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公开(公告)号：KR101845090B1
公开(公告)日：2018-04-03
申请号：KR1020120028705
申请日：2012-03-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본발명의과제는, 2개의노즐을사용함으로써기판의도포처리에걸리는택트타임을향상시키고, 또한드는비용을억제하는것이다. 기판반송방향을따라전후로배치된제1 노즐(16)과제2 노즐(17)을보유지지하는노즐보유지지수단(12)과, 상기노즐보유지지수단을기판반송방향을따라이동시키는노즐이동수단(11)과, 상기제1 노즐및 상기제2 노즐의구동제어와상기노즐이동수단의구동제어를행하는제어수단(40)을구비하고, 상기제어수단은, 상기제1 노즐과제2 노즐이기판반송로상의동일한도포위치에배치되도록상기노즐이동수단을제어하여, 상기노즐이동수단에의해상기노즐보유지지수단을이동시키고, 상기동일한도포위치에배치된상기제1 노즐과제2 노즐중 어느하나의노즐에의해상기기판에처리액을토출시키도록제어한다.
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公开(公告)号：KR100549879B1
公开(公告)日：2006-02-06
申请号：KR1020050005393
申请日：2005-01-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G02F1/13
Abstract: 본 발명은 물체가 처리되는 경우 외부로 유동하거나 외부로 비산하는 처리액을 회수하기 위한 용기와, 세정액을 상기 용기내로 공급함으로써 용기의 내부 벽 표면을 세정하기 위한 세정 수단과, 용기의 내부 벽 표면이 세정 수단에 의해 세정되는 경우 용기로부터 배출된 액체를 회수하고, 회수된 액체를 세정 수단으로 공급하기 위한 순환 시스템을 포함하는 처리 장치를 제공한다.
Abstract translation: 清洁装置技术领域本发明涉及一种清洁装置，用于在处理物体时通过将清洁液供应到容器中来清洁容器的内壁表面， 还有一种循环系统，用于当清洁装置清洁容器时回收从容器中排出的液体并将回收的液体供应到清洁装置。
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公开(公告)号：KR1020110095134A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：KR1020110003752
申请日：2011-01-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: A slit nozzle cleaning apparatus and a coating device including thereof are provided to automatically and effectively clean a slit nozzle, and to improve the quality of a coated layer. CONSTITUTION: A slit nozzle cleaning apparatus comprises the following: a scraping member(74) capable of being inserted and discharged from a slit(32a) of a slit nozzle(32); and a cleaning device supporting the scraping member for inserting the scraping member into the slit for scarping aged and hardened materials. The cleaning device also discharges the scraping member from the slit by moving the scraping member to the predetermined direction.
Abstract translation: 目的：提供一种狭缝喷嘴清洁装置及其包括装置，以自动且有效地清洁狭缝喷嘴，并提高涂层的质量。 构成：狭缝喷嘴清洁装置包括：能够从狭缝喷嘴（32）的狭缝（32a）插入和排出的刮擦构件（74）; 以及支撑刮削构件的清洁装置，用于将刮削构件插入狭缝中，用于刮除老化和硬化材料。 清洁装置还通过将刮削构件移动到预定方向从切口排出刮擦构件。
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公开(公告)号：KR1019980024865A
公开(公告)日：1998-07-06
申请号：KR1019970048207
申请日：1997-09-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 물체가 처리되는 경우 외부로 유동하거나 외부로 비산하는 처리액을 회수하기 위한 용기와, 세정액을 상기 용기내로 공급함으로써 용기의 내부 벽 표면을 세정하기 위한 세정 수단과, 용기의 내부 벽 표면이 세정 수단에 의해 세정되는 경우 용기로부터 배출된 액체를 회수하고, 회수된 액체를 세정 수단으로 공급하기 위한 순환 시스템을 포함하는 처리 장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020120107871A
公开(公告)日：2012-10-04
申请号：KR1020120028705
申请日：2012-03-21
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0274 , B05C5/0204 , B05C11/1013 , B05D1/26
