公开(公告)号：KR20180022598A

公开(公告)日：2018-03-06

申请号：KR20170106422

申请日：2017-08-23

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： TAKAHARA TOSHIYUKI

IPC: G01N23/16 ,  G01N23/083 ,  G01N23/18

CPC classification number: G01N23/04 ,  G01N23/10

Abstract: (과제) 용이하게표준시료에의한조정이가능한 X 선투과검사장치를제공하는것. (해결수단) 시료 (S1) 에대해 X 선을조사하는 X 선원 (2) 과, X 선원으로부터의 X 선을조사중에시료를특정방향으로연속해서이동시키는시료이동기구와, 시료에대해 X 선원과반대측에설치되고시료를투과한 X 선을검출하는 X 선검출기 (4) 와, 시료와는다른위치에설치된표준시료 (S2) 를이동가능한표준시료이동기구 (5) 와, X 선원및 X 선검출기와, 시료및 표준시료를상대적으로이동가능하고, X 선원및 X 선검출기가시료에대향하는배치상태로부터표준시료이동기구에의해이동되는표준시료에대향하는배치상태로변경가능한배치변경기구 (6) 를구비하고있다.

Abstract translation: 提供了一种能够容易地进行基于标准样本的调整的X射线透射检查装置。 该设备配备有X射线源; 一个X射线探测器; 标准样本移动机构，用于移动放置在与样本不同位置的标准样本; 以及配置改变机构，所述配置改变机构被构造成使得所述X射线源和所述X射线检测器以及所述样本和所述标准样本能够相对于彼此移动，并且被配置为将布置状态从一个布置 其中X射线源和X射线检测器面对样本的状态到X射线源和X射线检测器面对由标准样本移动机构移动的标准样本的另一个排列状态。

公开(公告)号：KR20180029851A

公开(公告)日：2018-03-21

申请号：KR20170103538

申请日：2017-08-16

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： ASAHATA TATSUYA

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147 ,  H01J37/30 ,  H01J37/317

CPC classification number: H01J37/026 ,  H01J37/141 ,  H01J37/292 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/1405 ,  H05H3/00

Abstract: [과제] 집속이온빔으로시료를단면가공한후, 다른빔으로단면을마무리가공할때, 전자빔 경통으로부터의전기장이나자기장의누설에의한영향이나, 차지업에의한영향을억제할수 있는복합빔 장치를제공한다. [해결수단] 시료(200)에전자빔(10A)을조사하기위한전자빔 경통(10)과, 시료에집속이온빔(20A)을조사하여단면을형성하기위한집속이온빔 경통(20)과, 집속이온빔 경통보다가속전압이낮게설정되고, 시료에중성입자빔(30A)을조사하여단면을마무리가공하기위한중성입자빔 경통(30)을갖고, 전자빔 경통, 집속이온빔 경통및 중성입자빔 경통은, 각각의각 조사빔이조사점 P에서교차하도록배치되어이루어지는복합빔 장치(100)이다.

Abstract translation: 本发明公开了一种复合光束装置，其能够在用聚焦离子束对样品进行截面处理时，抑制电荷累积或电子束柱的电场或磁场泄漏，然后与另一个 光束。 该复合光束设备包括：将电子束照射到样品上的电子束柱; 将聚焦离子束照射到样品上以形成横截面的聚焦离子束柱; 加速电压被设定为低于聚焦离子束柱的中性粒子束柱，并且将中性粒子束照射到样品上以执行截面的精加工，其中电子束柱，聚焦离子束柱， 和中性粒子束柱被布置成使得柱的束在照射点彼此交叉。

