场致发射型电子源
    62.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1249525A

    公开(公告)日:2000-04-05

    申请号:CN99120728.9

    申请日:1999-09-24

    Abstract: 一种场致发射型电子源及其制造方法,在n型硅基板主表面侧形成强电场漂移单元,在该单元上形成金薄膜构成的表面电极。在n型硅基板背面形成欧姆电极。表面电极配置在真空中,且相对欧姆电极作为正极,通过施加直流电压,从n型硅基板注入的电子在强电场漂移单元漂移经表面电极发射。强电场漂移单元由与作为基板的n型硅基板的厚度方向垂直的剖面呈网孔状的电子进行漂移的漂移单元和填满在网孔中导热性比漂移单元好的散热单元构成。

    电子器件及其制造方法
    67.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102792411A

    公开(公告)日:2012-11-21

    申请号:CN201180012504.X

    申请日:2011-03-31

    CPC classification number: H01J9/025 B82Y10/00 H01J1/312 H01J2201/312

    Abstract: 本发明提供一种电子器件,其具备:基板;第1电极,其形成在所述基板的一个表面侧;第2电极,其在与所述第1电极的所述基板侧相反的侧与所述第1电极对置;和功能层,其设在第1电极与第2电极之间,且具备通过用电解液对第1多晶半导体层进行阳极氧化处理而形成的多个微晶半导体;其中,在所述第1电极与所述功能层之间且在所述功能层的正下方,设有第2多晶半导体层,该第2多晶半导体层与所述第1多晶半导体层相比由所述电解液产生的阳极氧化速度慢,且该第2多晶半导体层为选择性地对所述第1多晶半导体层进行阳极氧化处理的阻挡层。

    电子发射装置及其驱动方法

    公开(公告)号:CN102479483A

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN201110367517.0

    申请日:2011-11-18

    Inventor: 平川弘幸

    Abstract: 本发明涉及电子发射装置及其驱动方法。本发明提供一种对包括第一发射电极、在第一电极上形成的并且包含绝缘微粒的微粒层、以及在微粒层上形成的第二电极的电子发射装置的驱动方法,其包括:将电压施加于第一和第二电极之间,以从第一电极发射电子,从而电子通过微粒层被加速,并且被从第二电极发射,其中,施加的电压包括具有第一频率并且以低于第一频率的第二频率被震荡的脉冲。

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