公开(公告)号：KR1020150131968A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：KR1020150063007

申请日：2015-05-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고야마가즈야 ,  기요세히로미 ,  마츠키가츠후미 ,  다카하시슈헤이 ,  니시무라히데키 ,  우노다카시 ,  마루야마히로타카

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B08B9/032 ,  H01L21/67023

Abstract: 본발명은기판액 처리장치의회수라인을효율적으로세정하는것을과제로한다. 기판액 처리장치는, 기판을처리액으로처리하는적어도하나의처리부와, 상기처리액을저류하는저류탱크와, 상기저류탱크내로부터상기처리액을취출하고, 상기저류탱크로복귀시키는순환라인과, 상기순환라인으로부터분기되어, 상기처리부에상기처리액을공급하는분기공급라인과, 상기처리부에서상기기판에공급된후의처리액을상기저류탱크로복귀시키는회수라인과, 상기순환라인과상기회수라인을접속하는분배라인과, 상기분배라인에설치되고, 상기회수라인의세정시에개방되는개폐밸브를구비하고있다. 순환라인에세정액을순환시키고있을때에, 순환라인을흐르는세정액의일부를분배라인으로부터회수라인에도입하여회수라인을세정한다.

Abstract translation: 本发明是为了有效地清洗基板液体处理装置的收集线。 基板液体处理装置包括：至少一个处理部件，用处理液处理基板; 存储处理液的储存罐; 循环管线，从储罐中提取处理液体，并将处理液体返回到储罐; 从所述循环管线分支以将处理液体供给到所述处理部件的分支供给管线; 将从所述处理部供给到所述基板的处理液返回到所述储存罐的收集线; 将循环线连接到收集线的分配线; 以及安装在配送线路上的打开/关闭阀，并且当收集线被清洁时打开。 当清洗液体在循环管线中循环时，清洁液体的一部分从分配管线引导到收集管线，以清洁收集管线。

公开(公告)号：KR102251256B1

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：KR1020140074886

申请日：2014-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이노우에시게히사 ,  나가야마다이스케 ,  마츠키가츠후미 ,  마스즈미다쿠로 ,  요시다유키 ,  아이바라메이토쿠 ,  기요세히로미 ,  우노다카시 ,  마루야마히로타카 ,  고야마가즈야 ,  나가자와다카시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683

Abstract: 본발명은액적상의처리액으로기판을처리하는기판액처리장치및 기판액처리방법에있어서, 기판의표면에파티클이부착되는것을억제하여, 기판의처리를양호하게행할수 있도록하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판액처리장치(1)에서, 기판(3)의표면을향해순수를함유하는액적상의제1 처리액을토출하는제1 처리액토출부(12)와, 상기액적상의제1 처리액으로처리한상기기판(3)의표면을향해, 상기기판(3) 표면의제타전위를네거티브로반전시키는제2 처리액을토출하는제2 처리액토출부(13)를갖는것으로하였다. 예컨대상기제1 처리액으로서는, 이산화탄소가첨가된순수가이용되고, 상기제2 처리액으로서는, SC-1액이이용된다.

公开(公告)号：KR1020140148330A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：KR1020140074886

申请日：2014-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이노우에시게히사 ,  나가야마다이스케 ,  마츠키가츠후미 ,  마스즈미다쿠로 ,  요시다유키 ,  아이바라메이토쿠 ,  기요세히로미 ,  우노다카시 ,  마루야마히로타카 ,  고야마가즈야 ,  나가자와다카시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683

CPC classification number: B08B3/02 ,  H01L21/67051

Abstract: An objective of the present invention is to provide an apparatus and a method of liquid processing a substrate, in which particles are suppressed from attaching to a substrate so that the substrate is satisfactorily processed. The liquid processing apparatus (1) of the present invention includes: a first processing liquid discharge unit (12) to discharge a first processing liquid in a form of liquid droplets, which contains pure water toward the surface of the substrate (13) ; and a second processing liquid discharge unit (13) to discharge a second processing liquid, which inverts a zeta electrical potential of a surface of the substrate (3) to a negative zeta potential, toward the surface of the substrate (3) processed by the first processing liquid in the form of the liquid droplets. For example, a pure water having carbon dioxide added is used as the first processing liquid and an SC-1 liquid is used as the second processing liquid.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种液体处理衬底的装置和方法，其中抑制颗粒附着到衬底上，使得衬底被令人满意地加工。 本发明的液体处理装置（1）包括：第一处理液体排出单元（12），其将含有纯水的液滴形式的第一处理液体朝向基板（13）的表面排出; 以及第二处理液体排出单元（13），用于将基板（3）的表面的ζ电位反转为负ζ电位的第二处理液朝向由所述基板（3）处理的基板（3）的表面 首先以液滴的形式处理液体。 例如，使用添加有二氧化碳的纯水作为第一处理液，使用SC-1液作为第二处理液。