公开(公告)号：KR1020150046734A

公开(公告)日：2015-04-30

申请号：KR1020140140615

申请日：2014-10-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 곤노마사히코 ,  신타쿠마사유키 ,  스즈키다카시 ,  아이타미치타카 ,  오카다다이조 ,  오쿠니시나오히코 ,  가토히데오 ,  마츠모토나오키

IPC: H05H1/46 ,  H05H1/34 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32311 ,  H01J37/32577 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32724 ,  H01L21/67103

Abstract: 마이크로파에의해처리가스를여기시키는플라즈마처리장치가제공된다. 이플라즈마처리장치에서는, 탑재대의정전척 내에히터가마련되어있다. 히터는필터유닛및 봉형상의급전체를거쳐서히터전원에접속되어있다. 급전체는절연체로구성된통 형상부의내공에통과되고있다. 또한, 통형상부를거쳐서전파하는마이크로파를억제하는초크부가급전체와통 형상부의사이에마련되어있다. 초크부는도전성을갖고, 제 1 부분및 제 2 부분을포함하고있다. 제 1 부분은급전체로부터그 급전체의긴 방향에교차하는방향으로연장되고있다. 제 2 부분은통 형상을갖고있고, 통형상부와급전체의사이에있어서제 1 부분의주연으로부터연장되고있다.

Abstract translation: 提供了一种通过微波激发处理气体的等离子体处理装置。 等离子体处理装置包括：安装台的静电卡盘中的加热器。 加热器通过棒状的供电体和过滤器单元连接到加热器电源。 供电体通过由绝缘体制成的管形成部分的内孔。 而且，在电源主体和管形成部之间准备防止由管形成部传播的微波的扼流部。 扼流部件具有导电性并且包括第一部分和第二部分。 第一部分从电源部分延伸到与电源部分长方向有关的方向。 第二部分具有管状并且在第一部分的周边部分在管形成部分和电源部分之间延伸。

公开(公告)号：KR1020150064693A

公开(公告)日：2015-06-11

申请号：KR1020140170638

申请日：2014-12-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시카와쥰 ,  마츠모토나오키 ,  신타쿠마사유키 ,  고야마고지 ,  미하라나오키 ,  도미타유고

IPC: H05H1/34 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/3222 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32238 ,  H01P1/08

Abstract: (과제) 플라즈마의면 내균일성을개선가능한유전체창, 안테나및 플라즈마처리장치를제공한다. (해결수단) 이유전체창(16)의한쪽면측에는슬롯판(20)이배치된다. 유전체창(16)의다른쪽 면은, 고리형상의제 1 오목부(147)에둘러싸인평탄면과, 제 1 오목부(147)의저면에형성된복수의제 2 오목부(153)(153a~153g)를구비하고있다. 본발명의안테나는, 유전체창(16)과, 유전체창(16)의한쪽면에마련된슬롯판(20)을구비하고있고, 이것은플라즈마처리장치에적용할수 있다.

Abstract translation: 提供能够改善等离子体表面的均匀性的电介质窗，天线和等离子体处理装置。 插槽板（20）布置在电介质窗（16）的一侧。 由形成在第一凹部（147）的下侧的环状的第一凹部（147）和形成在第一凹部（147）的下侧的多个第二凹部（153,153a-153g）包围的平面形成在 电介质窗（16）。 根据本发明的天线包括形成在电介质窗（16）的一侧上并被施加到等离子体处理装置的电介质窗（16）和槽板（20）。

公开(公告)号：KR102263421B1

公开(公告)日：2021-06-09

申请号：KR1020140140615

申请日：2014-10-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 곤노마사히코 ,  신타쿠마사유키 ,  스즈키다카시 ,  아이타미치타카 ,  오카다다이조 ,  오쿠니시나오히코 ,  가토히데오 ,  마츠모토나오키

IPC: H05H1/46 ,  H05H1/34 ,  H01L21/3065

公开(公告)号：KR1020150046747A

公开(公告)日：2015-04-30

申请号：KR1020140142517

申请日：2014-10-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신타쿠마사유키 ,  스즈키다카시 ,  곤노마사히코 ,  아이타미치타카 ,  오카다다이조 ,  가토히데오 ,  마츠모토나오키

IPC: H01L21/02 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01J37/32642 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/32275

Abstract: 마이크로파를이용하는플라즈마처리장치가제공된다. 이장치는탑재대, 포커스링, 제 1 통형상부, 환상부, 제 2 통형상부, 및초크부를구비한다. 포커스링은탑재대의정전척을둘러싸도록고리형상으로연장되어있다. 제 1 통형상부는유전체로구성되고, 포커스링의아래쪽에있어서탑재대의하부전극의외주를따라서연장되고있다. 환상부는유전체로구성되고, 포커스링과제 1 통형상부의사이에마련되어있다. 제 2 통형상부는도전성을갖고, 제 1 통형상부의외주를따라서연장되고있다. 초크부는유전체로구성되고, 포커스링 및환상부를거쳐서제 1 통형상부를전파하는마이크로파를억제한다. 초크부는제 1 통형상부로부터바깥쪽으로돌출하고, 또한, 고리형상으로연장되고있다. 제 2 통형상부는초크부를덮고있다.

Abstract translation: 提供了使用微波的等离子体处理装置。 该装置具有幼苗托盘，聚焦环，第一罐形状单元，环形单元，第二罐形状单元和轴承座单元。 聚焦环被放大成环形以覆盖幼苗托盘的静电卡盘。 第一罐形单元由电介质组成，位于聚焦环下方，并且沿着下电极的外圆周扩大。 环形单元由电介质组成，并且布置在聚焦环和第一罐形状单元之间。 第二罐形状单元具有导电性，并且沿着第一罐形状单元的外周增大。 阻塞单元由电介质组成，并且抑制通过聚焦环和环形单元并扩散第一罐形单元的微波。 轴承座单元从第一罐形单元突出到外部，并且被放大成环形。 第二罐形状单元覆盖轴承座单元。