Abstract: PURPOSE: An apparatus and method for forming a film are provided to improve tact time for coating a substrate using two nozzles. CONSTITUTION: A flotation stage(2) comprises a substrate carrying in part(2A), a coating part(2B), and a substrate carrying out part(2C). A plurality of gas outlet ports(2a) and gas intake ports(2b) are installed on an upper side of the coating part. A guide rail(5) is installed on left and right lateral sides of the flotation stage. A slider(6) mounted to be movable in a substrate transferring direction is installed in the guide rail. A substrate retention and supporting part(7) is installed in the slider to suck and support a width direction end portion of the substrate from a lower portion. [Reference numerals] (40) Control part
Abstract translation: 目的：提供一种用于形成膜的装置和方法，以提高使用两个喷嘴涂覆基板的打滑时间。 构成：浮选段（2）包括承载部分（2A）的基底，涂层部分（2B）和执行部分（2C）的基底。 多个气体出口（2a）和气体吸入口（2b）安装在涂层部分的上侧。 导轨（5）安装在浮选台的左右两侧。 安装在基板传送方向上可移动的滑块（6）安装在导轨中。 衬底保持支撑部分（7）安装在滑块中以从下部吸收并支撑衬底的宽度方向端部。 （附图标记）（40）控制部
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020070065811A
公开(公告)日：2007-06-25
申请号：KR1020060129888
申请日：2006-12-19
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70858 , B05B1/005 , B05C11/10 , G03F7/16 , H01L21/6715
Abstract: A coating drying processing system and a method are provided to transfer substrates continuously applied in a coating processing unit and separately dry the substrate in each drying processing unit, thereby improving throughput thereof. A coating drying processing system includes a substrate transfer path(A) for transferring a wafer in a horizontal direction. A coating processing unit(24) for applying a coating solution onto the substrate and plural drying processing units(26) for drying the substrate are installed on the substrate transfer path from an upward side to a downward side. Each drying processing unit has a function of passing the substrate through the downward side without processing the substrate, and a function of drying the substrate.
Abstract translation: 提供一种涂布干燥处理系统和方法，用于将连续施加在涂布处理单元中的基板转印并分别干燥每个干燥处理单元中的基板，从而提高其生产量。 涂布干燥处理系统包括用于沿水平方向传送晶片的基板传送路径（A）。 将涂布液涂布在基板上的涂布处理单元（24）和从基板搬送路径向上侧设置多个用于干燥基板的干燥处理单元（26）。 每个干燥处理单元具有使基板通过下方而不处理基板的功能，以及干燥基板的功能。
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公开(公告)号：KR100508575B1
公开(公告)日：2005-10-21
申请号：KR1019970048207
申请日：1997-09-23
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 물체가 처리되는 경우 외부로 유동하거나 외부로 비산하는 처리액을 회수하기 위한 용기와, 세정액을 상기 용기내로 공급함으로써 용기의 내부 벽 표면을 세정하기 위한 세정 수단과, 용기의 내부 벽 표면이 세정 수단에 의해 세정되는 경우 용기로부터 배출된 액체를 회수하고, 회수된 액체를 세정 수단으로 공급하기 위한 순환 시스템을 포함하는 처리 장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR101737124B1
公开(公告)日：2017-05-17
申请号：KR1020110003747
申请日：2011-01-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의과제는슬릿노즐의토출구주변부를단시간에효율적으로세정하는것이다. 이슬릿노즐세정부(52)는슬릿노즐(32)의토출구주변부를따라서슬릿노즐의길이방향과평행하게수평한세정주사방향(Y방향)에서이동하는캐리지(64)를갖고있다. 슬릿노즐세정부(52)는이 캐리지(64)에, 세정주사방향에있어서제1 세정유닛(70)을선두로, 이하제1 와이퍼유닛(72), 제2 세정유닛(74), 제2 와이퍼유닛(76) 및건조유닛(78)을이 순서로일렬로배열하여탑재하고있다.
