公开(公告)号：KR1020150131968A

公开(公告)日：2015-11-25

申请号：KR1020150063007

申请日：2015-05-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고야마가즈야 ,  기요세히로미 ,  마츠키가츠후미 ,  다카하시슈헤이 ,  니시무라히데키 ,  우노다카시 ,  마루야마히로타카

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B08B9/032 ,  H01L21/67023

Abstract: 본발명은기판액 처리장치의회수라인을효율적으로세정하는것을과제로한다. 기판액 처리장치는, 기판을처리액으로처리하는적어도하나의처리부와, 상기처리액을저류하는저류탱크와, 상기저류탱크내로부터상기처리액을취출하고, 상기저류탱크로복귀시키는순환라인과, 상기순환라인으로부터분기되어, 상기처리부에상기처리액을공급하는분기공급라인과, 상기처리부에서상기기판에공급된후의처리액을상기저류탱크로복귀시키는회수라인과, 상기순환라인과상기회수라인을접속하는분배라인과, 상기분배라인에설치되고, 상기회수라인의세정시에개방되는개폐밸브를구비하고있다. 순환라인에세정액을순환시키고있을때에, 순환라인을흐르는세정액의일부를분배라인으로부터회수라인에도입하여회수라인을세정한다.

Abstract translation: 本发明是为了有效地清洗基板液体处理装置的收集线。 基板液体处理装置包括：至少一个处理部件，用处理液处理基板; 存储处理液的储存罐; 循环管线，从储罐中提取处理液体，并将处理液体返回到储罐; 从所述循环管线分支以将处理液体供给到所述处理部件的分支供给管线; 将从所述处理部供给到所述基板的处理液返回到所述储存罐的收集线; 将循环线连接到收集线的分配线; 以及安装在配送线路上的打开/关闭阀，并且当收集线被清洁时打开。 当清洗液体在循环管线中循环时，清洁液体的一部分从分配管线引导到收集管线，以清洁收集管线。

公开(公告)号：KR102251256B1

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：KR1020140074886

申请日：2014-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이노우에시게히사 ,  나가야마다이스케 ,  마츠키가츠후미 ,  마스즈미다쿠로 ,  요시다유키 ,  아이바라메이토쿠 ,  기요세히로미 ,  우노다카시 ,  마루야마히로타카 ,  고야마가즈야 ,  나가자와다카시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683

Abstract: 본발명은액적상의처리액으로기판을처리하는기판액처리장치및 기판액처리방법에있어서, 기판의표면에파티클이부착되는것을억제하여, 기판의처리를양호하게행할수 있도록하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판액처리장치(1)에서, 기판(3)의표면을향해순수를함유하는액적상의제1 처리액을토출하는제1 처리액토출부(12)와, 상기액적상의제1 처리액으로처리한상기기판(3)의표면을향해, 상기기판(3) 표면의제타전위를네거티브로반전시키는제2 처리액을토출하는제2 처리액토출부(13)를갖는것으로하였다. 예컨대상기제1 처리액으로서는, 이산화탄소가첨가된순수가이용되고, 상기제2 처리액으로서는, SC-1액이이용된다.

公开(公告)号：KR1020150060547A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：KR1020140162505

申请日：2014-11-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미조타쇼고 ,  야부타다카시 ,  노나카준 ,  기요세히로미 ,  니시무라히데키 ,  우노다카시 ,  나카자와다카시

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017

Abstract: (과제) 필터내부에오염물질이존재하는경우에그 오염물질의순환계로의확산을최소한으로억제하면서, 필터를순환라인의미리정해진위치에장착한상태로필터를세정한다. (해결수단) 필터세정방법은, 필터(108)를순환라인(104)의미리정해진위치에설치한상태로, 순환라인의일부만및 탱크(102)에제1 플러싱액을공급함으로써필터의내부를상기제1 플러싱액으로채우는플러싱액충전공정과, 이공급된플러싱액을, 순환라인의상기일부또는탱크에접속된제1 드레인라인으로부터배출시킴으로써상기필터로부터상기제1 플러싱액을빼내는제1 플러싱액배출공정을포함한다.

Abstract translation: 本发明在污染物质存在于过滤器中时将污染物扩散到循环系统中最小化，并且将过滤器固定在循环管线的预定位置的状态下进行清洗。 清洗过滤器的方法包括：在过滤器（108）的条件下，通过将第一冲洗溶液供应到罐（102）和循环管线的一部分而将第一冲洗溶液填充到第一冲洗溶液中的冲洗溶液加料过程， 被安装到循环管线（104）的预定位置; 以及第一冲洗溶液排出处理，通过从连接到所述罐或所述循环管线的一部分的第一排出管排出所提供的冲洗溶液，从所述过滤器提取第一冲洗溶液。

公开(公告)号：KR1020150060538A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：KR1020140160072

