요인을 줄이면서 간단한 구조로 서셉터 및 전극의 위치를 변화시켜 공정조절의 유연성을 얻을 수 있으며 비용을 절감할 수 있다. 전극조절장치, 챔버
Abstract:
PURPOSE: Provided is a method for detecting a voice using method for generating an analogous signal and device thereof which a voice detection function can be adapted into a prior portable phone by using a software only without addition of a hardware. CONSTITUTION: A method for detecting a voice includes (a) through (g) steps. The method extracts a voice by using a voice characteristic parameter generated from a voice vocoder. (a) step is to extract the voice characteristic parameter at the vocoder. (b) step is to generate an analogous signal by using the voice characteristic parameter. (c) step is to generate a gain of a frame analogous signal generated by summing the absolute value of the analogous signal. (d) step is to calculate a duplication average of the gain of the analogous signal by time. (e) step is to determine a voice section of a current frame by using the result of the duplication average of the gain of the analogous signal and the result of a prior frames. (f) step is to compensate a start position and a last position of the voice section output from (e) step by using the gain information. (g) step is to recompensate by using a spectrum information.
Abstract:
본 발명은 음성 신호의 처리에 중요한 정보인 유성음 신호의 피치 정보 검출 장치에 관한 것으로, 특히 피치 정보를 빠르게 검출하기 위하여 2차의 선형 예측 계수를 구하고, 그 역 필터를 통하여 원 신호의 주요 주파수 성분을 제거한 잔차 신호를 구한 후, 비선형 시스템을 이용하여 피치 성분을 강조하는, 입력 신호를 주어진 단위로 버퍼링하는 버퍼(10)와, 상기 버퍼(10)에서 버퍼링된 데이터로부터 0 ~ 2차의 자기 상관계수를 구하는 자기 상관계수부(20), 상기 자기 상관계수부(20)에서 구해진 자기 상관계수로부터 2차의 선형 예측 계수를 구하는 선형 예측 계수부(30), 상기 선형 예측 계수부(30)에서 구해진 선형 예측 계수를 역 필터링하여 원래의 입력 신호에 대한 잔차 신호를 구하는 역 필터(40), 상기 역 필터(40)에서 구해진 잔차 신호에 대하여 비선형 � ��터링시키는 비선형 필터(50), 상기 비선형 필터(50)에서 필터링된 신호의 피크 값과 그 위치를 검출하는 피크 검출부(60) 및 상기 피크 검출부(60)에서 구해진 피크 값을 임계치와 비교하여 피치 주기를 결정하는 피치 주기 결정부(70)로 구성한, 2차 선형 예측 잔차와 비선형 필터를 이용한 피치 구간 검출 장치 및 방법에 관한 것이다.
Abstract:
본 발명은 음성 신호의 잡음 제거 장치에 관한 것으로, 특히 두개의 마이크를 이용하여 잡음 음성의 음질을 개선시킬 수 있도록, 음성과 배경 잡음을 입력받는 제 1 마이크(10)와 ; 배경 잡음과 음성을 입력받는 제 2 마이크(20) ; 상기 제 2 마이크(20)의 신호를 입력으로, 제 1 마이크(10)의 신호를 참조 신호로 하여, 두 입력 신호 사이의 관계를 구하는 적응 잡음 추정부(30) ; 상기 제 1 마이크(10)의 신호 및 상기 적응 잡음 추정부(30)의 결과와 조절 상수를 입력으로, 지연부(60)로부터 입력되는 과거 M/2 시간 전의 잡음 추정부의 결과를 참조 신호로 하여, 이들 신호간의 관계를 적응 필터 계수에 저장하는 적응 잔차 잡음 추정부(40) 및 ; 상기 적응 잡음 추정부(30)의 결과를 입력으로 하고, 상기 적응 잔차 잡음 추정부(40)의 필터 계수를 이용하여, 잔차 잡음이 감쇠된 음성 신호를 추정하는 적응 잔차 잡음 감쇠부(50)를 포함하여 구성한, 적응 잡음 제거 장치 및 방법에 관한 것이다.