公开(公告)号：KR1019940018925A

公开(公告)日：1994-08-19

申请号：KR1019940001233

申请日：1994-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR100304147B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980017564

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은, 복수의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하기 위한 한쌍의 아암부재를 가진 반송척을 세정ㆍ건조처리하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 한쌍의 아암부재 중에서 적어도 한쪽이 출입하도록 상부 개구를 가지는 처리탱크와, 이 처리탱크 내에서 세정액을 토출하도록 설치된 세정노즐과, 상기 처리탱크 내에서 건조용 가스를 분사하도록 설치된 가스노즐과, 상기 반송척이 상기 상부 개구를 통하여 상기 처리탱크 내로 출입하도록, 상기 반송척과 상기 처리탱크를 상대적으로 상하방향으로 이동시키는 승강수단과, 이 승강수단에 의해 상기 반송척이 상기 처리탱크에 대하여 상대적으로 상승되었을 때에 상기 세정노즐이 세정액을 상기 척부재로 향하여 분사함과 동시에 상기 가스노즐이 건조용 가스를 상� � 척부재로 향하여 분사하도록, 상기 승강수단, 세정노즐 및 가스노즐의 각 동작을 제어하는 수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR1019990066685A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980017564

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은 복수의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하기 위한 한쌍의 아암부재를 가진 반송척을 세정·건조처리하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 한쌍의 아암부재 중에서 적어도 한쪽이 출입하도록 상부 개구를 가지는 처리탱크와, 이 처리탱크 내에서 세정액을 토출하도록 설치된 세정노즐과, 상기 처리탱크 내에서 건조용 가스를 분사하도록 설치된 가스노즐과, 상기 반송척이 상기 상부 개구를 통하여 상기 처리탱크 내로 출입하도록, 상기 처리탱크를 상하로 이동시키는 승강수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR100304146B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980017563

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은, 세정유니트 내에 설치된 반송로보트와의 사이에서 세정 전후의 복수의 피처리기판을 주고받는 반송척과, 이 반송척기구를 내부에서 세정하여 건조하는 세정·건조처리부를 구비하고, 상기 반송척은 복수의 피처리기판을 파지하는 좌우의 가로로드 및 각각을 수평으로 지지하는 세로로드를 가지며, 상기 세정·건조처리부는 세정액을 토출하는 수단 및 건조용 가스를 공급하는 수단을 구비하는 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 가스공급수단은, 상기 각 세로로드의 좌우 양측에 그 하단으로부터 기초부에 걸쳐 각각 세워 설치된 2쌍의 가스배관과, 건조용 가스가 상기 반송척의 가로로드 및 세로로드에 대하여 경사져서 아래쪽으로 향해 분사되도록 상기 가스배관의 전체 길이에 걸쳐 복수로 형성된 가스분사구멍과, 이들 가스분사구멍을 � �지는 상기 각 가스배관을 상기 각 가로로드를 따라 일체적으로 이동시키는 구동수단을 가진다.

公开(公告)号：KR100304145B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019940001233

申请日：1994-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치를 제공한다.
본 발명은, 여러개의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하는 반송척을 세정하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 반송척을 승강시키는 승강기구와, 상기 반송척이 출입할 수 있도록 형성된 상부 개구를 가지는 세정실과, 이 세정실 내에서 상기 반송척의 이동통로 상에 설정된 제 1 위치로 향하여 상기 반송척의 이동통로의 한쪽 혹은 양쪽에 수평으로 일렬 또는 복수열로 배치된 제 1 토출구를 가지는 복수의 세정노즐과, 이들 복수의 세정노즐의 각각으로 세정액을 공급하는 세정액 공급수단과, 상기 세정실내에서 상기 제 1 위치보다 높은 제 2 위치로 각각이 향하고, 또 상기 반송척의 이동통로의 한쪽 혹은 양쪽에 수평으로 일렬 또는 복수열로 배치되고, 중간부에 위치하는 제 2 토출구는 경사져서 아래로 향해 개구하� � 양 끝단부에 위치하는 제 2 토출구는 수직면에 대하여 경사진 방향으로 개구하고 있는 복수의 가스노즐과, 상기 복수의 가스노즐의 각각으로 건조용의 가스를 각각 공급하는 가스공급수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR1019990066684A

公开(公告)日：1999-08-16

申请号：KR1019980017563

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은 세정유니트 내에 설치된 반송로보트와의 사이에서 세정 전후의 복수의 피처리기판을 주고받는 반송척과, 이 반송척기구를 내부에서 세정하여 건조하는 세정·건조처리부를 구비하고, 상기 반송척은 복수의 피처리기판을 파지하는 좌우의 가로로드 및 각각을 수평으로 지지하는 세로로드를 가지며, 상기 세정·건조처리부는 세정액을 토출하는 수단 및 건조용 가스를 공급하는 수단을 구비하는 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 가스공급수단은, 상기 각 세로로드의 좌우 양측에 그 하단으로부터 기초부에 걸쳐 각각 세워 설치된 2쌍의 가스배관과, 이들 가스배관의 전체 길이에 걸쳐 여러개씩 형성된 가스분사구멍과, 이들 가스분사구멍을 가지는 상기 각 가스배관을 상기 각 가로로드를 따라 일체적으로 이동시키는 구동수단을 가진다.

