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    Procédé de correction des effets de proximité électronique utilisant des fonctions de diffusion decentrees
    52.
    发明公开
    Procédé de correction des effets de proximité électronique utilisant des fonctions de diffusion decentrees 有权
    一种用于通过使用非中心扩散函数校正电子邻近效应的方法

    公开(公告)号：EP2560187A1

    公开(公告)日：2013-02-20

    申请号：EP12179945.6

    申请日：2012-08-09

    Applicant: COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES ,  Aselta Nanographics

    Inventor： Schiavone, Patrick ,  Figueiro, Thiago

    IPC: H01J37/317 ,  H01J37/22

    CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/2061 ,  H01J3/12 ,  H01J37/222 ,  H01J2229/563 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/31769

    Abstract: L'invention s'applique à un procédé de projection d'un faisceau électronique (100) utilisé notamment en lithographie par écriture directe ou indirecte ainsi qu'en microscopie électronique. Notamment pour les dimensions critiques ou résolutions inférieures à 50 nm, les effets de proximité créés par la diffusion vers l'avant (150) et vers l'arrière (160) des électrons du faisceau en interaction avec la cible (110) doivent être corrigés. On utilise traditionnellement pour ce faire la convolution d'une fonction d'étalement de point avec la géométrie de la cible. Dans l'art antérieur, ladite fonction d'étalement de point est centrée sur le faisceau et utilise des lois de distribution gaussiennes ou exponentielle. Selon l'invention, au moins une des composantes de la fonction d'étalement de point n'est pas centrée sur le faisceau, la fonction d'étalement de point comprend donc au moins une fonction dont la valeur maximale n'est pas localisée au centre du faisceau. Préférentiellement, elle est centrée sur le pic de diffusion vers l'arrière. Avantageusement, la fonction d'étalement de point utilise des lois de distribution gamma.

    Abstract translation: 该方法通过计算点扩散函数涉及一个电子束（100）的向前和向后散射的校正效果即 的高斯和伽马函数，其中，点扩展函数包括：函数的线性组合，即 伽马分布函数，它的一个最大值不位于电子束和位于电子束的后方散射峰另一个最大值的中心部分，并与位于电子的中心部分的最大值的另一种功能 光束来建模前向散射。 因此独立权利要求中包括了以下内容：（1）一种非临时计算机可读介质，包括一组电子光刻系统（3）的指令，以模拟或正向正确效应和后向散射的电子束（2）的 系统用于模拟电子显微镜系统电子光刻（4）。

    CATHODE ASSEMBLY FOR A LINE FOCUS ELECTRON BEAM DEVICE
    53.
    发明授权
    CATHODE ASSEMBLY FOR A LINE FOCUS ELECTRON BEAM DEVICE 失效
    阴极装置与线聚焦电子器件

    公开(公告)号：EP0880791B1

    公开(公告)日：2002-04-17

    申请号：EP96945292.9

    申请日：1996-12-26

    Applicant: Ushio International Technologies, Inc.

    Inventor： WAKALOPULOS, George

    IPC: H01J29/70 ,  H01J29/74 ,  H01J29/46 ,  H01J33/02 ,  H01J3/12

    CPC classification number: H01J3/12 ,  H01J33/02

    Abstract: An electron beam device (10) has a cathode (34) that generates a fan-shaped electron beam. A first focusing lens (44, 46, 48, 50) includes first (48) and second (50) plates on opposed sides of a filament. The edges of the plates closest to a positively charged anode (20) are arcuate, so that as individual electrons are accelerated normal to the edge of the charged plates, the beam (60) increases in length with departure from the filament. A second focusing lens includes third (44) and fourth (46) plates on opposed sides of the first focusing lens. Each of the third and fourth plates has an arcuate edge proximate to the positively charged anode. The plates of the first and second focusing lenses provide focusing in a widthwise direction, while defining the increase in the lengthwise direction. The curvature of the plates of the first focusing lens defines a common radius with the plates of the second focusing lens.

    Charged particle optical systems having therein means for correcting aberrations
    54.
    发明公开
    Charged particle optical systems having therein means for correcting aberrations 失效
    Optisches Systemfürgeladene Teilchen mit Vorrichtung zur Korrektur der Aberration。

    公开(公告)号：EP0255981A1

    公开(公告)日：1988-02-17

    申请号：EP87305696.4

    申请日：1987-06-25

    Applicant: KRATOS ANALYTICAL LIMITED ,  VSW SCIENTIFIC INSTRUMENTS LTD.