公开(公告)号：DE102017005565B4

公开(公告)日：2025-02-06

申请号：DE102017005565

申请日：2017-06-12

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： SHICHI HIROYASU ,  MATSUBARA SHINICHI ,  KAWANAMI YOSHIMI

IPC: H01J37/08

Abstract: Ionenstrahlsystem mit einer Gas-Feldionisations-Ionenquelle (1), welche Folgendes aufweist:ein Vakuumgefäß (15),einen Emitterspitzenhalter (35), der sich im Vakuumgefäß (15) befindet,eine Emitterspitze (21), die mit dem Emitterspitzenhalter (35) verbunden ist,eine Extraktionselektrode (24), die der Emitterspitze (21) entgegengesetzt ist,einen Gaszufuhrabschnitt (26) zum Zuführen eines Gases zur Emitterspitze (21) undein Kälteübertragungselement (33), das sich im Vakuumgefäß (15) befindet und Kühlenergie auf den Emitterspitzenhalter (35) überträgt,wobeidie Oberfläche des Kälteübertragungselements (33) mit einem wärmeisolierenden Material (34) bedeckt ist, um die Kondensation des Gases zu verhindern, unddas Kälteübertragungselement (33) ein Metalldünnfilm (85) oder ein Metalllitzendraht (56) ist und an seiner Oberfläche eine wärmeisolierende Schicht (87) haftet,gekennzeichnet durch ein Haftelement (81), das die Oberfläche des Kälteübertragungselements (33) bedeckt, wobei das wärmeisolierende Material (34) über das Haftelement (81) an der Oberfläche des Kälteübertragungselements (33) haftet und das Haftelement (81) bedeckt.

公开(公告)号：DE102022115621A1

公开(公告)日：2022-12-29

申请号：DE102022115621

申请日：2022-06-23

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： MARUYAMA KAI ,  WAKUI TAKAYUKI

IPC: G01N21/25 ,  G01J3/42 ,  G01N21/27

Abstract: Wenn eine Messprobe gemessen wird, deren Extinktion sich in Abhängigkeit von einem Wellenlängenbereich stark ändert, kann die Messung mit einem hohen S/R-Verhältnis und hoher Genauigkeit in kurzer Zeit effizient erfolgen.Für mehrere Wellenlängenbereiche bei einer Wellenlängenabtastmessung einer Messprobe auf Grundlage von Messbedingungen, einschließlich einer von mehreren Dimmplatten (16a bis 16e), die in jedem Wellenlängenbereich anzuordnen sind, und einer Abtastgeschwindigkeit einer Wellenlänge, die in jedem Wellenlängenbereich einzustellen ist, wenn eine Wellenlängenabtastmessung erfolgt, bei welcher der gesamte Messwellenlängenbereich, einschließlich sämtlicher der mehreren Wellenlängenbereiche, auf einmal abgetastet wird, wechselt bzw. ändert ein Spektrophotometer (100) eine der mehreren Dimmplatten (16a bis 16e) und die Abtastgeschwindigkeit gemäß den Messbedingungen für jeden Wellenlängenbereich.

公开(公告)号：DE102006048974B4

公开(公告)日：2021-11-25

申请号：DE102006048974

申请日：2006-10-17

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： KOZAKAI TOMOKAZU ,  HAGIWARA RYOJI ,  MURAMATSU MASASHI

IPC: H01J37/304 ,  B23K15/00 ,  G01B15/00 ,  H01J37/30

Abstract: Bestrahlungsverfahren mit geladenem Teilchenstrahl (2) zum Abtasten und Bestrahlen, das ein Gerät (1) für den geladenen Teilchenstrahl (2) verwendet, um ein Werkstück (8) zu beobachten oder zu bearbeiten, die Schritte aufweisend:- Einstellen eines Beobachtungs- oder Prozessbereichs, wobei der Beobachtungs- oder Prozessbereich ein rechteckiger Abtastbereich (50) ist;- Bestimmen einer Mehrzahl von Abtastlinien im Prozess- oder Beobachtungsbereich; wobei der Schritt der Bestimmung der Mehrzahl von Abtastlinien die Schritte aufweist:- Einstellen einer Abtastlinie entlang dem Außenumfang des Beobachtungs- oder Prozessbereichs;- Bestimmen einer Abtastlinie innerhalb und entlang der so eingestellten Abtastlinie;- Bestimmen einer Abtastlinie innerhalb und entlang der so bestimmten Abtastlinie; und- Wiederholen des Schrittes der Bestimmung einer Abtastlinie; und- Bestrahlen der bestimmten Abtastlinien mit dem geladenen Teilchenstrahl (2).

