公开(公告)号：KR1019990066686A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980017968

申请日：1998-05-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요코미조겐지 ,  다시마지하야 ,  무카이에이이치 ,  혼다요시유키 ,  하마무라나오히코 ,  무라카미신야 ,  쵸노야스히로

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정처리장치는, 하부에 세정액의 액공급구를 가지는 세정탱크와, 이 세정탱크내에 수용되어 세정액중에 침적되는 피처리체와 상기 액공급구 사이에 배치되는 정류수단을 구비하며, 상기 정류수단은, 상기 세정탱크를 상하로 구획하기 위해 수평으로 배치됨과 동시에 복수의 세정액의 정류구멍을 형성한 정류판과, 상기 액공급구의 상부에 위치하는 분산판으로 구성하고, 상기 정류판으로부터 아래로 향하여 늘어뜨린 세정액의 저류벽을 형성하며, 상기 분산판의 가장자리부로부터 아래로 향하여 늘어뜨린 세정액의 저류벽을 형성함과 동시에 분산판에 세정액의 분산구멍을 형성하여 이루어진다.

公开(公告)号：KR1019930006877A

公开(公告)日：1993-04-22

申请号：KR1019920004018

申请日：1992-03-11

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시오카가즈토시 ,  요코미조겐지 ,  아키모토마사미 ,  요시모토유우지

IPC: H01L21/68

Abstract: 다운플로우중에 배치된 피처리체에 처리를 하는 여러 개의 처리부에, 피처리체를 반송 및 실어서 이송하기 위한 장치는, 처리부간을 이동이 자유롭게 설치된 반송부와, 반송부를 이동시키는 제1구동기구와, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 처리부내에서 소정의 온도로 온도조정된 피처리체에 대하여 사용되는 제1 아암과, 반송부에 이동이 자유롭게 설치되고, 온도조정된 피처리체 이외의 피처리체에 대하여 사용되는 제2아암과, 제1 및 제2아암을 각각 이동시키기 위한 제2 구동기구를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR101107415B1

公开(公告)日：2012-01-19

申请号：KR1020097006957

申请日：2007-08-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미조타쇼고 ,  데루오미미나미 ,  요코미조겐지 ,  마사키다이라

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/02057 ,  Y10S134/902

Abstract: 웨이퍼(W)로부터 막(66) 제거 시에, 처리액 순환 시스템(73, 73')에 배출되는 막 파편량(66a)을 저감시켜, 필터(80) 세척 또는 필터(80) 교체의 빈도를 줄이기 위한 방법이 제공된다. 이 방법은, 기판 처리 시스템(1)의 공정 챔버(46) 내에서 막(66)이 위에 형성되어 있는 웨이퍼(W)를 처리액(64)에 노출시키는 것을 포함하고, 이 경우 웨이퍼(W)는 제1 속도(608a, 908a, 1208a)로 회전하거나 회전하지 않으며, 처리액(64)은 공정 챔버(46)로부터 처리액 순환 시스템(73)에 배출된다. 후속하여, 처리액(64, 64a, 64b)에의 웨이퍼(W)의 노출을 중지하고, 제1 속도(608a, 908a, 1208a)보다 고속인 제2 속도(608b, 908b, 1208b)에서 웨이퍼(W)를 회전시켜 그 웨이퍼(W)로부터 원심력에 의해 막(66)의 파편(66a)을 제거한다. 다음에, 웨이퍼(W)를 같거나 상이한 처리액(64, 64a, 64b)에 노출시키고, 그 처리액(64, 64a, 64b)은 공정 챔버(46)로부터 처리액 배액관(78)에 배출된다.

公开(公告)号：KR100306087B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019930030041

申请日：1993-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요코미조겐지 ,  다시마지하야 ,  무카이에이이치 ,  혼다요시유키 ,  하라무라나오히코 ,  무라카미신야 ,  쵸노야스히로

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 세정 장치는, 여러 개의 기판을 세정하기 위한 세정액이 수용된 세정탱크와, 이 세정탱크내에 여러 개의 기판을 서로 평행하게 유지하는 보호유지부와, 세정탱크의 바닥부에 형성한 액공급구와, 이 액공급구에 연결되어 액공급구를 통하여 세정탱크내에 세정액을 공급하는 액공급 시스템과, 보호유지부에 유지된 여러 개의 기판과 상기 액공급구와의 사이에 설치되고, 세정액을 유통시키기 위한 여러 개의 정류구멍을 가지는 정류판을 가진다. 이들 여러 개의 정류구멍은 기판의 배열을 따라서 직렬로 나란한 여러 개의 열(列)을 형성하고, 각 열의 구멍은 기판에 대하여 하나씩 걸러서 위치하며, 또, 그 인접한 구멍과는 위치가 어긋나도록 배열되어 있다.