    Inventor： King George Christopher ,  Read, Frank Henry

    IPC: H01J3/12 ,  H01J1/46 ,  H01J49/22

    CPC classification number: H01J49/22 ,  H01J3/12 ,  H01J49/06 ,  H01J49/20 ,  H01J49/48

    Abstract: A charged particle optical system, e.g. an energy or mass analyser or a lens system, has a plurality of corrector electrodes (20 to 23) spaced apart across a particle beam passing from a monoenergetic source (4) to a focus (6) and dividing the beam into individual portions with central trajectories (30,31,32) the connector electrodes being electrically biassed to deflect the particles of the beam so as to reduce the aberration caused by portions with central trajectories intersecting the optical axis at different distances from the desired focus.

    Abstract translation: 带电粒子光学系统，例如 能量或质量分析器或透镜系统具有跨越从单能源（4）到聚焦（6）的粒子束间隔开的多个校正电极（20至23），并将光束分成具有中心的单独部分 轨迹（30,31,32），连接器电极被电偏压以偏转光束的粒子，以便减少由具有与期望焦点不同距离处的光轴相交的中心轨迹的部分引起的像差。

    Method for correcting electronic proximity effect by using off-centered scattering function
    56.
    发明专利
    Method for correcting electronic proximity effect by using off-centered scattering function 有权
    通过使用非中心散射函数来校正电子近似效应的方法

    公开(公告)号：JP2013042137A

    公开(公告)日：2013-02-28

    申请号：JP2012179458

    申请日：2012-08-13

    Applicant: Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives ,  コミシリア ア レネルジ アトミック エ オ エナジーズ オルタネティヴズ ,  Aselta Nanographics ,  アセルタ ナノグラフィクス

    Inventor： PATRIK SCHIAVONE ,  FIGUEIRO THIAGO

    IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28

    CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/2061 ,  H01J3/12 ,  H01J37/222 ,  H01J2229/563 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/31769

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for correcting an electronic proximity effect by using an off-centered scattering function.SOLUTION: The present invention discloses a method of projecting an electron beam, which is used in especially direct or indirect drawing lithography and an electron microscope examination. Especially in the case of limit dimension or resolution below 50 nm, a proximity effect caused by front and back scattering of electrons in a beam interacting a target should be corrected. For the correction, convolution integration of a point spread function with respect to a shape of the target is used conventionally. A conventional technology has the point spread function whose center is at the center of the beam, and uses a Gaussian function or exponential distribution law. In the present invention, at least one component of the point spread function has a maximum value whose position is not at the center of the beam. Preferably the maximum value is positioned at a back scattering peak. Advantageously, a gamma distribution law is used for the point spread function.

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种通过使用偏心散射函数来校正电子接近效应的方法。 解决方案：本发明公开了一种投影电子束的方法，特别用于直接或间接绘制光刻和电子显微镜检查。 特别是在极限尺寸或分辨率低于50nm的情况下，应当纠正由相互作用的光束中的电子的前后散射引起的邻近效应。 对于校正，常规地使用点扩散函数相对于目标的形状的卷积积分。 传统技术具有中心在光束中心的点扩散函数，并使用高斯函数或指数分布定律。 在本发明中，点扩散函数的至少一个分量具有位置不在波束中心的最大值。 优选地，最大值位于后向散射峰。 有利地，伽马分布定律用于点扩散函数。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

    오프-센터 산란 함수를 이용한 전자 근접 효과 교정 방법
    57.
    发明公开
    오프-센터 산란 함수를 이용한 전자 근접 효과 교정 방법 审中-实审
    使用非中心散射函数校正电子近似效应的方法

    公开(公告)号：KR1020130019357A

    公开(公告)日：2013-02-26

    申请号：KR1020120089223

    申请日：2012-08-16

    Applicant: 꼼미사리아 아 레네르지 아토미끄 에뜨 옥스 에너지스 앨터네이티브즈 ,  아셀타 나노그라픽

    Inventor： 시아본,파트릭 ,  피귀에로,티아고

    IPC: H01J37/22 ,  H01L21/027

    CPC classification number: H01J37/3174 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/2061 ,  H01J3/12 ,  H01J37/222 ,  H01J2229/563 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/31769 ,  H01L21/0275

    Abstract: PURPOSE: Electron proximity effect correcting method using off-center scattering function is provided to solve a problem of proximity effect modeling deviation by using a model type of PSF without having a peak. CONSTITUTION: A convolution of a point spread function of geometrical shapes of a target is used. A point spread function is concentrated on a beam. The point spread function uses Gaussian or exponential distribution law. One or more elements of the point spread function have a maximum value which is not positioned in the center of the beam. The maximum value is positioned at the rear scattering peak. The point spread function uses gamma distribution law. [Reference numerals] (AA) Absorbed energy(u,a)

