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公开(公告)号:JP6410434B2
公开(公告)日:2018-10-24
申请号:JP2014021837
申请日:2014-02-07
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/141
CPC classification number: H01J37/141 , H01J37/222 , H01J37/243 , H01J37/261 , H01J37/265 , H01J2237/04922 , H01J2237/221 , H01J2237/2801 , H01J2237/2806 , H01J2237/2809 , H01J2237/2817
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公开(公告)号:JP6216515B2
公开(公告)日:2017-10-18
申请号:JP2013014987
申请日:2013-01-30
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/147 , H01J37/05 , H01J37/244 , H01J37/22 , H01J37/153 , H01J37/20 , H01J37/28
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公开(公告)号:JP5934501B2
公开(公告)日:2016-06-15
申请号:JP2011271863
申请日:2011-12-13
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/244 , H01J37/20 , H01L21/66 , G01B15/00 , H01J37/21
CPC classification number: G01B15/00 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01L22/12 , G01B2210/56 , H01J2237/20 , H01J2237/281 , H01J37/244
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公开(公告)号:JP6310676B2
公开(公告)日:2018-04-11
申请号:JP2013231503
申请日:2013-11-07
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01N23/2208 , G01N23/2252
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公开(公告)号:JP6002428B2
公开(公告)日:2016-10-05
申请号:JP2012098311
申请日:2012-04-24
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/147 , H01J37/145 , H01J37/153
CPC classification number: H01J37/141 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/28 , H01J2237/1405 , H01J2237/1532 , H01J2237/1536
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公开(公告)号:JP2015149203A
公开(公告)日:2015-08-20
申请号:JP2014021837
申请日:2014-02-07
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/141
CPC classification number: H01J37/141 , H01J37/222 , H01J37/243 , H01J37/261 , H01J37/265 , H01J2237/04922 , H01J2237/221 , H01J2237/2801 , H01J2237/2806 , H01J2237/2809 , H01J2237/2817
Abstract: 【課題】 電磁レンズの収束作用の強さを変更することで、ビーム電流、半開角、ビームの試料表面の収束位置のいずれか一つ以上を切り替える構成の荷電粒子ビーム装置において、ビーム電流、半開角、ビームの試料表面の収束位置を高速に切り替えて撮像することが出来ない。 【解決手段】 荷電粒子ビーム装置を、荷電粒子ビームを試料に照射する荷電粒子ビーム源と、電磁レンズと、電磁レンズの収束作用の強さを制御するためのレンズ制御電源と、レンズ制御電源に対して電磁レンズと並列に接続され、電磁レンズの収束作用の強さの切り替え時のレンズ電流を、単調増加または単調減少となるように制御する位相補償回路と、を有する構成とする。 【選択図】 図2
Abstract translation: 要解决的问题:为了解决在通过改变光束的强度来切换光束的样品表面上的束电流,半开角和会聚位置中的任何一个或多个的带电粒子束装置的问题 的电磁透镜的会聚动作,不能在以高速切换光束的样品表面的束电流,半开角和会聚位置的同时进行成像。解决方案:带电粒子束装置包括: 带电粒子束源用带电粒子束照射样品; 电磁透镜; 用于控制电磁透镜的会聚动作强度的透镜控制电源; 以及与透镜控制电源并联地与电磁透镜连接的相位补偿电路,并且在电磁透镜的会聚动作的强度的切换下控制透镜电流,以便单调增加或单调减小。
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公开(公告)号:JP6138454B2
公开(公告)日:2017-05-31
申请号:JP2012237802
申请日:2012-10-29
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: H01J37/153 , H01J37/28 , H01J37/141
CPC classification number: H01J37/1478 , H01J37/141 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J2237/141 , H01J2237/1415 , H01J2237/1506 , H01J2237/2801
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公开(公告)号:JP2017076523A
公开(公告)日:2017-04-20
申请号:JP2015203339
申请日:2015-10-15
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: H01J37/22 , H01J37/21 , H01J37/28 , H01J2237/024 , H01J2237/216 , H01J2237/2817
Abstract: 【課題】 本発明は、レンズやセンサ等を追加することのない簡単な構成で、MAMタイムの低下を抑制しつつ、適正なビーム調整を行うことが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。 【解決手段】 上記目的を達成するために本発明では、荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームを調整する光学素子と、当該光学素子に対する前記荷電粒子ビームの入射条件を調整する調整素子と、当該調整素子を制御する制御装置を備えた荷電粒子線装置であって、前記制御装置は、前記光学素子の条件設定に基づいて、前記光学素子の状態を示す第1の特徴量と、前記条件設定に基づいて前記光学素子が到達する状態を示す第2に特徴量との差異を求め、当該差異が所定値以上のときに、前記調整素子による調整を実行する荷電粒子線装置を提案する。 【選択図】 図9
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