公开(公告)号：KR100338534B1

公开(公告)日：2002-09-27

申请号：KR1019940028107

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 피처리체를 수용하는 피처리체 수용영역 및 휘발성의 처리액을 수용하는 처리액 수용영역을 가지며, 처리액을 기화시키기 위한 가열 수단을 구비한 처리조와, 피처리체 본체 수용영역의 아래쪽에 설치되고, 기화된 상기 처리액을 사용하여 상기 피처리체로부터 제거된 수분을 받은 용기와, 용기에 부착되고, 상기 용기로부터의 수분을 처리조의 외부에 배출하는 액 배출관과, 처리조의 피처리체 수용 영역의 위쪽에 설치되고, 기화된 처리액을 응축시키는 냉각 수단을 구비하고, 액 배출관은 개폐밸브를 가지고 있고, 또 상기 개폐밸브보다도 용기에 접근하는 위치에 상기 배기관으로부터 분지된 관을 가지는 기판 건조 장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020000035155A

公开(公告)日：2000-06-26

申请号：KR1019990048110

申请日：1999-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요코미조겐지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A substrate rinsing processor apparatus is provided to prevent particles from being attached again and to remove the dust of remaining processing solution at a surface of a processed substrate by re-rinsing. CONSTITUTION: A substrate rinsing processor apparatus comprises a first container(22a), a second container(22b), and a third container(22c). The first container(22a) contains a processing tank(21) which preserves a processing solution, and the second container(22b) contains a rinsing tank(21A) which preserves rinsing solution. The first container(22a) is disposed adjacent to the second container(22b). The third container(22c) contains a chuck rinsing part(16a), and is disposed adjacent to the first container(22a). Air between the first to third containers(22a-22c) and a filter unit is separated from an external wall of the substrate rinsing processor apparatus.

Abstract translation: 目的：提供一种基板漂洗处理装置，以防止再次附着颗粒，并通过再冲洗去除处理基板表面的剩余处理液的灰尘。 构成：衬底冲洗处理装置包括第一容器（22a），第二容器（22b）和第三容器（22c）。 第一容器（22a）包含保存处理溶液的处理罐（21），第二容器（22b）包含保存漂洗溶液的漂洗槽（21A）。 第一容器（22a）设置成与第二容器（22b）相邻。 第三容器（22c）包含卡盘清洗部（16a），并且与第一容器（22a）相邻配置。 在第一至第三容器（22a-22c）和过滤器单元之间的空气与衬底漂洗处理器设备的外壁分离。

公开(公告)号：KR1019950012610A

公开(公告)日：1995-05-16

申请号：KR1019940028107

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  모쿠오쇼리 ,  요코미조겐지 ,  미나미데루오미

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  F26B21/145

Abstract: 본발명은피처리체를수용하는피처리체수용영역및 휘발성의처리액을수용하는처리액수용역역을가지며, 처리액을기화시키기위한가열수단을구비한처리조와, 피처리체본체수용영역의아래쪽에설치되고, 기화된상기처리액을사용하여상기피처리체로부터제거된수분을받은용기와, 용기에부착되고, 상기용기로부터의수분을처리조의외부에배출하는액배출관과, 처리조의피처리체수용영역의위쪽에설치되고, 기화된처리액을응축시키는냉각수단을구비하고, 액배출관은개폐밸브를가지고있고, 또상기개폐밸브보다도용기에접근하는위치에상기배기관으로부터분지된관을가지는기판건조장치를제공한다.

