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公开(公告)号：CN108028209A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201680051709.1
申请日：2016-09-21
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: H01L21/66
CPC classification number: H01J37/045 , H01J37/244 , H01J37/28 , H01J2237/0435 , H01J2237/057 , H01J2237/24475 , H01J2237/2448
Abstract: 本发明揭示多射束扫描电子显微镜检验系统。多射束扫描电子显微镜检验系统可包含电子源及小射束控制机构。所述小射束控制机构可经配置以利用由所述电子源提供的电子而产生多个小射束且在某个时刻朝向目标递送所述多个小射束中的一者。所述多射束扫描电子显微镜检验系统还可包含检测器，其经配置以至少部分基于反向散射出所述目标的电子而产生所述目标的图像。
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公开(公告)号：CN104428868B
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201380037416.4
申请日：2013-05-08
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/04
CPC classification number: H01J37/3174 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/243 , H01J37/3007 , H01J37/3177 , H01J2237/0264 , H01J2237/0437 , H01J2237/2485 , H01J2237/31754 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及一种在多细射束带电粒子光刻系统中根据图案数据来调制带电粒子细射束的调制装置。该装置包括：板状主体；由多个细射束偏转器组成的阵列；多个电源终端(202至205)，用于供应至少两个不同的电压；多个控制电路；以及导电板条(201)，用于供电给电源终端(202至205)中的一者或多者。该板状主体被分成狭长的射束区(51)以及狭长的非射束区(52)，该射束区(51)与该非射束区(52)被定位成使得它们的长边彼此相邻。细射束偏转器被放置在射束区中。控制电路被放置在非射束区中。导电板条被连接至非射束区中的控制电路。导电板条包括多个薄的导电平板(202至205)。
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公开(公告)号：CN103050361B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201210543969.4
申请日：2012-10-08
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
IPC: H01J37/32
CPC classification number: H01J37/265 , H01J37/045 , H01J37/1472 , H01J37/1474 , H01J37/28 , H01J2237/043 , H01J2237/063 , H01J2237/15 , H01J2237/2487 , H01J2237/2602
Abstract: 一种运行粒子束系统的方法，其包括确定连接至数据网络的束偏转模块的偏转量及偏转时间；确定连接至数据网络的束熄灭模块的不熄灭时间；确定连接至数据网络的束熄灭模块的熄灭时间；产生包括多个数据记录的数据结构，其中每一个数据记录包括表示用于至少一个模块的指令的命令，以及表示将指令发送给数据网络的时间的命令时间；按照命令时间将数据结构的记录分类；基于数据结构，产生一组数字命令；以及以与分类的记录的顺序相应的顺序发送该组的数字命令至网络。
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公开(公告)号：CN106463347A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201480078800.3
申请日：2014-12-22
Applicant: 英特尔公司
Inventor： Y·A·波罗多维斯基 , D·W·纳尔逊 , M·C·菲利普斯
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/682 , G03F9/00 , H01J37/045 , H01J37/3026 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/24578 , H01J2237/30438 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764 , H01L21/0277 , H01L21/31144
Abstract: 说明了适合于互补性电子束光刻(CEBL)的光刻装置以及涉及互补性电子束光刻(CEBL)的方法。在示例中，一种位于电子束工具的平台上的晶圆的实时对准的方法，该方法包含：当电子束工具的电子束列在平台的扫描期间进行写入时，从晶圆的下方图案化特征收集反向散射电子。该收集由放置在电子束列底部处的电子检测器执行。该方法还包含：基于该收集来执行平台相对于电子束列的对准的线性校正。
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公开(公告)号：CN104471669B
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201380037560.8
申请日：2013-05-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/04 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0437 , H01J2237/0453 , H01J2237/31774 , H01J2237/31794
Abstract: 本发明提供了一种带电粒子多子束光刻系统，包括用于生成子束的子束发生器、用于形成经调节子束的子束调制器，以及用于将经调制子束投影至目标表面上的子束投影器。发生器、调制器和/或投影器包括一个或多个设置有孔径的板，其孔径使子束通过板。孔径被分组，以形成波束区域，其区别于无子束孔径的非波束区域。具有孔径的板中至少一个设置有冷却配置(93)，冷却配置被部署在其非波束区域中表面上。冷却配置包括板形主体，其具有用于接收冷却液体的入口(31)、用于在其中运送冷却液体的多个冷却通路(94)，以及用于移除冷却液体的出口(35)。在冷却通路之间，板形主体具有与波束区域对准的缝隙(34)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN105372944A
