公开(公告)号：KR1020020055429A

公开(公告)日：2002-07-08

申请号：KR1020010086491

申请日：2001-12-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도나오키 ,  이이노타다시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/6708 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and a substrate processing method are provided to improve a processing efficiency. CONSTITUTION: The substrate processing apparatus includes a processing container(10) in which wafers(W) are processed, a wafer guide(20) for holding the wafers(W) in the processing container(10), a steam supplier(30) for supplying the processing container(10) with steam, an ozone-gas supplier(40) for supplying the processing container(10) with ozone(O3) gas. The substrate processing apparatus further includes an air supplier(50) for supplying the processing container(10) with air, interior exhausting means(60) for exhausting an atmosphere inside the processing container(10), circumferential-atmosphere discharging means(70) for exhausting an atmosphere around the processing container(10), The substrate processing apparatus further comprises an ozone killer(80) for eliminating ozone in the interior atmosphere discharged from the processing container(10) and discharge means(90) for draining dewdrops in the processing container(10).

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置和基板处理方法，以提高处理效率。 构成：基板处理装置包括处理晶片（W）的处理容器（10），用于将晶片（W）保持在处理容器（10）中的晶片引导件（20），蒸汽供给器（30） 向处理容器（10）供应蒸汽，用于向处理容器（10）供应臭氧（O 3）气体的臭氧气体供应器（40）。 基板处理装置还具备供给处理容器（10）的空气供给装置（50），排出处理容器（10）内的气氛的内部排气装置（60），周向大气排出装置（70） 在处理容器（10）周围排出气氛。基板处理装置还包括用于消除从处理容器（10）排出的内部空气中的臭氧的臭氧消除器（80）和用于在处理容器（10）中排出露珠的排出装置（90） 容器（10）。

公开(公告)号：KR100304146B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980017563

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은, 세정유니트 내에 설치된 반송로보트와의 사이에서 세정 전후의 복수의 피처리기판을 주고받는 반송척과, 이 반송척기구를 내부에서 세정하여 건조하는 세정·건조처리부를 구비하고, 상기 반송척은 복수의 피처리기판을 파지하는 좌우의 가로로드 및 각각을 수평으로 지지하는 세로로드를 가지며, 상기 세정·건조처리부는 세정액을 토출하는 수단 및 건조용 가스를 공급하는 수단을 구비하는 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 가스공급수단은, 상기 각 세로로드의 좌우 양측에 그 하단으로부터 기초부에 걸쳐 각각 세워 설치된 2쌍의 가스배관과, 건조용 가스가 상기 반송척의 가로로드 및 세로로드에 대하여 경사져서 아래쪽으로 향해 분사되도록 상기 가스배관의 전체 길이에 걸쳐 복수로 형성된 가스분사구멍과, 이들 가스분사구멍을 � �지는 상기 각 가스배관을 상기 각 가로로드를 따라 일체적으로 이동시키는 구동수단을 가진다.

公开(公告)号：KR100304145B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019940001233

申请日：1994-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치를 제공한다.
본 발명은, 여러개의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하는 반송척을 세정하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 반송척을 승강시키는 승강기구와, 상기 반송척이 출입할 수 있도록 형성된 상부 개구를 가지는 세정실과, 이 세정실 내에서 상기 반송척의 이동통로 상에 설정된 제 1 위치로 향하여 상기 반송척의 이동통로의 한쪽 혹은 양쪽에 수평으로 일렬 또는 복수열로 배치된 제 1 토출구를 가지는 복수의 세정노즐과, 이들 복수의 세정노즐의 각각으로 세정액을 공급하는 세정액 공급수단과, 상기 세정실내에서 상기 제 1 위치보다 높은 제 2 위치로 각각이 향하고, 또 상기 반송척의 이동통로의 한쪽 혹은 양쪽에 수평으로 일렬 또는 복수열로 배치되고, 중간부에 위치하는 제 2 토출구는 경사져서 아래로 향해 개구하� � 양 끝단부에 위치하는 제 2 토출구는 수직면에 대하여 경사진 방향으로 개구하고 있는 복수의 가스노즐과, 상기 복수의 가스노즐의 각각으로 건조용의 가스를 각각 공급하는 가스공급수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR1019990029657A

公开(公告)日：1999-04-26

申请号：KR1019980037119

申请日：1998-09-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 카미카와유지 ,  신도나오키 ,  키타하라시게노리 ,  야마사카미야코

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 또는 LCD용 유리 기판과 같은 처리용 대상을 약액 또는 순수와 같은 세정액에 침적하여 세정하기 위한 세정처리방법 및 세정처리장치에 관한 것이다. 본 발명은 피처리체를 세정하기 위해 순수에 침적하는 공정과, 그리고 상기 순수에 약액을 주입해서 되는 세정액에서 상기 약액의 농도를 제어하며, 상기 피처리체를 세정하기 위해 상기 세정액에 침적하는 공정을 포함하여, 상기 피처리체가 순수에 침적되어 세정된 후, 약액이 순수에 주입해서 되는 세정액에 상기 피처리체가 침적되어 세정되는 때, 상기 세정액에서의 약액의 농도가 단시간내에 소정농도로 변화될 수 있고, 상기 피처리체에 대한 약액세정효율을 향상시킬 수 있으며, 전 세정에 대한 처리량을 향상시킬 수 있는 세정처리방법 및 그 장치를 제시하고 있다.

公开(公告)号：KR1019960030342A

公开(公告)日：1996-08-17

申请号：KR1019960000944

申请日：1996-01-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도나오키 ,  요코미조겐지

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판세정장치는, 여러개의 웨이퍼가 수용되는 처리조와, 이 처리조내에 세정액을 공급하는 세정액 공급원과, 처리조로부터 흘러넘친 세정액을 다시 처리조내에 되돌리는 제1유로와, 헹굼액을 공급하는 헹굼액 공급원과, 헹굼액이 흘러 통과되는 제2유로와, 제1 및 제2유로의 각각에 연통함과 동시에 처리조의 저부에도 연통하는 공용유로와, 제1유로에 설치된 제1밸브와, 제2유로에 설치된 제2밸브와, 제1유로로부터 분기하여 세정액을 배출하는 배출유로와, 이 배출유로에 설치된 제3밸브와, 제1, 제2 및 제3밸브의 각 동작을 제어하는 제어부를 구비하고 있으며,상기 제1밸브는, 제1유로를 개폐하는 제1밸브체와, 제1유로와 병렬로 설치되고 제1유로보다도 작은 직경의 제3유로와, 이 제3유로를 개폐하는 제2밸브체를 갖고 있으며, 제1밸브체를 개방하고 제2 브체를 폐쇄하고 또한 제3밸브로 폐쇄함에 의해 세정액을 처리조내에 유입시키는 한편, 제1밸브의 제1밸브체를 폐쇄하고 제2밸브체를 개방하고 또한 제3밸브도 개방함에 의해 헹굼액을 처리조내에 유입시킴과 동시에 제1 제3 유로내에 체류하는 세정액을 헹굼액과 함께 배출유로를 통하여 배출한다.