公开(公告)号：KR1020160076459A

公开(公告)日：2016-06-30

申请号：KR1020150181406

申请日：2015-12-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시츠요시 ,  사노마사키 ,  가미오다카시 ,  다카기도시오

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/60 ,  H01L21/28

CPC classification number: C23C16/45544 ,  C23C16/45565 ,  C23C16/45589

Abstract: 진공분위기에서서로반응하는복수종류의반응가스를치환용의가스의공급을거쳐서순차로공급하여성막처리를실행하는성막장치에있어서, 반응가스와치환용의가스와의치환성이높고, 면내균일성이높은성막처리를실행할수 있는기술을제공한다. 웨이퍼(W)의탑재대(2)의상방에마련된샤워헤드(5)의가스분출구멍(511)을웨이퍼(W)보다넓은영역에배치하는동시에, 이샤워헤드(5) 위의확산공간(50)에, 횡방향으로가스를분산시키도록그 둘레방향을따라서가스토출구(52)가형성된복수의제 1 및제 2 가스분산부(4A, 4B)를배치하고있다. 그리고, 기판의중심부를중심으로하는내측의제 1 원을따라서 4개의제 1 가스분산부(4A)를마련하고, 또한, 제 1 원의외측의제 2 원을따라서 8개의제 2 가스분산부(4B)를이용하고있다.

Abstract translation: 成膜装置技术领域本发明涉及一种成膜装置，其通过在真空条件下连续供给多种反应气体进行成膜处理，所述反应气体通过供给气体进行替换。 本发明提供的技术在反应气体和置换气体之间具有较高的替换能力，能够以均匀的平面进行成膜处理。 本发明设置多个第一和第二气体分配单元（4A，4B），其具有沿圆周方向形成的气体放电单元（52），以便沿着纵向方向将气体分布到淋浴器上的扩散空间（50） 在布置在晶片（W）的大于晶片（W）的区域的工作台（2）的上侧上的喷淋头（5）的气体吹出孔（511）的前端（5）。 本发明在基板的中央部分的内侧的第一圆周配置四个第一气体分配单元（4A），并且在第一圆的外侧沿着第二圆形使用八个第二气体分配单元（4B） 。

公开(公告)号：KR102065243B1

公开(公告)日：2020-01-10

申请号：KR1020180044278

申请日：2018-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아시자와히로아키 ,  후지이야스시 ,  다카하시츠요시 ,  홍석형 ,  야마자키가즈요시 ,  나카무라히데오 ,  누노시게유 ,  가미오다카시

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  C23C16/455

公开(公告)号：KR101935086B1

公开(公告)日：2019-01-03

申请号：KR1020150181406

申请日：2015-12-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카하시츠요시 ,  사노마사키 ,  가미오다카시 ,  다카기도시오

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/60 ,  H01L21/28