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公开(公告)号：KR1020150131968A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：KR1020150063007
申请日：2015-05-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L21/67017 , B08B9/032 , H01L21/67023
Abstract: 본발명은기판액 처리장치의회수라인을효율적으로세정하는것을과제로한다. 기판액 처리장치는, 기판을처리액으로처리하는적어도하나의처리부와, 상기처리액을저류하는저류탱크와, 상기저류탱크내로부터상기처리액을취출하고, 상기저류탱크로복귀시키는순환라인과, 상기순환라인으로부터분기되어, 상기처리부에상기처리액을공급하는분기공급라인과, 상기처리부에서상기기판에공급된후의처리액을상기저류탱크로복귀시키는회수라인과, 상기순환라인과상기회수라인을접속하는분배라인과, 상기분배라인에설치되고, 상기회수라인의세정시에개방되는개폐밸브를구비하고있다. 순환라인에세정액을순환시키고있을때에, 순환라인을흐르는세정액의일부를분배라인으로부터회수라인에도입하여회수라인을세정한다.
Abstract translation: 本发明是为了有效地清洗基板液体处理装置的收集线。 基板液体处理装置包括：至少一个处理部件，用处理液处理基板; 存储处理液的储存罐; 循环管线，从储罐中提取处理液体，并将处理液体返回到储罐; 从所述循环管线分支以将处理液体供给到所述处理部件的分支供给管线; 将从所述处理部供给到所述基板的处理液返回到所述储存罐的收集线; 将循环线连接到收集线的分配线; 以及安装在配送线路上的打开/关闭阀，并且当收集线被清洁时打开。 当清洗液体在循环管线中循环时，清洁液体的一部分从分配管线引导到收集管线，以清洁收集管线。
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公开(公告)号：KR1020140148330A
公开(公告)日：2014-12-31
申请号：KR1020140074886
申请日：2014-06-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이노우에시게히사 , 나가야마다이스케 , 마츠키가츠후미 , 마스즈미다쿠로 , 요시다유키 , 아이바라메이토쿠 , 기요세히로미 , 우노다카시 , 마루야마히로타카 , 고야마가즈야 , 나가자와다카시
IPC: H01L21/302 , H01L21/683
CPC classification number: B08B3/02 , H01L21/67051
Abstract: An objective of the present invention is to provide an apparatus and a method of liquid processing a substrate, in which particles are suppressed from attaching to a substrate so that the substrate is satisfactorily processed. The liquid processing apparatus (1) of the present invention includes: a first processing liquid discharge unit (12) to discharge a first processing liquid in a form of liquid droplets, which contains pure water toward the surface of the substrate (13) ; and a second processing liquid discharge unit (13) to discharge a second processing liquid, which inverts a zeta electrical potential of a surface of the substrate (3) to a negative zeta potential, toward the surface of the substrate (3) processed by the first processing liquid in the form of the liquid droplets. For example, a pure water having carbon dioxide added is used as the first processing liquid and an SC-1 liquid is used as the second processing liquid.
Abstract translation: 本发明的目的是提供一种液体处理衬底的装置和方法，其中抑制颗粒附着到衬底上，使得衬底被令人满意地加工。 本发明的液体处理装置（1）包括：第一处理液体排出单元（12），其将含有纯水的液滴形式的第一处理液体朝向基板（13）的表面排出; 以及第二处理液体排出单元（13），用于将基板（3）的表面的ζ电位反转为负ζ电位的第二处理液朝向由所述基板（3）处理的基板（3）的表面 首先以液滴的形式处理液体。 例如，使用添加有二氧化碳的纯水作为第一处理液，使用SC-1液作为第二处理液。
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公开(公告)号：KR102251256B1
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：KR1020140074886
申请日：2014-06-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 이노우에시게히사 , 나가야마다이스케 , 마츠키가츠후미 , 마스즈미다쿠로 , 요시다유키 , 아이바라메이토쿠 , 기요세히로미 , 우노다카시 , 마루야마히로타카 , 고야마가즈야 , 나가자와다카시
IPC: H01L21/302 , H01L21/683
Abstract: 본발명은액적상의처리액으로기판을처리하는기판액처리장치및 기판액처리방법에있어서, 기판의표면에파티클이부착되는것을억제하여, 기판의처리를양호하게행할수 있도록하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판액처리장치(1)에서, 기판(3)의표면을향해순수를함유하는액적상의제1 처리액을토출하는제1 처리액토출부(12)와, 상기액적상의제1 처리액으로처리한상기기판(3)의표면을향해, 상기기판(3) 표면의제타전위를네거티브로반전시키는제2 처리액을토출하는제2 처리액토출부(13)를갖는것으로하였다. 예컨대상기제1 처리액으로서는, 이산화탄소가첨가된순수가이용되고, 상기제2 처리액으로서는, SC-1액이이용된다.
