Abstract:
본 발명은 반도체 메모리 소자 등에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 커패시터리스 디램 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 커패시터리스 디램은 일함수가 큰 게이트 전극을 이용한다. 이를 통해 낮은 전압으로 게이트 유도 드레인 누설전류(Gate Induced Drain Leakage)를 발생시켜 메모리의 상태를 구분한다. 낮은 전압 구동을 통해 전력 소모를 줄일 수 있을 뿐만 아니라 상태 검출 여유 또한 증가한다. 커패시터리스 디램(Capacitorless 1-T DRAM), 큰 일함수 게이트, 게이트 유도 드레인 누설전류(Gate Induced Drain Leakage), 핀(fin) 구조 부유 바디
Abstract:
본 발명은 원자의 크기레벨로 나노갭(nanogap)의 위치, 폭 및 깊이의 조정이 가능하고 다수의 나노갭을 동시에 형성할 수 있는 다중 적층 나노갭 구조 및 그 제조방법에 관한 것으로써, 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서에 적용될 수 있는, 직선형의 나노갭이 일정 간격을 두고 반복적으로 나타나는 배열의 나노갭 구조와 그 제조방법을 제공한다. 보다 더 구체적으로 본 발명은, 표면 증강 라만 산란(SERS)를 이용한 단분자 검출 센서용 구조에 있어서, 기판; 및 상기 기판 위에 순차적으로 증착되는 희생층 및 강화층;을 포함하되, 상기 희생층 및 강화층은 적어도 한 번 이상 반복적으로 증착되고, 상기 기판, 희생층 및 강화층으로 형성된 구조에서 적어도 하나의 측면부에는, 상기 기판과 강화층 사이 또는 각각의 강화층 사이의 희생층의 소정영역이 제거되어 상기 기판 또는 강화층이 돌출됨으로써 형성되는 적어도 하나 이상의 나노갭을 구비하는 것을 특징으로 하는 다중 적층 나노갭 구조를 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: A thermally driven electronic paper display device is provided to easily manufacture a backlight unit using a modularized optical assembly. CONSTITUTION: A thermally driven electronic paper display device comprises a substrate(101); a micro heat generating layer(103) which if formed on the substrate; a material layer(104) which is formed on the upper part of the micro heat generating layer; an adhesive layer(102) which bonds the micro heat generating layer and the substrate; and a heat blocking layer which blocks heat between cells. The heat blocking layer is formed on the upper part of the substrate of which the adhesive layer and the micro heat generating layer is removed.
Abstract:
PURPOSE: A device and a manufacturing method are provided to form a hydrophilic or a hydrophobic surface of a device selectively by using a micro- nanocomposite within one chip sharing the same substrate. CONSTITUTION: The device capable of controlling hydrophobicity and hydrophilicity includes a substrate(100) capable of electric conduction; a pad layer(110) formed in the top of the substrate; a layer(120), which is formed in one side of the pad layer, is electrically connected to the pad layer and deposes a micro- nanocomposite; a micro- nanocomposite(130) formed on a layer in which the micro- nanocomposite is evaporated; and a polymer film or self assembled monolayer(140), which covers the pad layer, the micro- nanocomposite evaporation layer and the micro- nanocomposite and has a certain surface energy. The manufacturing method of the device includes following steps. (a) The pad layer is formed on the top of the substrate.(b) The micro- nanocomposite evaporation layer is formed in one side of the pad layer.(c) The micro- nanocomposite is formed.(d) The polymer film or the self-assembled monolayer is formed on the top of the substrate.
Abstract:
PURPOSE: A method of analyzing a heat distribution state and a method of forming a test film are provided to enable the heat distribution of a target to be precisely recognized at a resolution of nanometer size. CONSTITUTION: A method of analyzing a heat distribution state is as follows. Correlation between the temperature change and the characteristic change about a first test film is output as data(s110). A second test film is formed on the surface of a target(s120). The target is heated to emit heat(s130). A characteristic value about the second test film is measured(s140). The characteristic value about the second test film is changed into a temperature value using the data about the first test film. Heat distribution state of the target is analyzed using the changed temperature value(s150).
Abstract:
본 발명은 비휘발성 반도체 메모리 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 비휘발성 반도체 메모리 소자는, 기판, 기판 상에 형성된 금속층, 금속층 상에 형성되고, 전기적 신호에 따라 저항값이 변화되는 저항변화물질을 포함하는 산화층, 산화층 상에 형성된 부유바디셀, 산화층 상이고, 또한 부유바디셀 양측에 형성된 소오스 전극 및 드레인 전극, 부유바디셀 상에 순차적으로 형성된 게이트 절연층 및 게이트 전극을 포함한다. 본 발명에 따른 비휘발성 반도체 메모리 소자는 전원 공급 시 고속 동작이 가능하며, 전원 공급이 중단되더라도 저항변화물질을 이용하여 데이터를 저장하고 지속적으로 유지 할 수 있다. 디램, 커패시터리스 디램(Capacitorless DRAM), 저항변화메모리 Resistance Random Access Memory, RRAM), 비휘발성 메모리
Abstract:
본 발명은 바이오 센서에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 투명 게이트 영역을 갖는 트랜지스터를 이용한 바이오 센서 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 바이오 센서는 소스와 드레인이 이격되어 형성된 기판, 상기 기판의 상기 소스와 드레인 사이의 영역 상에 형성된 투명 게이트 영역 및 상기 투명 게이트 영역 상에 형성된 바이오 분자를 포함하는 것을 특징으로 한다. 투명 게이트, 트랜지스터, 바이오 센서, 광학적 검출, 전기적 검출
Abstract:
본 발명은 저항변화메모리(Resistance Random Access Memory, RRAM) 및 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 저항변화메모리는, 기판, 기판상에 증착된 제1 도전층, 제1 도전층상에 형성된 저항변화 물질층, 저항변화 물질층상에 증착된 제2 도전층을 포함하고, 저항변화 물질층은 제1 도전층을 미리 설정된 온도에서 산소 플라즈마 처리하여 형성되는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 따른 저항변화메모리 및 제조방법은 플라즈마를 이용해 매우 간단한 방법으로 저온에서 짧은 시간 안에 저항변화메모리를 제조할 수 있다. 비 휘발성 메모리 (Non-Volatile Memory), 저항변화소자 메모리 (Resistance Random Access Memory), 플라즈마 (Plasma)
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PURPOSE: A fusion random access memory device, a method for manufacturing and operating the fusion random access memory device, a central processing unit, and a method for driving the central processing unit are provided to simultaneously include a capacitor-less DRAM property and a resistance random access memory property. CONSTITUTION: A hole surrounding layer(110) is formed on a semiconductor substrate. A floating body layer(120) is formed on the pre-set region of the hole surrounding layer. A gate insulating layer is formed on the floating body layer. A first gate is formed on the gate insulating layer. A resistance changing material layer(170) is formed on the first gate. A second gate is formed on the resistance changing material layer. A source and drain are formed on the hole surrounding layer and on both sides of the floating body.
Abstract:
PURPOSE: A capacitor-less DRAM and a method for manufacturing the same are provided to improve the hole-storage capacity due to a hole-barrier by forming a continuous germanium layers or a non-continuous dots through an ion implantation method and a heat treatment process. CONSTITUTION: A source(105), a channel, and a drain(106) are successively formed on a substrate(100). A gate insulating layer(103) is formed on the channel. A gate is formed on the gate insulating layer. A germanium layer or a germanium dot is formed in the channel. The gate insulating layer is made of a silicon oxide, a nitride film, an aluminum oxide, a hafnium oxide, or a zinc oxide.