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公开(公告)号：CN103384811B
公开(公告)日：2014-11-26
申请号：CN201280001496.3
申请日：2012-02-15
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: G01B11/0691 , C23C14/0078 , C23C14/505 , C23C14/547 , G01B11/0625
Abstract: 本发明提供一种光学式膜厚测量装置及采用光学式膜厚测量装置的薄膜形成装置，不用监视器基板就能够实时且高精度地直接测定产品的膜厚。光学式膜厚测量装置具备：投射部；受光部；基体保持单元内的将测定光向基体反射的多个内部分束器；对来自多个内部分束器中的最靠近的内部分束器的测定光进行全反射的内部光反射部件；将来自多个内部分束器的测定光向受光部反射的多个外部分束器；以及将来自光反射部件的测定光向受光部反射的外部光反射部件。被内部分束器及内部光反射部件反射的测定光在透过基体之后，被外部分束器及外部光反射部件反射并导向受光部，从而接收测定光。
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公开(公告)号：CN103384811A
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201280001496.3
申请日：2012-02-15
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: G01B11/0691 , C23C14/0078 , C23C14/505 , C23C14/547 , G01B11/0625
Abstract: 提供一种光学式膜厚测量装置及采用光学式膜厚测量装置的薄膜形成装置，不用监视器基板就能够实时且高精度地直接测定产品的膜厚。光学式膜厚测量装置具备：投射部；受光部；基体保持单元内的将测定光向基体反射的多个内部分束器；对来自多个内部分束器中的最靠近的内部分束器的测定光进行全反射的内部光反射部件；将来自多个内部分束器的测定光向受光部反射的多个外部分束器；以及将来自光反射部件的测定光向受光部反射的外部光反射部件。被内部分束器及内部光反射部件反射的测定光在透过基体之后，被外部分束器及外部光反射部件反射并导向受光部，从而接收测定光。
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公开(公告)号：CN103154298A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201280003215.8
申请日：2012-08-02
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: B05D1/00 , C23C14/022 , C23C14/06 , C23C14/22 , C23C14/546
Abstract: 本发明提供可有效地进行防污膜的成膜的成膜装置，该防污膜的耐磨耗性能不但可耐实用而且耐磨耗性能也进一步得到提高。本发明的成膜装置(1)为将具有用于保持两个以上基板(14)的基体保持面的基板支架(12)可旋转地配设在真空容器(10)内的成膜装置(1)，其中，该成膜装置(1)是具有离子源(38)以及作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)的构成，所述离子源(38)按照可向着上述基体保持面的一部分区域照射离子束这样的构成、配置和/或朝向被设置在真空容器(10)内，所述作为成膜单元的蒸镀源(34)和限制板(36)按照可向着作为上述基体保持面的一部分且与基于离子源(38)的离子束的照射区域的至少一部分重复的区域来供给成膜材料这样的构成被设置在真空容器(10)内。
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公开(公告)号：CN103014617A
公开(公告)日：2013-04-03
申请号：CN201210327850.3
申请日：2012-09-06
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/042 , C23C14/04 , C23C14/24 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C16/04 , C23C16/042 , C23C16/4584
Abstract: 本发明提供一种薄膜形成装置，其通过使仅在多个基板上的特定部分上形成薄膜的作业简单化、效率化，从而能够缩短薄膜形成时的作业时间，减少成膜作业的费用。薄膜形成装置（100）具备的基板保持机构（3）具有：基板保持部件（10～40），保持多个基板（S），使得基板（S）的非成膜部分（S2）的一部分与其他基板（S）重合，而成膜部分（S1）露出；支撑部件（50），支撑基板保持部件（10～40）；旋转部件（60），使支撑部件（50）旋转，基板保持部件（10～40）具有：多个保持面（11d），保持多个基板（S），配置在成膜源（4）与多个基板（S）之间；多个阶差部（11e），形成在多个保持面（11d）之间，分别与多个基板（S）的端部抵接；多个开口部（11f），在基板（S）的端部抵接在多个阶差部（11e）的状态时，形成在与成膜部分（S1）相应的部分的保持面（11d）上。
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公开(公告)号：CN102076879A
公开(公告)日：2011-05-25
申请号：CN200980124621.8
申请日：2009-06-16