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201410829755.2
申请日：2014-12-26
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H01J37/3177 , H01J37/045 , H01J37/10 , H01J37/12 , H01J37/20 , H01J2237/0435 , H01J2237/1205
Abstract: 本发明公开了用于带电粒子多束光刻系统的装置。该装置包括多个带电粒子双合透镜，每个双合透镜均具有第一孔径并且均配置为缩小入射在第一孔径上的细光束，从而产生缩小的细光束。该装置还包括多个带电粒子透镜，每个带电粒子透镜均与带电粒子双合透镜中的一个相关，每个带电粒子透镜均具有第二孔径，并且每个带电粒子透镜均配置为从相关的带电粒子双合透镜接受缩小的细光束并且实现以下两种状态中的一种：开启状态，其中允许缩小的细光束沿着期望的路径传输，以及关闭状态，其中阻止缩小的细光束沿着期望的路径传输。在实施例中，第一孔径大于第二孔径，从而改进带电粒子多束光刻系统中的粒子束效率。
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公开(公告)号：CN102668015B
公开(公告)日：2015-06-17
申请号：CN201080048345.4
申请日：2010-10-26
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/317 , H01J37/04
CPC classification number: H01J37/3177 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/07 , H01J37/3174 , H01J2237/0262 , H01J2237/0435 , H01J2237/0437 , H01J2237/31774
Abstract: 本发明涉及一种用于带电粒子多子射束光刻系统中的调节装置。该装置包括包含互连结构(100)的本体，该互连结构设置有多个调节器及在所述互连结构内的不同层次处的互连，所述互连用于实现所述调节器与一个或多个图案数据接收组件的连接。一个调节器包括第一电极(132)，第二电极(134)，及延伸通过所述本体的孔(135)。所述电极位于所述孔的相对侧上以用于横越所述孔产生电场。所述第一电极和所述第二电极中的至少一个包括形成于所述互连结构的第一层次处的第一导电组件(110)，和形成于所述互连结构的第二层次处的第二导电组件(110)。所述第一导电组件与所述第二导电组件彼此电连接。
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公开(公告)号：CN104471669A
公开(公告)日：2015-03-25
申请号：CN201380037560.8
申请日：2013-05-14
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
IPC: H01J37/04 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/045 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/0437 , H01J2237/0453 , H01J2237/31774 , H01J2237/31794
Abstract: 本发明提供了一种带电粒子多子束光刻系统，包括用于生成子束的子束发生器、用于形成经调节子束的子束调制器，以及用于将经调制子束投影至目标表面上的子束投影器。发生器、调制器和/或投影器包括一个或多个设置有孔径的板，其孔径使子束通过板。孔径被分组，以形成波束区域，其区别于无子束孔径的非波束区域。具有孔径的板中至少一个设置有冷却配置(93)，冷却配置被部署在其非波束区域中表面上。冷却配置包括板形主体，其具有用于接收冷却液体的入口(31)、用于在其中运送冷却液体的多个冷却通路(94)，以及用于移除冷却液体的出口(35)。在冷却通路之间，板形主体具有与波束区域对准的缝隙(34)。
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公开(公告)号：CN103858211A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201280048943.0
申请日：2012-09-27
Applicant: 株式会社PARAM
Inventor： 安田洋
IPC: H01L21/027 , H01J37/305
CPC classification number: H01J37/147 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/045 , H01J37/3007 , H01J37/3026 , H01J37/3177 , H01J2237/0437 , H01J2237/31762 , H01J2237/31764 , H01J2237/31774 , H01J2237/3175
Abstract: 本发明形成间隔为波束尺寸整数倍的二维平面内的正方形格栅矩阵波束群，通过位映像信号打开/关闭待光刻的元件的网格，修整希望的波束形状，将波束偏向于需要位置，波束状态稳定后，打开全体遮光器，通过照射波束而获得高精度且高速的光刻图案。提供给各波束的打开/关闭信号和向量扫描信号，在波束稳定后，解除全体遮光器，并且从而以少数数据量进行高精度、高速的光刻。当全体拍摄数量超过一定值时，修改图案数据并且实现高速光刻。半导体反偏压PN结技术被优选地用于个别遮光电极。
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公开(公告)号：CN101636811A
公开(公告)日：2010-01-27
申请号：CN200780049064.9
申请日：2007-12-20
Applicant: 艾克塞利斯科技公司
IPC: H01J37/08 , H01J37/248 , H01J37/302
CPC classification number: H01J37/248 , H01J37/045 , H01J37/3023 , H01J37/3171 , H01J2237/0206 , H01J2237/0213 , H01J2237/0432 , H01J2237/08
Abstract: 本发明公开一种射束控制电路和方法，通过减小离子束的工作因数以最小化离子植入系统内颗粒污染。在一个实施例中，射束控制电路包括与电源及离子植入系统的离子源部分相串联的高压开关，其中，开关可被操作以中断或重新建立电源与离子源的电极之间的连接，电极包括用于产生等离子体的电极。射束控制电路还包括开关控制器，其可操作地通过控制开关在离子植入开始之前闭合并且控制开关在植入完成之后或在不需要射束的其它时间断开，以控制离子束的工作因数，从而最小化射束工作因数和颗粒污染。射束控制技术可被应用于晶片掺杂植入和减小工作因数。用于高压开关的保护电路吸收来自电抗元件的能量并且钳止任何过电压。
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