MEMS器件及其形成方法
    42.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104944359A

    公开(公告)日:2015-09-30

    申请号:CN201410113757.1

    申请日:2014-03-25

    Inventor: 徐伟 刘国安

    Abstract: 一种MEMS器件及其形成方法,其中所述MEMS器件,包括:衬底,所述衬底中形成有集成电路;位于衬底上的第一介质层,第一介质层中形成有若干第一金属连接端和第二金属连接端,第一金属连接端和第二金属连接端与集成电路电相连;位于第一介质层上的第二介质层,所述第二介质层中形成有加速度传感器,加速度传感器与第一金属连接端电连接;位于第二介质层上与第二介质层键合的半导体基底;位于半导体基底和第二介质层中若干第一金属插塞,第一金属插塞与第二金属连接端电连接;位于半导体基底上的压力传感器,压力传感器与第一金属插塞电连接。本发明的MEMS器件实现压力传感器和加速度传感器的集成,并且MEMS器件的体积较小。

    双范围高精度压力传感器

    公开(公告)号:CN104713675A

    公开(公告)日:2015-06-17

    申请号:CN201410560619.8

    申请日:2014-10-21

    Abstract: 一种具有两个或更多个压力范围的高精度压力传感器由多个微机电系统(MEMS)压力转换器形成,所述压力转换器安装在外壳内部且联接以感测加压流体。MEMS压力转换器的非线性输出由对应的多个处理器(优选DSP)线性化,每个处理器联接到对应的MEMS压力转换器并且从其接收MEMS压力转换器输出信号。每个处理器生成被施加压力输出信号,该信号表示施加到MEMS压力转换器的压力,其为来自MEMS压力转换器的输出信号的线性化和数字化版本。从多个处理器输出的数据在串行数据总线上串行地传输,其中每个处理器输出与不同压力范围有关的压力数据。

    半导体压力传感器以及半导体压力传感器的制造方法

    公开(公告)号:CN103091007B

    公开(公告)日:2015-04-01

    申请号:CN201210207074.3

    申请日:2012-06-21

    CPC classification number: B81C1/00626 B81B2201/0264 G01L9/0048 G01L9/0051

    Abstract: 本发明涉及半导体压力传感器以及半导体压力传感器的制造方法。半导体压力传感器具备:第一基板(1),在主表面(1a)具有凹部(3)以及对准标记(4);第二基板(2),形成在第一基板(1)的主表面(1a)上,具有以覆盖第一基板(1)的凹部(3)内的空间(IS)上的方式设置的隔板(5)以及在隔板(5)上设置的应变计电阻(6)。对准标记(4)以从第二基板(2)露出的方式设置。由此,能够得到能够抑制制造成本并且能够使压力测定精度提高的半导体压力传感器及其制造方法。

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