公开(公告)号：KR1020160108351A

公开(公告)日：2016-09-19

申请号：KR1020167019174

申请日：2015-01-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가하라세이지 ,  시라이시고오스케 ,  시무라사토루 ,  요시하라고오스케 ,  가와카미신이치로 ,  도모노마사루 ,  데라시타유이치 ,  미조구치히로노리

IPC: G03F7/20 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/7055 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/2063 ,  G03F7/40 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70508

Abstract: 본발명은, 레지스트패턴을형성하는데 있어서, 패턴의선 폭에대하여해상도가높고, 웨이퍼 W 위에서의높은면내균일성이얻어지는기술을제공하는것을과제로한다. 레지스트막을기판위에형성하고, 패턴노광기 C6에의한패턴노광을행한후에, 일괄노광장치(1)를사용해서패턴노광영역의전체를노광한다. 이때, 사전에검사장치[861(862)]로부터얻어진레지스트패턴의선 폭의면 내분포의정보에기초하여, 웨이퍼 W 위의노광위치에따라서노광량을조정한다. 노광량의조정방법으로서는, 웨이퍼 W의직경에대응하는띠 형상의조사영역을이동시키면서노광량을조정하는방법, 패턴노광의샷 영역에따른조사영역을간헐적으로이동시켜서각 칩에대한노광량을조정하는방법등을들 수있다.

公开(公告)号：KR1020160072785A

公开(公告)日：2016-06-23

申请号：KR1020150173251

申请日：2015-12-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다도코로마사히데 ,  데라시타유이치 ,  시라이시고우스케 ,  이세키도모히로 ,  도모노마사루 ,  미조구치히로노리

IPC: G03F7/20

CPC classification number: H01L21/67115 ,  G03F7/70991

Abstract: [과제] 간이한구성에의해기판전체에대하여균일하게광을조사한다. [해결수단] 광조사유닛(U3)은웨이퍼(W)를수평으로유지하면서웨이퍼(W)의표면(Wa)과직교하는방향으로연장되어있는회전축의둘레로웨이퍼(W)를회전시키는회전유지부(10)와, 회전유지부(10)의상방에위치하는조명부(30)와, 회전유지부(10)와조명부(30) 사이에위치하고수평으로넓어지는차광마스크(20)와, 조명부(30)를수평방향을따라서직선형으로이동시키는구동부(40)를구비한다. 차광마스크(20)는회전축방향으로부터볼 때회전유지부(10)에유지되어있는웨이퍼(W)의표면(Wa)을덮도록웨이퍼(W)와서로겹쳐져있고, 회전축의직교방향에있어서, 외측을향해서연장됨과아울러회전축으로부터멀어짐에따라서넓어지는개구부(22)를갖는다. 조명부(30)는구동부(40)에의해서개구부(22) 상을이동하면서, 회전유지부(10)에유지되어있는웨이퍼(W)의표면(Wa)을향해서개구부(22)를통하여광을조사한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种光照射单元，其具有简单的结构并且可以在整个晶片上均匀地照射光。 光照射单元（U3）包括：旋转维持单元（10），其保持晶片（W）水平并使晶片（W）围绕在与晶片的表面（Wa）正交的方向上延伸的旋转轴线旋转 ; 位于旋转维护单元（10）上方的灯单元（30）; 位于旋转维持单元（10）和灯单元（30）之间并且水平延伸的遮光罩（20） 以及驱动单元（40），其使所述灯单元（30）线性地和水平地移动。 遮光掩模（20）与晶片（W）重叠设置，并覆盖由旋转维护单元（10）保持的晶片（W）的表面（Wa），并且相对于旋转的正交方向 轴向延伸并且具有随着其从旋转轴进一步变大而变大的开口单元（22）。 光单元（30）通过驱动单元（40）移动到打开单元（22）上，并将光通过开口单元（22）照射在保持在旋转维护单元上的晶片（W）的表面（Wa）上 （10）。