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    Sample carrier for an electron microscope
    74.
    发明公开
    Sample carrier for an electron microscope 有权
    ProbenträgerfürElektronenmikroskop

    公开(公告)号：EP2755226A1

    公开(公告)日：2014-07-16

    申请号：EP13151244.4

    申请日：2013-01-15

    Applicant: FEI COMPANY

    Inventor： Nederlof, Frank

    IPC: H01J37/20

    CPC classification number: H01J37/20 ,  G01N23/2204 ,  G01N23/2251 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/26

    Abstract: The invention relates to a sample carrier (10) for a transmission electron microscope. When using state of the art sample carriers, such as half-moon grids in combination with detectors detecting, for example, X-ray emitted at a large emittance angle, shadowing is a problem. Similar problems occur when performing tomography, in which the sample is rotated over a large angle.
    The invention provides a solution to shadowing by forming the parts (16) of the grid bordering the interface between sample and grid as tapering parts.

    Abstract translation: 本发明涉及一种用于透射电子显微镜的样品载体（10）。 当使用现有技术的样品载体（例如半月板结合检测器检测例如以大的发射角发射的X射线）时，阴影是一个问题。 执行断层扫描时会发生类似的问题，其中样品在大角度旋转。 本发明通过形成与样品和栅格之间的界面接近的网格的部分（16）作为渐缩部分来提供阴影的解决方案。

    DEVICE AND METHODS FOR PREPARING MICROSCOPY SAMPLES
    76.
    发明公开
    DEVICE AND METHODS FOR PREPARING MICROSCOPY SAMPLES 有权
    装置和方法观察样品的生产

    公开(公告)号：EP2041543A2

    公开(公告)日：2009-04-01

    申请号：EP07784050.2

    申请日：2007-05-22

    Applicant: 10h, Inc.

    Inventor： GOODMAN, Steven L.

    IPC: G01N1/31 ,  G01N1/36 ,  B01L3/00

    CPC classification number: G01N1/31 ,  B01L3/0275 ,  B01L3/502 ,  B01L2300/042 ,  B01L2300/0609 ,  B01L2300/0681 ,  G01N1/36 ,  G01N2035/0427 ,  G01N2035/1048 ,  G02B21/34 ,  H01J2237/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201

    Abstract: A device, method and system for preparing and storing samples for microscopic analysis is disclosed. The device provides a reservoir that can be attached to a displacement pipette thereby filling the reservoir with reagents desired for preparing the samples for microscopic analysis. In some embodiments, the specimen may be contained on a transmission electron microscope (TEM) grid. In other embodiments, the sample may be a light microscope (LM) specimen or a scanning electron microscope (SEM) specimen. In yet another embodiment, the invention provides a method of preparing samples for microscopic examination including a device for preparing TEM grids with, a device for preparing TEM, SEM or LM specimens with and a device for storing both grids and specimens in. In yet another embodiment, the invention provides a system for tracking the preparation, analysis and histological evaluation of multiple samples while also providing for their long term storage.

    半導体装置の製造方法、半導体製造装置
    78.
    发明申请
    半導体装置の製造方法、半導体製造装置 审中-公开
    半导体器件制造方法和半导体制造设备

    公开(公告)号：WO2014049696A1

    公开(公告)日：2014-04-03

    申请号：PCT/JP2012/074626

    申请日：2012-09-26

    Applicant: 三菱電機株式会社 ,  寺島 知秀 ,  吉浦 康博 ,  大月 詠子

    Inventor： 寺島　知秀 ,  吉浦　康博 ,  大月　詠子

    IPC: H01L21/02 ,  H01J37/30 ,  H01L21/683

    CPC classification number: H01L21/263 ,  H01J37/30 ,  H01J37/3002 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/20221 ,  H01J2237/30455 ,  H01J2237/317 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/68

    Abstract: 　本願の発明にかかる半導体装置の製造方法は、複数の被処理物を、第１トレイの上と、該第１トレイと接する第２トレイの上に並べる工程と、該第１トレイと該第２トレイが接する接触位置の直上に形成された照射装置から照射物を放出しつつ、該照射装置を該接触位置を横断する方向である第１の方向に沿ってスイングさせ、該第１トレイと該第２トレイを該第１の方向と垂直をなす第２の方向に移動させることで該複数の被処理物に該照射物を照射することを複数回繰り返す複数の照射工程と、該複数の照射工程の間に少なくとも１回実施される、該第１トレイと該第２トレイの該第２の方向に向かう向きを変更せずに該第１トレイと該第２トレイの位置を入れ替える入替工程と、を備える。

