71.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE60311125D1

    公开(公告)日:2007-02-22

    申请号:DE60311125

    申请日:2003-07-11

    Applicant: INTEL CORP

    Inventor: MA QING SHIM DONG

    Abstract: Microelectromechanical system (MEMS) apparatus and methods for surface acoustic wave (SAW) switching are disclosed. The apparatus includes a piezoelectric substrate having spaced apart input and output SAW transducers. A MEMS switch is arranged between the input and output SAW transducers The MEMS switch has a deformable member in electromagnetic communication with one or more actuation electrodes formed on or above the substrate. The deformable member is deformable to mechanically contact the substrate to deflect or absorb a SAW generated by the input SAW transducer.

    TUNABLE INDUCTOR USING MICROELECTROMECHANICAL SWITCHES

    公开(公告)号:MY122887A

    公开(公告)日:2006-05-31

    申请号:MYPI20022146

    申请日:2002-06-10

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: A TUNABLE INDUCTOR IS DISCLOSED. THE TUNABLE INDUCTOR COMPRISES A HELICAL (70) OR SPIRAL (92) INDUCTOR FORMED ON A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE (146) HAVING AN INPUT AND AN OUTPUT. THE HELICAL INDUCTOR (70) HAS A FULL LENGTH THAT PROVIDES A FULL INDUCTANCE. ALSO, A FULL INDUCTANCE SWITCH IS DISPOSED BETWEEN THE OUTPUT AND THE FULL LENGTH OF THE HELICAL INDUCTOR. FINALLY, AT LEAST ONE MICROELECTROMECHANICAL (MEMS) SWITCH (146) IS DISPOSED BETWEEN THE OUTPUT AND AN INTERMEDIATE LOCATION OF THE HELICAL INDUCTOR. FIG. 28

    EDGE PLATED TRANSMISSION LINE
    74.
    发明专利

    公开(公告)号:AU2003300809A1

    公开(公告)日:2004-07-29

    申请号:AU2003300809

    申请日:2003-12-03

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Coplanar waveguides have a center signal line and a pair of ground lines on either side formed of a sputtered material such as gold (Au). Such waveguides are subject to what is known as the edge effect at high frequency operation causing currents to concentrate and flow along adjacent edges of the lines. Providing a thicker plated layer only on adjacent edges of the lines provide substantial performance improvements over sputtered lines alone while saving significant amount of Au, thus reducing costs.

    Structure and process for reducing die corner and edge stresses in microelectronic packages

    公开(公告)号:AU9633201A

    公开(公告)日:2002-04-08

    申请号:AU9633201

    申请日:2001-09-25

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: A microelectronic die is aligned with a package substrate and attached to it using solder balls. A specially shaped heat spreader, preferably with a coefficient of thermal expansion (CTE) similar to that of silicon, is attached to the back side of the die using a heat-conducting adhesive. An epoxy-based material is flowed into the gap between the die, the substrate, and the heat spreader via a through-hole in either the substrate or the heat spreader using a dispense process or a transfer molding process. By positioning the heat spreader to abut the die corners and/or edges, the stresses on the die are substantially reduced or eliminated.

    Direct build-up layer on an encapsulated die package having moisture barrier structure

    公开(公告)号:AU8715001A

    公开(公告)日:2002-03-26

    申请号:AU8715001

    申请日:2001-09-07

    Applicant: INTEL CORP

    Inventor: MA QING

    Abstract: A packaging technology that fabricates a microelectronic package including build-up layers, having conductive traces, on an encapsulated microelectronic die and on other packaging material that surrounds the microelectronic die, wherein an moisture barrier structure is simultaneously formed with the conductive traces. An exemplary microelectronic package includes a microelectronic die having an active surface and at least one side. Packaging material(s) is disposed adjacent the microelectronic die side(s), wherein the packaging material includes at least one surface substantially planar to the microelectronic die active surface. A first dielectric material layer may be disposed on at least a portion of the microelectronic die active surface and the encapsulation material surface. At least one conductive trace is then formed on the first dielectric material layer to electrically contact the microelectronic die active surface. A barrier structure proximate an edge of the microelectronic package is formed simultaneously out of the same material as the conductive traces.

    Herstellungsverfahren für Glaskern-Substrate für Bausteine mit integrierter Schaltung

    公开(公告)号:DE112010004890B4

    公开(公告)日:2016-12-01

    申请号:DE112010004890

    申请日:2010-11-11

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Verfahren (300), das Folgendes umfasst: Bereitstellen eines Glaskörpers, der eine Reihe von eingebetteten leitfähigen Drähten aufweist (330); und Schneiden von Scheiben aus dem Glaskörper (335), wobei jede Scheibe eine erste Fläche (412) und eine gegenüberliegende zweite Fläche (414) aufweist, die im Wesentlichen parallel zu der ersten Fläche ist, wobei ein Teil jedes eingebetteten Drahts in jeder der Scheiben bleibt und sich von der ersten Fläche (412) zu der zweiten Fläche (414) der Scheibe erstreckt, wobei jeder eingebettete Drahtteil einen einer entsprechenden Reihe von Leitern bereitstellt; wobei zwei oder mehrere Scheiben einen Glaskern für ein Substrat bereitstellen (345); wobei der Glaskörper Ausrichtungselemente enthält (355), und wobei das Verfahren weiterhin das Ausrichten der zwei oder mehr Scheiben unter Verwendung der Ausrichtungselemente umfasst (345), während die zwei oder mehr Scheiben miteinander verbunden werden, um den Glaskern bereitzustellen.

    Halbleitergehäuse mit mechanischer Sicherung

    公开(公告)号:DE112013003246T5

    公开(公告)日:2015-04-02

    申请号:DE112013003246

    申请日:2013-06-05

    Applicant: INTEL CORP

    Abstract: Ein Halbleitergehäuse, das eine darin befindliche mechanische Sicherung besitzt und Verfahren zum Formen eines Halbleitergehäuses mit einer darin befindlichen mechanischen Sicherung werden beschrieben. Beispielsweise umfasst eine Halbleiterstruktur ein Halbleitergehäuse. Ein Halbleiter-Die ist im Halbleitergehäuse untergebracht. Ein Baustein mit einem mikro-elektromechanischen System (MEMS) ist im Halbleitergehäuse untergebracht. Der MEMS-Baustein weist einen schwebenden Teil auf. Eine mechanische Sicherung ist im Halbleitergehäuse untergebracht und entweder gekoppelt mit oder entkoppelt vom schwebenden Teil des MEMS-Bausteins.

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