公开(公告)号：DE102021201940A1

公开(公告)日：2021-09-16

申请号：DE102021201940

申请日：2021-03-01

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： KOBAYASHI KENGO ,  NISHIMURA SHINYA ,  FUJIWARA HIROHITO

IPC: G01N25/20

Abstract: Vorgesehen ist ein thermischer Analysator, mit dem eine Probe auch in einem Zustand beobachtet werden kann, in dem eine Wärmesenke auf Raumtemperatur oder niedriger abgekühlt ist. Der thermische Analysator umfasst: die Wärmesenke, in der ein Messprobenbehälter und ein Referenzprobenbehälter angeordnet sind; einen Differentialwärmestromdetektor, der so konfiguriert ist, dass er eine Temperaturdifferenz zwischen einer Messprobe und einer Referenzprobe erfasst, die durch von der Messprobe absorbierte oder abgegebene Wärme verursacht wird; eine Messschaltung, die so konfiguriert ist, dass sie die erfasste und vom Differentialwärmestromdetektor eingegebene Temperaturdifferenz in ein DSC-Signal umwandelt; eine Wärmesenkeabdeckung, die so konfiguriert ist, dass sie die Wärmesenke abdeckt; ein in der Wärmesenke vorgesehenes Wärmesenkefenster; ein in der Wärmesenkeabdeckung vorgesehenes Wärmesenkeabdeckfenster; eine Abbildungsvorrichtung, die so konfiguriert ist, dass sie die Probe in der Wärmesenke durch das Wärmesenkefenster und das Wärmesenkeabdeckfenster abbildet; einen Spülgaseinleitungsabschnitt, durch den ein Spülgas in die Wärmesenke eingeleitet wird; und eine Auslassöffnung, durch die das Spülgas von einem von dem Wärmesenkefenster und der Wärmesenke zu einem Raum innerhalb der Wärmesenkeabdeckung strömen kann.

公开(公告)号：DE102013102669B4

公开(公告)日：2021-09-16

申请号：DE102013102669

申请日：2013-03-15

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： MAN XIN ,  UEMOTO ATSUSHI

IPC: H01J37/26 ,  G01N1/28

Abstract: Proben-Beobachtungsverfahren zum Beobachten einer Beobachtungsfläche (7a) von einer Probe (7) durch ein Bestrahlen mit einem Ladungspartikelstrahl (8), wobei das Verfahren umfasst:Einstellen einer Neigung einer Probenstufe (6) mit Bezug auf den Ladungspartikelstrahl (8) derart, dass die Beobachtungsfläche (7a) senkrecht zum Ladungspartikelstrahl (8) steht;Platzieren der Probenstufe (6) bei einem ersten Neigungswinkel mit Bezug auf den Ladungspartikelstrahl (8), und Bestrahlen der Beobachtungsfläche (7a) mit dem Ladungspartikelstrahl (8), um ein erstes Ladungspartikel-Bild zu erlangen;Neigen der Probenstufe (6) auf einen zweiten Neigungswinkel, welcher sich vom ersten Neigungswinkel unterscheidet, um eine erste Probenstufen-Achse (23), und Bestrahlen der Beobachtungsfläche (7a) mit dem Ladungspartikelstrahl (8), um ein zweites Ladungspartikel-Bild zu erlangen;Vergleichen eines Bereichs der Beobachtungsfläche (7a) in dem ersten Ladungspartikel-Bild mit einem Bereich der Beobachtungsfläche (7a) in dem zweiten Ladungspartikel-Bild,Berechnen eines optimalen Neigungswinkels der Probenstufe (6) aus dem Vergleich, bei welchem der Bereich der Beobachtungsfläche (7a) im erlangten Ladungspartikel-Bild größer ist,Neigen der Probenstufe (6) auf den optimalen Neigungswinkel; undBestrahlen der Beobachtungsfläche (7a) mit dem Ladungspartikelstrahl (8), um die Beobachtungsfläche (7a) zu beobachten.

公开(公告)号：DE102020213108A1

公开(公告)日：2021-04-22

申请号：DE102020213108

申请日：2020-10-16

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： SUGIYAMA YASUHIKO ,  NAGAHARA KOJI