    Abstract translation: 该半导体器件制造方法具有：将待处理的多个被处理物体设置在与第一托盘接触的第一托盘和第二托盘上的步骤; 多个照射步骤，其中，在从第一托盘和第二托盘彼此接触的接触位置正上方形成的照射装置排出照射材料的同时，照射装置在第一方向上摆动，即， 方向穿过接触位置，并且第一托盘和第二托盘在垂直于第一方向的第二方向上移动，从而使被照射材料多次重复照射的被摄体; 以及在照射步骤之间至少执行一次并且其中第一托盘和第二托盘的位置被互换而不改变第一托盘和第二托盘的移动方向的交换步骤，所述方向为 第二个方向。

    電子顕微鏡用試料ホルダ
    79.
    发明申请
    電子顕微鏡用試料ホルダ 审中-公开
    电子显微镜样品座

    公开(公告)号：WO2013111453A1

    公开(公告)日：2013-08-01

    申请号：PCT/JP2012/081231

    申请日：2012-12-03

    Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： 寺田　尚平 ,  谷口　佳史 ,  長久保　康平

    IPC: H01J37/20

    CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/2802

    Abstract: 本発明の目的は、複数個の試料台を配置しかつ少なくとも一つの試料台が移動可能であり、集束イオンビーム装置で複数個の透過型電子顕微鏡用試料を作製可能な電子顕微鏡用試料ホルダを提供する。試料ホルダ（１）の先端部には、ホルダ先端開口部（９）が設けられている。また、試料ホルダ（１）の後端部には、ツマミ（５）、回転機構（６）、粗動機構（７）およびコネクタ（８）を有している。ツマミ（５）を押すことにより回転機構（６）の固定が解除され、回転機構（６）から後端部、また試料ホルダの先端部が回転することになる。本回転機構により、透過型電子顕微鏡により観察する場合と集束イオンビーム装置により透過型電子顕微鏡用試料を作製する場合の試料の配置を回転することができる。また、粗動機構（７）および微動機構により試料台が移動可能である。

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种用于电子显微镜的样品架，其中设置有多个样品台，其中至少一个样品台可移动，并且多个透射电子显微镜样品可以 由聚焦离子束制成。 保持器开口部（9）设置在样品保持架（1）的前端部。 此外，样品架（1）的后端部具有旋钮（5），旋转机构（6），粗动机构（7）和连接器（8）。 通过按压旋钮（5）来释放旋转机构（6）的固定，并且从旋转机构（6）向后方延伸的后端部分以及尖端部分旋转。 对于通过透射电子显微镜观察的情况以及通过聚焦离子束制造透射电子显微镜样品的情况，该旋转机构可以旋转样品配置。 此外，样品台可以通过粗略移动机构（7）和精细移动机构移动。

    プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
    80.
    发明申请
    プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 审中-公开
    等离子体处理装置和等离子体处理方法

    公开(公告)号：WO2013014860A1

    公开(公告)日：2013-01-31

    申请号：PCT/JP2012/004223

    申请日：2012-06-29

    Applicant: パナソニック株式会社 ,  置田 尚吾 ,  渡邉 彰三

    Inventor： 置田　尚吾 ,  渡邉　彰三

    IPC: H01L21/683 ,  H01L21/3065 ,  H01L31/04

    CPC classification number: H01L31/18 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01J2237/201 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68785

    Abstract: 　ドライエッチング装置１は基板５を搬送するトレイ３を備える。トレイ３には３枚の基板５を収容可能な貫通孔である基板収容孔４Ａ～４Ｃが設けられている。基板５は基板収容孔４Ａ～４Ｃの孔壁から突出する基板支持部１１により支持される。プラズマを発生させるチャンバ２内にはステージ２１が設けられている。ステージ２１はトレイ３の下面から基板収容孔４Ａ～４Ｃに挿入され、かつその上端面である基板載置面２８に基板支持部１１から受け渡された基板の５下面が載置される基板載置部２７Ａ～２７Ｃを備える。角型基板に対する高い形状制御性と良好な生産性の両方を、装置の大型化を抑制しつつ実現できる。

    Abstract translation: 干蚀刻装置（1）设置有用于承载基板（5）的托盘（3）。 在托盘（3）上设置有能够容纳三个基板（5）的通孔的基板容纳孔（4A-4C）。 基板（5）由从基板容纳孔（4A-4C）的孔壁突出的基板支撑部（11）支撑。 在室（2）中设置有用于产生等离子体的级（21）。 台（21）从托盘（3）的下表面插入基板容纳孔（4A-4C）中。 作为台的上端面的基板配置面（28）设置有从基板支撑部（11）转移的基板（5）的下表面的基板配置部（27A〜27C） 放置。 本发明使得可以获得相对于矩形基板的高形状可控性和良好的生产率，同时最小化装置尺寸的增加。

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