申请日：2014-11-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 기요하라야스오 ,  수나카이쿠오 ,  다나카고지 ,  사토다카미 ,  미즈모토가즈요시 ,  우노다카시 ,  마루야마히로다카 ,  우에무카이히데토모 ,  마에조노토미야스

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/66

CPC classification number: G05D11/132 ,  B01F3/088 ,  B01F15/0479

Abstract: 본발명은액의혼합비율의정밀도를향상시키는것을목적으로한다. 실시형태에따른기판처리장치는, 혼합조와, 제1 개폐밸브와, 제2 개폐밸브와, 제1 유량계측부와, 제2 유량계측부와, 제어부와, 기판처리유닛을구비한다. 혼합조에서는, 제1 액과제1 액보다다량의제2 액이혼합된다. 제1 개폐밸브는, 제1 액이흐르는제1 유로를개폐한다. 제2 개폐밸브는, 제2 액이흐르는제2 유로를개폐한다. 제1 유량계측부는, 제1 유로를통해흐르는제1 액의유량을계측한다. 제2 유량계측부는, 제2 유로를통해흐르는제2 액의유량을계측한다. 제어부는, 제1 개폐밸브및 제2 개폐밸브의개폐를제어한다. 기판처리유닛은, 제1 액과제2 액의혼합액을기판에대하여공급함으로써기판을처리한다. 또한, 제어부는, 제1 개폐밸브를개방한후, 제1 유량계측부에의해계측된제1 액의유량의적산치가미리정해진목표치에도달한경우에, 제1 개폐밸브를폐쇄하는제1 폐쇄처리를실행하고, 제1 개폐밸브를개방한후부터제1 개폐밸브가완전히폐쇄된후에있어서의제1 액의유량의적산치에기초하여, 혼합조에대한제2 액의공급량의목표치를산출하며, 산출된목표치와제2 유량계측부에의해계측된제2 액의유량의적산치에기초하여, 제2 개폐밸브를폐쇄하는제2 폐쇄처리를실행한다.

Abstract translation: 本发明的目的是提高液体混合速度的精度。 根据本发明的实施例的基板处理装置包括混合罐，第一开闭阀，第二开闭阀，第一流量测量部，第二流量测量部，控制部和基板 处理单元。 第一液体和第二液体，其量大于第一液体的量，在混合罐中彼此混合。 第一打开和关闭阀打开/关闭第一液体流动的第一流动通道。 第二打开和关闭阀打开/关闭第二液体流动的第二流动通道。 第一流量测量部件测量流过第一流动通道的第一液体的量。 第二流量测量部分测量流过第二流动通道的第二液体的量。 控制部控制第一开闭阀和第二开闭阀。 基板处理单元通过将第一液体和第二液体的混合液体供给到基板对基板进行处理。 此外，在第一开闭阀打开之后，当由第一流量测量部测量的第一液体的量的积分值达到预定目标值时，控制单元进行关闭的第一关闭处理 首先打开和关闭阀门。 基于通过打开第一开闭阀直到完全关闭第一开闭阀而获得的第一液体的量的积分值，控制单元计算第二液体的供给量的目标值 到混合罐。 基于由第二流量测量部测量的计算出的目标值和第二液体量的积分值，控制部进行关闭第二开闭阀的第二关闭处理。

公开(公告)号：KR1020140148330A

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：KR1020140074886

申请日：2014-06-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이노우에시게히사 ,  나가야마다이스케 ,  마츠키가츠후미 ,  마스즈미다쿠로 ,  요시다유키 ,  아이바라메이토쿠 ,  기요세히로미 ,  우노다카시 ,  마루야마히로타카 ,  고야마가즈야 ,  나가자와다카시

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/683

CPC classification number: B08B3/02 ,  H01L21/67051

Abstract: An objective of the present invention is to provide an apparatus and a method of liquid processing a substrate, in which particles are suppressed from attaching to a substrate so that the substrate is satisfactorily processed. The liquid processing apparatus (1) of the present invention includes: a first processing liquid discharge unit (12) to discharge a first processing liquid in a form of liquid droplets, which contains pure water toward the surface of the substrate (13) ; and a second processing liquid discharge unit (13) to discharge a second processing liquid, which inverts a zeta electrical potential of a surface of the substrate (3) to a negative zeta potential, toward the surface of the substrate (3) processed by the first processing liquid in the form of the liquid droplets. For example, a pure water having carbon dioxide added is used as the first processing liquid and an SC-1 liquid is used as the second processing liquid.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种液体处理衬底的装置和方法，其中抑制颗粒附着到衬底上，使得衬底被令人满意地加工。 本发明的液体处理装置（1）包括：第一处理液体排出单元（12），其将含有纯水的液滴形式的第一处理液体朝向基板（13）的表面排出; 以及第二处理液体排出单元（13），用于将基板（3）的表面的ζ电位反转为负ζ电位的第二处理液朝向由所述基板（3）处理的基板（3）的表面 首先以液滴的形式处理液体。 例如，使用添加有二氧化碳的纯水作为第一处理液，使用SC-1液作为第二处理液。