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/30 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/22 , G02B1/115 , G02B5/285 , H01J37/32422
Abstract: 本发明提供一种能够抑制成膜条件的经时变化的蒸镀装置(1)。所述蒸镀装置(1)具备：被支承在接地的真空容器(10)内的基板支架(12)、保持在基板支架(12)上的基板(14)、离开基板(14)并与基板(14)相向的蒸发源(34，36)、对基板(14)照射离子的离子枪(38)、以及对基板(14)照射电子的中和器(40)，其中，离子枪(38)及中和器(40)分别安装有照射离子导向部件(50)及照射电子导向部件(52)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100513632C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN03826575.3
申请日：2003-06-02
Applicant: 株式会社新柯隆
CPC classification number: C23C14/0036 , C23C14/0078 , C23C14/083 , C23C14/10 , C23C14/352 , C23C14/358 , C23C14/564 , C23C14/568 , C23C14/5853 , C23C16/4404 , H01J37/32082 , H01J37/32467 , H01J37/32477 , H01L21/318 , H05H1/46
Abstract: 本发明的薄膜形成装置(1)包括：内部维持真空的真空容器(11)；将反应性气体导入真空容器(11)内的气体导入单元(76)；和在真空容器(11)内产生反应性气体的等离子体的等离子体发生单元(61)。并且，在真空容器(11)内的壁面上，涂敷有热分解氮化硼(P)。
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公开(公告)号：CN100406612C
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200410069717.8
申请日：2004-07-09
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供可以简单易行地制作具有所需膜厚分布的薄膜的溅射装置。该溅射装置中，在靶29a、29b和基板S之间设有膜厚修正板35和遮蔽板36。在与靶29a、29b和基板夹具13之间的领域不同的领域，面向基板13的领域(60)设有产生等离子体的等离子体发生装置80。膜厚修正板35中由沿基板公转轴方向接连设置的多个修正小片35a1、35b1等构成第1修正板35a和第2修正板35b。修正小片(35a1等)和修正小片(35b1等)沿所述基板S公转的轨迹在所述靶29a、29b上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置。其中配有驱动修正小片(35a1和35b1等)沿所述投影轨迹方向移动的驱动装置(71a、71b等)。
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公开(公告)号：CN1670238A
公开(公告)日：2005-09-21
申请号：CN200410069717.8
申请日：2004-07-09
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/34
Abstract: 本发明提供可以简单易行地制作具有所需膜厚分布的薄膜的溅射装置。该溅射装置中，在靶29a、29b和基板S之间设有膜厚修正板35和遮蔽板36。在与靶29a、29b和基板夹具13之间的领域不同的领域，面向基板13的领域(60)设有产生等离子体的等离子体发生装置80。膜厚修正板35中由沿基板公转轴方向接连设置的多个修正小片35a1、35b1等构成第1修正板35a和第2修正板35b。修正小片(35a1等)和修正小片(35b1等)沿所述基板S公转的轨迹在所述靶29a、29b上的投影的投影轨迹方向以一定的间隔距离设置。其中配有驱动修正小片(35a1和35b1等)沿所述投影轨迹方向移动的驱动装置(71a、71b等)。
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公开(公告)号：CN203373418U
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：CN201290000132.9
申请日：2012-04-09
Applicant: 株式会社新柯隆
IPC: C23C14/30
CPC classification number: C23C14/30 , H01J37/147 , H01J37/3053 , H01J2237/152 , H01J2237/3132
Abstract: 提供一种电子枪装置，在适于装置运转的位置具备极片，该极片在坩埚的上方位置朝着坩埚沿水平方向延伸。电子枪装置（1）具备：坩埚（3），其收容蒸镀材料；电子束射出机构（7），其射出电子束（EB），以使坩埚（3）内的蒸镀材料加热蒸发；壳体（10），其在内部收容电子束射出机构（7）；第1极片（11）以及第2极片（12），其在固定于壳体（10）的状态下使电子束（EB）朝着坩埚（3）内的蒸镀材料偏转；以及第3极片（13），其为了调整电子束（EB）对坩埚（3）内的蒸镀材料的照射位置，使向壳体（10）外射出的电子束（EB）进一步偏转，第3极片（13）在配置于坩埚（3）的上方位置的状态下朝着坩埚沿水平方向延伸，位于壳体（10）外，并且与壳体（10）分离。
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