Abstract translation: 本发明的一个目的是在短时间内有效地清洁狭缝喷嘴的排出口的周边部分。 三个露滴喷嘴单元52具有滑架64，其从狭缝喷嘴移动到排出口32。因此的周围，平行于狭缝喷嘴hansejeong水平扫描方向（Y方向）的长度方向上。 由于狭缝喷嘴清洗部52是滑架64，该第一清洗部70的清洗扫描方向上的头，比所述第一擦拭器单元72，第二清洁单元74，第二 擦拭单元76和干燥单元78按此顺序排列并安装。
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公开(公告)号：KR101716509B1
公开(公告)日：2017-03-14
申请号：KR1020110003752
申请日：2011-01-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 본발명의과제는슬릿노즐의슬릿내를파티클의발생을억제하면서자동적이고또한효율적으로청소하는것이다. 슬릿노즐청소장치(70)는노즐청소유닛(56)과, 프라이밍처리부의전체를기판반송방향(X방향)에서이동시키기위한 X방향이동부(54)와, 케이싱(44) 중에서노즐청소유닛(56)을노즐길이방향(Y방향)에서이동시키기위한 Y방향이동부(60)로구성되어있다. 노즐청소유닛(56)은슬릿노즐(32)의슬릿(32a) 내에외부로부터삽입발출가능한박판형상의스크레이퍼(74)와, 이스크레이퍼(74)를보유지지하는보유지지부(76)와, 스크레이퍼(74)를보유지지부(76)와일체로슬릿노즐(32)의토출방향에서이동시키기위한승강기구(78)와, 스크레이퍼(74)를선회시키기위한선회기구(82)를구비하고있다.
Abstract translation: 本发明提供了一种用于狭缝喷嘴的清洁装置和涂布装置，所述清洁装置和涂布装置能够在抑制颗粒的产生时自动且有效地清洁狭缝喷嘴的狭缝内部。 用于狭缝喷嘴（70）的清洁装置包括：喷嘴清洁单元（56），用于使整个启动填充处理部件在基板输送方向（X方向）上移动的X方向移动部件（54），以及 用于使喷嘴清洁单元在壳体（44）中沿喷嘴长度方向（Y方向）移动的Y方向部分（60）。 喷嘴清洁单元（56）包括：能够从外部向狭缝喷嘴（32）的狭缝（32a）插入或从狭缝（32a）的内部拉出的薄板刮板（74） ，用于制造刮刀的提升机构（78）和维护部（76）沿狭缝喷嘴的喷射方向一体地移动，以及用于使刮刀旋转的旋转机构（82）。
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公开(公告)号：KR1020110095133A
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：KR1020110003747
申请日：2011-01-14
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: PURPOSE: A slit nozzle cleaning apparatus and a coating device using thereof are provided to improve the cleaning efficiency for removing the cleaning tact time and reducing the washing solution consumption. CONSTITUTION: A slit nozzle cleaning apparatus comprises the following: a carriage(64) moving on the horizontal cleaning-scanning direction around an outlet of a slit nozzle(32); a first cleaning unit(70) spraying cleaning fluid around the outlet of the slit nozzle by being mounted on the carriage; and a first wafer unit(72) for wiping the fluid from the outlet of the slit nozzle, located on the rear side of the cleaning unit and mounted on the carriage.
Abstract translation: 目的：提供一种狭缝喷嘴清洁装置及其使用的涂布装置，以提高清洁效率，从而消除清洗时间并降低洗涤液消耗。 构成：狭缝喷嘴清洁装置包括：沿水平扫描扫描方向围绕狭缝喷嘴（32）的出口移动的滑架（64）; 第一清洁单元（70），其通过安装在所述滑架上而将所述狭缝喷嘴的出口周围的清洁流体喷射; 以及第一晶片单元（72），用于从位于清洁单元的后侧的狭缝喷嘴的出口擦拭流体并安装在滑架上。
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