가스 공급 장치 및 처리 장치
    1.
    发明授权
    가스 공급 장치 및 처리 장치 失效
    气体供应系统和处理系统

    公开(公告)号:KR100697895B1

    公开(公告)日:2007-03-20

    申请号:KR1020047017091

    申请日:2003-08-25

    CPC classification number: H01L21/67017 C23C16/4481 Y10T137/0324

    Abstract: 재료 저류조내에서 발생시킨 원료 가스를 거의 압력 손실을 발생시키지 않고, 처리 기구내로 공급하는 것이 가능한 처리 장치를 제공한다. 피처리체(W)에 대하여 소정의 처리를 실시하기 위해서 처리 용기(26)내에 증기압이 낮은 금속 화합물 재료(M)로 이루어지는 소정의 원료 가스를 분사하는 가스 분사 수단(42)을 설치한 처리 기구(22)와, 상기 가스 분사 수단에 상기 소정의 연료 가스를 공급하는 가스 공급 장치(24)를 갖는 처리 장치에 있어서, 상기 가스 분사 수단은 샤워 헤드부이고, 상기 가스 공급 장치는 상기 샤워 헤드부로부터 상방으로 연장되는 가스 통로(56)와, 상기 가스 통로의 상단부에 장착되어서 상부로 상기 금속 화합물 재료를 수용하는 재료 저류조(58)와, 상기 가스 통로를 개폐하는 개폐 밸브(60)를 구비한다.

    가스 공급 장치 및 처리 장치
    2.
    发明公开
    가스 공급 장치 및 처리 장치 失效
    燃气供应和加工设备

    公开(公告)号:KR1020040106381A

    公开(公告)日:2004-12-17

    申请号:KR1020047017091

    申请日:2003-08-25

    CPC classification number: H01L21/67017 C23C16/4481 Y10T137/0324

    Abstract: 재료 저류조내에서 발생시킨 원료 가스를 거의 압력 손실을 발생시키지 않고, 처리 장치내로 공급하는 것이 가능한 처리 시스템을 제공한다. 피처리체(W)에 대하여 소정의 처리를 실시하기 위해서 처리 용기(26)내에 증기압이 낮은 금속 화합물 재료(M)로 이루어지는 소정의 원료 가스를 분사하는 가스 분사 수단(42)을 설치한 처리 장치(22)와, 상기 가스 분사 수단에 상기 소정의 연료 가스를 공급하는 가스 공급 시스템(24)을 갖는 처리 시스템에 있어서, 상기 가스 분사 수단은 샤워 헤드부이고, 상기 가스 공급 시스템은 상기 샤워 헤드부로부터 상방으로 연장되는 가스 통로(56)와, 상기 가스 통로의 상단부에 장착되어서 상부로 상기 금속 화합물 재료를 수용하는 재료 저류조(58)와, 상기 가스 통로를 개폐하는 개폐 밸브(60)를 구비한다.

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