公开(公告)号：KR101751568B1

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：KR1020137006440

申请日：2012-08-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아이우라가즈히로 ,  신도나오키 ,  하치야요스케

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/02041 ,  H01L21/465 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68785 ,  H01L21/68792

Abstract: 본발명의액처리장치는, 기판(W)을수평으로유지하여회전시키는기판유지부(21)와, 기판유지부에유지된기판에대하여처리액을공급하는처리액노즐(82)과, 기판유지부에유지된기판의둘레가장자리의외측에마련되며, 처리액노즐에의해기판에공급된뒤의처리액을받기위한컵(40)과, 기판유지부에유지된기판을위쪽에서덮는상부판(32)과, 상부판을회전시키는상부판회전구동기구와, 상부판의둘레가장자리를둘러싸는환형의액받이공간(132)을갖는액받이부재(130)를구비하고있다.

公开(公告)号：KR100849254B1

公开(公告)日：2008-07-29

申请号：KR1020010060911

申请日：2001-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  신도나오키 ,  이이노다다시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/31138 ,  Y10S134/902

Abstract: 웨이퍼 등의 금속오염이나 파티클의 발생 및 산화막의 성장을 억제하여 레지스트를 제거할 수 있도록 한다.
웨이퍼(W)를 수용하는 처리용기(10)내에 오존 가스(2)를 공급하는 오존 가스공급관로(40)와, 처리용기(10)내에 수증기(1)를 공급하는 수증기공급관로(30)를 설치하여, 오존 가스공급관로(42)에 설치되는 개폐밸브(49)와, 수증기공급관로(34)에 설치되는 개폐밸브(36)와, 오존 가스생성수단(41)의 스위치(48) 및 개폐밸브(49)를, 제어수단인 CPU(100)에 의해서 제어할 수 있도록 형성한다. 이에 따라, 처리용기(10)내에 오존 가스(2)를 공급하여 웨이퍼(W)의 주위분위기를 가압한 후, 처리용기(10)내에 수증기(1)를 공급함과 동시에, 오존 가스(2)를 공급하여, 수증기(1)와 오존 가스(2)에 의해서 웨이퍼(W)의 레지스트 제거나 금속부식 등을 방지할 수 있다.

Abstract translation: 可以抑制晶片等金属的污染，粒子的生成和氧化膜的生长，从而除去抗蚀剂。

公开(公告)号：KR1020080020988A

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：KR1020077025994

申请日：2006-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로시로고우키치 ,  가미카와유지 ,  도시마다카유키 ,  신도나오키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057

Abstract: Disclosed is a substrate processing apparatus for cleaning and drying a substrate such as a semiconductor wafer. This substrate processing apparatus comprises a liquid processing unit for processing a substrate by immersing the substrate in a stored purified water, a drying unit arranged above the liquid processing unit for drying the substrate, a substrate conveying system for conveying the substrate between the liquid processing unit and the drying unit, a fluid supply mechanism for supplying a fluid mixture composed of vapor or mist of purified water and vapor or mist of a volatile organic solvent into the drying unit, and a control unit for controlling supply of the fluid mixture. ® KIPO & WIPO 2008

Abstract translation: 公开了一种用于清洗和干燥诸如半导体晶片的衬底的衬底处理装置。 该基板处理装置包括：液体处理单元，用于通过将基板浸入存储的净化水中来处理基板;干燥单元，布置在用于干燥基板的液体处理单元的上方;基板输送系统，用于在液体处理单元 以及干燥单元，用于将由净化水的蒸汽或雾以及挥发性有机溶剂的蒸气或雾形成的流体混合物供给到干燥单元中的流体供给机构，以及用于控制流体混合物供给的控制单元。 ®KIPO＆WIPO 2008

公开(公告)号：KR100747618B1

公开(公告)日：2007-08-09

申请号：KR1020067001393

申请日：2005-03-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  신도나오키 ,  야노히로시 ,  츠루사키고타로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67757 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명의 기판 처리 장치(1)는 기판을 처리액에 의해 처리하는 처리조(3)와, 처리조(3) 위쪽에 배치된 건조 처리부(6)와, 처리조(3)와 건조 처리부(6) 사이에서 기판(W)을 이동시키는 이동 기구(8)를 구비하고 있다. 건조 처리부(6)에 처리 가스를 공급하는 처리 가스 공급 라인(21)과, 건조 처리부(6)에 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 공급 라인(24, 25)이 접속되어 있다. 또한 건조 처리부(6)에 건조 처리부(6)로부터 압출된 분위기를 배기하는 제1 배기 라인(26)과, 상기 건조 처리부(6)를 강제적으로 배기하는 제2 배기 라인(27)이 접속되어 있다.