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/147

Abstract: Bereitgestellt werden ein Ladungsteilchenstrahlgerät, ein Verbundladungsteilchenstrahlgerät und ein Steuerverfahren für ein Ladungsteilchenstrahlgerät, mit welchen, wenn eine Objektivlinse zwischen einem Beschleunigungsmodus und einem Verzögerungsmodus umgeschaltet wird oder eine Anlegespannung einer Verstärkerelektrode, welche die Objektivlinse bildet, verändert wird, es möglich ist, ein abgetastetes Bild einer Probenfläche ohne irgendeine Verzerrung und mit einem genauen Maß auf dem gleichen Niveau wie bei einem Bild vor dem Umschalten oder der Änderung zu erhalten. Das Ladungsteilchenstrahlgerät umfasst: eine Ladungsteilchenquelle, welche dafür ausgelegt ist, um Ladungsteilchen zu erzeugen; eine Vielzahl von Abtastelektroden, welche dafür ausgelegt sind, um elektrische Felder zum Ablenken von Ladungsteilchen zu erzeugen, welche durch Anlegen einer Beschleunigungsspannung an die Ladungsteilchenquelle und Anlegen einer Extraktionsspannung an eine Extraktionselektrode ausgestrahlt werden, welche dafür ausgelegt ist, um die Ladungsteilchen zu extrahieren; eine elektrostatische Linse, welche zwischen der Vielzahl von Abtastelektroden und einem Probentisch vorgesehen und dafür ausgelegt ist, um einen durch die Vielzahl von Abtastelektroden abgelenkten geladenen Ladungsteilchenstrahl zu fokussieren; und eine Verarbeitungseinheit, welche dafür ausgelegt ist, um eine Messbedingung zu erhalten und jede an die Vielzahl von

公开(公告)号：DE102020208624A1

公开(公告)日：2021-04-15

申请号：DE102020208624

申请日：2020-07-09

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： FUKUDA MASATO ,  ITO MASAHITO ,  MATSUSHITA MIYUKI ,  HASHIMOTO MAKOTO ,  HAYAKAWA KATSUMI

IPC: G01N30/88 ,  G01N30/02 ,  G01N35/00

Abstract: [Aufgabe] Eine Analysevorrichtung bereitzustellen, welche Verwendungsfristen von Standardproben automatisch verwaltet und auf sie hinweist, womit die Verwaltung von Standardproben erleichtert wird.[Lösung] Analysevorrichtung 100, welche mit einer Standardprobe 200 eine unbekannte Probe analysiert, wobei sie eine Ausleseeinheit 12, welche an der Standardprobe angebrachte Verwendungsfrist-Information 210 ausliest, sowie eine Steuereinheit 9 umfasst, wobei die Steuereinheit feststellt, ob bei der Verwendungsfrist-Information der Standardprobe die Frist abgelaufen ist, und bei einer Feststellung, dass die Frist noch läuft, die Ausführung einer 1. Messung mit der Standardprobe oder einer 2. Messung einer unbekannten Probe mit der Standardprobe veranlasst sowie das Messergebnis zusammen mit der Verwendungsfrist-Information anzeigt; bei einer Feststellung, dass die Frist abgelaufen ist, durch ein vorgegebenes Verfahren auf den Austausch der Standardprobe hinweist.

公开(公告)号：DE102020208623A1

公开(公告)日：2021-04-15

申请号：DE102020208623

申请日：2020-07-09

Applicant: HITACHI HIGH TECH SCIENCE CORP

Inventor： FUKUDA MASATO ,  ITO MASAHITO ,  MATSUSHITA MIYUKI ,  HASHIMOTO MAKOTO

IPC: G01N30/88 ,  B01D15/08 ,  G01N30/02 ,  G01N35/00

Abstract: [Aufgabe] Eine Flüssigkeitschromatograph-Vorrichtung bereitzustellen, die bei der Messung automatisch entscheidet, ob die Vorrichtung zu justieren ist, und außerdem die Justierung selbsttätig durchführt, womit der Nutzer entlastet und die Arbeitseffizienz durch die Vermeidung von überflüssigen Justierungen gesteigert werden kann.[Lösung] Flüssigkeitschromatograph-Vorrichtung 100, die eine Steuereinheit 9 umfasst und mit einer und derselben Säule 4 dieselben oder verschiedene Proben unter vorgegebenen Messbedingungen misst, wobei die Steuereinheit nach dem Abschluss der aktuellen Messung und beim Starten der nächsten Messung eine vorherbestimmte Vergleichsbedingung aus den Messbedingungen der aktuellen Messung mit der Vergleichsbedingung bei den Messbedingungen der nächsten Messung vergleicht und bei Übereinstimmung innerhalb eines vorgegebenen Schwellenwertes im Vergleichsergebnis die nächste Messung durchführt, ohne Justierung vorzunehmen; bei Nichtübereinstimmung außerhalb des Schwellenwertes eine abhängig von dem Schwellenwert festgelegte Justierung der Vorrichtung durchführt.