    Abstract translation: 目的：提供使用离散散射函数的电子近距离效应校正方法，通过使用模型类型的PSF来解决邻近效应建模偏差的问题，而不具有峰值。 构成：使用目标的几何形状的点扩散函数的卷积。 点扩散函数集中在光束上。 点扩散函数使用高斯或指数分布定律。 点扩散函数的一个或多个元素具有不位于光束中心的最大值。 最大值位于后散射峰。 点扩散函数使用伽玛分布法。 （标号）（AA）吸收能（u，a）

    성형 오프셋 조정 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치
    58.
    发明公开
    성형 오프셋 조정 방법 및 하전 입자빔 묘화 장치 有权
    形成偏移调整方法和充电粒子束写入装置

    公开(公告)号：KR1020130111419A

    公开(公告)日：2013-10-10

    申请号：KR1020130034153

    申请日：2013-03-29

    Applicant: 가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지

    Inventor： 나카야마타카히토

    IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

    CPC classification number: H01J3/12 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3174 ,  H01J2237/30433 ,  H01J2237/31776 ,  H01L21/0274 ,  G03F1/20 ,  G03F7/2059

    Abstract: PURPOSE: A shaping offset adjusting method and a charged particle writing apparatus are provided to reduce shaping offset adjusting errors by performing fitting using a third polynomial. CONSTITUTION: A control unit (3) includes a deflection controller (32), a detector (36), and a control calculator (31). The deflection controller controls the deflection of a charged particle beam. The detector measures a current value of the charged particle beam and includes a Faraday cup. A control calculator controls the deflection controller and a stage. [Reference numerals] (31a) Data processor; (31b) Setting unit; (31c) Calculation unit; (31d) Determination unit; (32) Deflection controller; (32a) Correction unit; (33) Blanking amplifier; (34,35) DAC amplifier; (36) Detector; (37) Memory; (39) External I/F

    Abstract translation: 目的：提供成形偏移调整方法和带电粒子写入装置，以通过使用第三多项式进行拟合来减少成形偏移调整误差。 构成：控制单元（3）包括偏转控制器（32），检测器（36）和控制计算器（31）。 偏转控制器控制带电粒子束的偏转。 检测器测量带电粒子束的电流值，并包括法拉第杯。 控制计算器控制偏转控制器和舞台。 （附图标记）（31a）数据处理器; （31b）设定单位; （31c）计算单位; （31d）确定单位; （32）变形控制器; （32a）校正单元; （33）消隐放大器 （34,35）DAC放大器; （36）检测器; （37）记忆; （39）外部I / F

    전자빔 확산 단면 수정 장치 및 방법
    59.
    发明公开
    전자빔 확산 단면 수정 장치 및 방법 有权
    电子束扩散和交叉截面形状方法和装置

    公开(公告)号：KR1020160032715A

    公开(公告)日：2016-03-24

    申请号：KR1020157037295

    申请日：2014-10-17

    Applicant: 화중과기대

    Inventor： 후앙,지앙 ,  판,밍우 ,  유,티아오친 ,  장,리게 ,  주오,첸 ,  양,준 ,  시옹,용치안 ,  리우,카이펭 ,  우,제랄드에프. ,  카오,레이

    IPC: G21K5/04 ,  G21K1/093

    CPC classification number: H01J37/143 ,  G21K1/093 ,  G21K5/04 ,  H01J3/12 ,  H01J33/00 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/0835 ,  H01J2237/1405 ,  H01J2237/152

    Abstract: 본발명은일의종전자빔확산단면수정장치및 그방법을제공하는바, 구체적으로: 2개조의영구자성철을포함한다. 제1조영구자성철로구성된자기장이전자빔을근사한타원형으로확산시키고, 제2조영구자성철로구성된자기장은전자빔변두리에대한수정을하여근사한직사각형을형성한다. 4개의종향포지션연결장치에대한조작을통해제1조영구자성철의상, 하마그네틱요크를그들사이의중심을향해동기화로이동시키고, 타원형과근사한전자빔에대한 1차종향압축을하며, 이어서제2조영구자성철의상, 하마그네틱요크를그들사이의중심을향해동기화로이동시키고, 직사각형과근사한전자빔에대해전자빔종향사이즈가 80mm로압축될때까지 2차종향압축을계속한다. 본발명은확산후의전자빔종향사이즈에대한합리한압축을통해최고의조사균일도와조사효율을보장하는외에종래의티타늄윈도우의설정범위내에서유지할수도있다.

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