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公开(公告)号:CN101499398B
公开(公告)日:2012-06-27
申请号:CN200810181897.7
申请日:2008-11-21
Applicant: FEI公司
CPC classification number: H01J37/263 , H01J37/265 , H01J37/28 , H01J2237/2802 , H01J2237/2803 , H01J2237/2809
Abstract: 本发明揭示了用于扫描透射电子显微镜(STEM)的方法。在STEM中,用电子聚焦束(2)扫描样本(1)。跨接直径(3)能低到0.1nm。本领域普通技术人员了解,跨接直径取决于射束的孔径半角α。因此,为了获得最佳分辨率,选取跨接直径R(α)最小处的孔径半角。然而,对于厚样本而言,在样本远离跨接平面那些部分的分辨率被射束的会聚限制,从而产生了在样本表面的射束直径D。根据本发明,孔径角被选取,用以通过选择小于最佳孔径半角的孔径半角来平衡会聚和跨接直径的作用。然后射束有效地扫描样本,该射束具有在与透射粒子必须穿过的样本材料的长度L相等的长度范围内基本恒定的直径。
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公开(公告)号:CN101606215A
公开(公告)日:2009-12-16
申请号:CN200780046842.9
申请日:2007-12-13
Applicant: 于利奇研究中心有限公司
IPC: H01J37/26
CPC classification number: H01J37/263 , H01J2237/2823
Abstract: 本发明涉及电子显微镜和测量电子显微镜的散焦散布或极限分辨率的方法。它利用这样的情况:在倾斜照射下,电子显微镜的可能存在的像差和散焦散布会使衍射图中的强度分布发生依赖于方向的改变。特别是,衍射图的包络会依赖于方向地变窄。如果电子束的倾斜和可能存在的像差这二者均为已知,则假设为高斯焦点分布,则该电子显微镜的散焦散布就成为影响强度分布中依赖于方向的变化的唯一的未知参数。从这些变化可得出关于该散焦散布的定量结果。根据这种依赖于方向的变窄,还能够在没有任何模型和关于其形式的先验假设的条件下确定焦点分布。因而,电子显微镜的极限分辨率可被确定。
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公开(公告)号:CN101510492A
公开(公告)日:2009-08-19
申请号:CN200910006670.3
申请日:2009-02-13
Applicant: FEI公司
IPC: H01J37/26 , H01J37/153
CPC classification number: H01J37/153 , H01J37/263 , H01J2237/2614
Abstract: 本发明涉及具有像差校正器和相位板的透射电子显微镜(TEM)。本发明涉及一种具有用于改善图像质量的校正器(330)和用于改善对比度的相位板(340)的TEM。经改善的TEM包括被完全置于物镜与相位板之间的校正系统,并且使用校正器的透镜在相位板上形成衍射平面的放大图像。
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公开(公告)号:CN1305100C
公开(公告)日:2007-03-14
申请号:CN02802988.7
申请日:2002-07-19
Applicant: 皇家菲利浦电子有限公司
Inventor: P·迪尔克森 , R·J·G·埃尔夫林克 , C·A·H·于费尔曼斯
CPC classification number: H01J37/28 , H01J37/263 , H01J2237/2823
Abstract: 扫描电子显微镜(SEM)(10)的性能通过以SEM扫描多孔硅表面区域(PSF、PSC)、计算表面区域的图象的傅立叶变换频谱(Fc)并在零信噪比(SNR)的情况下从频谱的宽度(W(1/e))、信号振幅(Sa)和噪声偏移外推分辨率(R)而被测定出来,其中,每个多孔硅表面区域都具有不同的平均微孔尺寸。提供有不同的表面区域的测试样本通过在恒定电流下阳极氧化硅衬底(Su)、同时持续减少衬底暴露在蚀刻电解液(EL)中的区域而得到。
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公开(公告)号:CN1602537A
公开(公告)日:2005-03-30
申请号:CN02824633.0
申请日:2002-10-09
Applicant: 应用材料以色列有限公司
IPC: H01J37/147
CPC classification number: H01J37/1471 , H01J37/153 , H01J37/22 , H01J37/263 , H01J37/265 , H01J37/304 , H01J2237/045 , H01J2237/1501 , H01J2237/1532 , H01J2237/216 , H01J2237/221
Abstract: 一种快速改变带电粒子束焦距的设备和方法,该方法包括步骤:改变控制信号以响应控制信号电压值与带电粒子束焦距之间的关系。
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公开(公告)号:CN104681383B
公开(公告)日:2018-04-13
申请号:CN201410660475.3
申请日:2014-11-19
IPC: H01J37/26 , H01J37/153