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公开(公告)号：KR1020170103653A
公开(公告)日：2017-09-13
申请号：KR1020170024175
申请日：2017-02-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: F26B21/14 , F26B5/00 , F26B9/06 , H01L21/02101 , H01L21/67017 , H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67051
Abstract: 본발명은, 비교적짧은시간에, 기판의표면에부착된액체를처리유체에의해제거함과더불어, 처리유체를장시간에걸쳐사용하는것을목적으로한다. 기판처리장치(10)는웨이퍼(W)에대하여초임계처리를행하는처리용기(1)와, 유체공급라인(51)과, 유체배출라인(52)과, 제1 순환라인(53)과, 제2 순환라인(60)을구비한다. 제1 순환라인(53) 및제2 순환라인(60)에, 처리유체를받는처리용기(1)의용량보다큰 제1 저류탱크(20) 및제2 저류탱크(62)가설치되어있다.
Abstract translation: 本发明的目的在于通过处理液在较短的时间内除去附着在基板表面上的液体，并且长时间使用处理液。 基板处理装置10具备：对晶圆W进行超临界处理的处理容器1，流体供给管路51，流体排出管路52，第一循环管路53， 和第二循环线（60）。 第一循环管线53和第二循环管线60设置有比处理容器1的容纳容积大的第一储存罐20和第二储存罐62。
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公开(公告)号：KR101808886B1
公开(公告)日：2017-12-13
申请号：KR1020130135246
申请日：2013-11-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/306
Abstract: 본발명은, 기판을처리하는처리액의온도를양호하게관리할수 있도록하는것을목적으로한다. 기판(2)을정해진온도로가열한처리액으로처리하는기판처리장치(1)에있어서, 상기처리액을저류하는용기[저류조(8), 가열조(22)]와, 상기용기에형성된가열벽(33)에히터(34)를마련하고, 상기히터(34)로상기처리액을상기가열벽(33)을통해가열하는처리액가열수단(6)과, 상기가열벽(33)에마련하며, 상기가열벽(33)의온도를측정하는제어용온도센서(36)와, 상기제어용온도센서(36)로측정한온도에기초하여상기처리액가열수단(6)을제어하는제어수단(7)을갖고, 상기제어수단(7)은, 상기제어용온도센서(36)로측정한상기가열벽(33)의온도에기초하여상기처리액가열수단(6)을제어하도록하였다.
Abstract translation: 本发明的目的是使得可以控制用于处理基板井的处理溶液的温度。 一种基板处理装置（1），其用于将处理液加热到规定的温度来处理基板（2），该基板处理装置具有收纳处理液的容器（收容容器（8），加热容器（22） 一种处理液体加热装置（6），其在壁（33）上设有加热器（34）并通过加热壁（33）用加热器（34）加热处理液体， 和用于根据由控制温度传感器（36）测量的温度控制处理液体加热装置（6）的控制装置（7） 并且控制装置（7）基于由控制温度传感器（36）测量的加热壁（33）的温度来控制处理液体加热装置（6）。
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公开(公告)号：KR1020170077042A
公开(公告)日：2017-07-05
申请号：KR1020160174538
申请日：2016-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/311 , H01L21/324
CPC classification number: H01L21/3065 , H01L21/02057 , H01L21/02082 , H01L21/30604 , H01L21/31111 , H01L21/31116 , H01L21/324 , H01L21/67028 , H01L21/6704 , H01L21/67069 , H01L21/67075 , H01L21/6708
Abstract: 도괴된패턴을복원한다. 기판처리방법은, 복수의볼록부(2)를갖는패턴이표면에형성된기판에, 처리액을공급하는액 처리공정과, 상기기판의표면에존재하는상기처리액을제거하고, 기판을건조시키는건조공정과, 상기건조공정후, 서로인접하는상기볼록부의접합부(2a)를분리시키는분리공정을구비한다.