Abstract translation: 安装在处理量的底部，本发明具有一个服务站，具有加热装置，用于汽化该处理液处理槽和，待治疗受试者的身体接收区域，用于接收所述对象的接收区域和波动，用于接收所述对象的处理液中要被处理 并且使用蒸发要处理的处理液体在容器接收来自所述对象的除水附接时，容器中，所述液体排出管的排出到容器robuteoui水处理罐外，该处理套工件容纳区的顶部 被安装在，包括：冷却装置，用于冷凝所述蒸发的处理液，和液体排出管上设置具有在位置从排气管支管的基板干燥装置，且具有开闭阀，并进入容器比开闭阀的 的。

公开(公告)号：KR100239942B1

公开(公告)日：2000-01-15

申请号：KR1019960000944

申请日：1996-01-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도나오키 ,  요코미조겐지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67781 ,  Y10S134/902 ,  Y10S414/137

Abstract: 기판세정장치는, 여러개의 웨이퍼가 수용되는 처리조와, 이 처리조내에 세정액을 공곱하는 세정액 공급원과, 처리조로부터 흘러넘친 세정액을 다시 처리조내에 되돌리는 제1유로와, 헹굼액을 공급하는 헹굼액 공급원과, 헹굼액이 흘러 통과되는 제2유로와, 제1및 제2유로의 각각에 연통함과 동시에 처리조의 저부에도 연통하는 공용유로와, 제1유로에 설치된 제1밸브와, 제2유로에 설치된 제2밸브와, 제1유로로부터 분기하여 세정액을 배출하는 배출유로와, 이 배출유로에 설치된 제3밸브와, 제1, 제2 및 제3밸브의 각 동작을제어하는 제어부를 구비하고 있으며, 상기 제1밸브는, 제1유로를 개폐하는 제1밸브체와, 제1유로와 병렬로 설치되고 제1유로보다도 작은 직경의 제3유로와, 이 제3유로를 개폐하는 제2밸브체를 갖고 있으며, 제1밸브체를 개방하고 제2� �브체를 폐쇄하고 또한 제3밸브도 폐쇄함에 의해 세정액을 처리조내에 유입시키는 한편, 제1밸브의 제1밸브체를 폐쇄하고 제2밸브체를 개방하고 또한 제3밸브도 개방함에 의해 헹굼액을 처리조내에 유입시킴과 동시에 제1, 제3유로내에 체류하는 세정액을 헹굼액과 함께 배출유로를 통하여 배출한다.

公开(公告)号：KR1019990066687A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980017969

申请日：1998-05-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요코미조겐지 ,  다시마지하야 ,  무카이에이이치 ,  혼다요시유키 ,  하마무라나오히코 ,  무라카미신야 ,  쵸노야스히로

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 세정 장치는, 바닥부에 세정액을 도입하는 액공급구를 가지고 세정할 피처리체를 수용하는 세정탱크와, 상기 세정탱크의 바닥부로부터 이격시켜 설치함과 동시에 상기 세정액이 통과하는 다수의 정류구멍을 가지며, 상기 액공급구로부터 도입된 세정액을 정류하면서 상기 피처리체쪽으로 흐르게 하는 정류판을 구비하며, 상기 세정탱크의 바닥부의 양쪽은, 비스듬하게 경사진 바닥 경사부를 가지고, 상기 정류판은 상기 바닥부의 중심부에 대응하여 수평으로 이루어진 수평정류부와, 이 수평정류부의 양측에 형성되어 상기 바닥 경사부에 대응하여 비스듬하게 경사진 경사정류부를 가지고, 상기 액공급구의 상부에는, 상기 액공급구로부터 도입되는 상기 세정액을 상기 정류판 하부의 전면을 향하여 분산시키는 분산판이 설치되어 있다.

公开(公告)号：KR100163362B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019930003225

申请日：1993-03-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요코미조겐지 ,  다나카오사무 ,  모쿠오쇼오리

IPC: H01L21/304

Abstract: 복수의 웨이퍼를 세정하는 세정장치에 사용되는 처리조이다. 처리조는 세정액공급원과, 순환펌프와, 필터와, 입구를 바닥부에 가지는 주조와, 복수의 웨이퍼를 주조의 중앙영역에 유지하는 보우트와, 입구와 기판의 사이에 형성된 정류어셈블리를 구비하고 있다. 정류어셈블리는, 상기 입구로부터의 세정액을 수평방향으로 분산시키는 분산판과, 입구로부터 유입된 세정액을 실질적으로 층류로 하고, 층류화한 세정액을 주조의 중앙영역으로 유도하는 유도유로를 가진다. 유도유로는, 분산판 및 측면판의 상호간극, 또는 분산판의 다수의 구멍에 의하여 형성된다. 이와같은 유도유로에 의하여 웨이퍼의 상호간 공간에 세정액의 대부분을 저극적으로 통하여 흐르게 한다. 또한, 정류어셈블리는, 웨이퍼의 주변 영역에 흐르는 세정액의 양을 억제하기 위한 유량억제부를 가진다.