CPC classification number: H01J37/263 , B08B7/00 , H01J37/26 , H01J2237/022 , H01J2237/2614
Abstract: 本发明涉及一种用于清洁用于透射式电子显微镜的相位板(1)的方法,其中,在第一次在TEM中照射之前对所述相位板进行蚀刻,并且然后保持在超高纯保持气氛中直至TEM中的照射为止。
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公开(公告)号:CN106415774B
公开(公告)日:2017-12-15
申请号:CN201580027482.2
申请日:2015-05-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/22
CPC classification number: H01J37/265 , H01J37/244 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J2237/221 , H01J2237/24592 , H01J2237/2809 , H01J2237/2817
Abstract: 为了能够高速地拍摄关注区域是高画质、并且其以外的区域也是足够观察的画质的宽视野图像,在使用电子显微镜装置的拍摄方法中,向试料的宽视野区域以低剂量照射聚束的电子束并扫描而取得试料的宽视野图像;从该宽视野图像中设定包含在宽视野区域的内部中的较窄的视野的窄视野区域;向该窄视野区域以高剂量照射聚束的电子束并扫描而取得试料的窄视野图像;根据每像素的剂量决定所取得的宽视野图像和窄视野图像的噪声除去参数,基于该噪声除去参数进行宽视野图像和窄视野图像的画质改善处理;使用实施该画质改善处理后的宽视野图像对实施画质改善处理后的窄视野图像进行漂移修正;将进行该漂移修正后的窄视野图像和宽视野图像进行合成,以使合成图像的全部区域中的辨识性为相同程度。
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公开(公告)号:CN106653537A
公开(公告)日:2017-05-10
申请号:CN201610729771.3
申请日:2016-08-26
Applicant: FEI 公司
CPC classification number: H01J37/28 , H01J37/05 , H01J37/14 , H01J37/22 , H01J37/263 , H01J2237/057 , H01J2237/1534 , H01J2237/2802 , H01J37/261 , H01J37/265
Abstract: 本发明公开具有增强的能量范围的柱后滤波器。本发明涉及针对(扫描)透射电子显微镜((S)TEM)的柱后过滤器(PCF)。传统上,这些过滤器使用在EFTEM和EELS模式二者中同样的在狭缝平面之前的光学元件的激发。尽管这便于本领域中的技术人员开发和调谐PCF的任务,由于其将自由度数目减少到可管理的数量。发明人发现用来确定针对EELS模式的狭缝平面之前的光学元件的设置,其与EFTEM模式不同,并且其中PCF在EELS模式中的性能改进(特别地是可以被成像的相对能量范围),而没有使PCF在EFTEM模式中的性能降级。
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公开(公告)号:CN106415774A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201580027482.2
申请日:2015-05-27
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/22
CPC classification number: H01J37/265 , H01J37/244 , H01J37/263 , H01J37/28 , H01J2237/221 , H01J2237/24592 , H01J2237/2809 , H01J2237/2817
Abstract: 为了能够高速地拍摄关注区域是高画质、并且其以外的区域也是足够观察的画质的宽视野图像,在使用电子显微镜装置的拍摄方法中,向试料的宽视野区域以低剂量照射聚束的电子束并扫描而取得试料的宽视野图像;从该宽视野图像中设定包含在宽视野区域的内部中的较窄的视野的窄视野区域;向该窄视野区域以高剂量照射聚束的电子束并扫描而取得试料的窄视野图像;根据每像素的剂量决定所取得的宽视野图像和窄视野图像的噪声除去参数,基于该噪声除去参数进行宽视野图像和窄视野图像的画质改善处理;使用实施该画质改善处理后的宽视野图像对实施画质改善处理后的窄视野图像进行漂移修正;将进行该漂移修正后的窄视野图像和宽视野图像进行合成,以使合成图像的全部区域中的辨识性为相同程度。
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公开(公告)号:CN106104744A
公开(公告)日:2016-11-09
申请号:CN201580013749.2
申请日:2015-01-21
Applicant: 拉莫特特拉维夫大学有限公司
CPC classification number: H01J37/153 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J37/263 , H01J2237/1532 , H01J2237/1534 , H01J2237/2614
Abstract: 提供一种调节一电子束的方法。所述方法包括通过一相位掩模发送一波束,所述相位掩模选择成在所述波束的一横截面上空间地调节所述波束的一相位。
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