Abstract translation: 还原剽窃的模式。 该基板处理方法包括：液体处理步骤，将处理液供给至具有在其表面上形成有多个突起（2）的图案的基板;除去存在于基板表面上的处理液的步骤; 以及分离步骤，在干燥步骤之后分离彼此相邻的凸起部分的接合部分2a。
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公开(公告)号：KR101932775B1
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：KR1020130080224
申请日：2013-07-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
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公开(公告)号：KR1020150060547A
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：KR1020140162505
申请日：2014-11-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67017
Abstract: (과제) 필터내부에오염물질이존재하는경우에그 오염물질의순환계로의확산을최소한으로억제하면서, 필터를순환라인의미리정해진위치에장착한상태로필터를세정한다. (해결수단) 필터세정방법은, 필터(108)를순환라인(104)의미리정해진위치에설치한상태로, 순환라인의일부만및 탱크(102)에제1 플러싱액을공급함으로써필터의내부를상기제1 플러싱액으로채우는플러싱액충전공정과, 이공급된플러싱액을, 순환라인의상기일부또는탱크에접속된제1 드레인라인으로부터배출시킴으로써상기필터로부터상기제1 플러싱액을빼내는제1 플러싱액배출공정을포함한다.
Abstract translation: 本发明在污染物质存在于过滤器中时将污染物扩散到循环系统中最小化，并且将过滤器固定在循环管线的预定位置的状态下进行清洗。 清洗过滤器的方法包括：在过滤器（108）的条件下，通过将第一冲洗溶液供应到罐（102）和循环管线的一部分而将第一冲洗溶液填充到第一冲洗溶液中的冲洗溶液加料过程， 被安装到循环管线（104）的预定位置; 以及第一冲洗溶液排出处理，通过从连接到所述罐或所述循环管线的一部分的第一排出管排出所提供的冲洗溶液，从所述过滤器提取第一冲洗溶液。
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公开(公告)号：KR1020140065334A
公开(公告)日：2014-05-29
申请号：KR1020130135246
申请日：2013-11-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/67086 , H01L21/67248
Abstract: The purpose of the present invention is to manage the temperature of a processing liquid for processing a substrate well. A substrate processing device (1) which processes a substrate (2) with a processing liquid which is heated at a predetermined temperature comprises; a container (retention container (8), heating container (22)) which retains the processing liquid; a heater (34) on a heating wall (33) formed on the container; a processing liquid heating unit (6) which heats the processing liquid with the heater (34) through the heating wall (33); a temperature sensor (36) for control which is formed on the heating wall (33) and measures the temperature of the heating wall (33); and a control unit (7) which controls the processing liquid heating unit (6) based on the temperature which is measured by the temperature sensor (36) for control. The control unit (7) controls the processing liquid heating unit (6) based on the temperature of the heating wall (33) which is measured by the temperature sensor (36) for control.
Abstract translation: 本发明的目的是管理用于处理衬底的处理液的温度。 用在预定温度下加热的处理液处理基板（2）的基板处理装置（1）包括： 保持处理液体的容器（保持容器（8），加热容器（22））; 形成在容器上的加热壁（33）上的加热器（34） 处理液体加热单元（6），其通过加热壁（33）与加热器（34）加热处理液体; 用于控制的温度传感器（36），其形成在加热壁（33）上并测量加热壁（33）的温度; 以及控制单元（7），其基于由用于控制的温度传感器（36）测量的温度来控制处理液体加热单元（6）。 控制单元（7）基于由用于控制的温度传感器（36）测量的加热壁（33）的温度控制处理液体加热单元（6）。
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公开(公告)号：KR1020140008254A
公开(公告)日：2014-01-21
申请号：KR1020130080224
申请日：2013-07-09
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67051 , B08B3/04 , B08B13/00 , H01L21/68735
Abstract: The present invention is to provide a cleaning method for cleansing a cup and a member around the cup. In the cleaning method, a cleaning solution is supplied from the upper part of a cleaning jig to a cleansing jig by holding the cleaning jig (80) in a substrate holding part (52) and rotating it. The cleansing solution supplied to the cleaning jig is spread along the surface of an inclined part formed around the total cleaning jig near the outer edge of the cleaning jig. Therefore, the cup is cleaned.
Abstract translation: 本发明提供一种清洁杯子和杯子周围的部件的清洁方法。 在清洁方法中，通过将清洁夹具（80）保持在基板保持部（52）中并使其旋转，将清洁溶液从清洁夹具的上部供给到清洁夹具。 提供给清洁夹具的清洁溶液沿着靠近清洁夹具的外边缘的整个清洁夹具形成的倾斜部分的表面扩展。 因此，杯子被清洁。
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