公开(公告)号：KR100652276B1

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：KR1020000028049

申请日：2000-05-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/13

Abstract: 도포처리유니트에서 도포액이 도포된 후, 기판 주연부의 도포액을 제거하는 주연부처리유니트는, 기판을 재치하는 스테이지와, 반송기구에 의해 스테이지 상에 반입된 기판의 위치를 맞추기 위한 위치맞춤기구를 갖춘다. 위치맞춤기구에 있어서, 아암이 수평방향 이동기구에 의해 대략 수평방향으로 이동되고, 아암의 Y자형의 선단부에 설치된 한쌍의 로울러가 기판의 코너부에 맞닿아 밀어누르며, 이에 의해, 기판은 그 대각선의 양 방향으로부터 밀어눌려져서, 스테이지 상에서 소정 위치에 위치가 맞추어진다. 따라서, 도포처리유니트로부터 주연부처리유니트로 반입된 기판을 정확한 위치에 배치할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020000035698A

公开(公告)日：2000-06-26

申请号：KR1019990052754

申请日：1999-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼다요이치 ,  시모무라유지 ,  타나카시노부 ,  아라키신이치로 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: An apparatus for substrate treatment is provided to perform first and second treatment at high throughput. CONSTITUTION: An apparatus for substrate treatment includes first and second treatment units(22b,29), a substrate input port, a substrate output port, a conveyor(10,38), and a controller. The first and second units(22b,29) perform different predetermined treatments on the substrate. The substrate input port inputs the substrate to the first treatment unit(22b). The substrate output port outputs the substrate treated. The conveyor conveys the input substrate from the first treatment unit(22b) to the second treatment unit(29), and from the substrate output port to a place conveyable. The controller controls the status of substrate convey by the conveyor(10,38) according to the timing of the main conveyor apparatus(10,38) to a corresponding place of the substrate output port.

Abstract translation: 目的：提供一种用于基板处理的设备，以高产量进行第一和第二处理。 构成：用于衬底处理的装置包括第一和第二处理单元（22b，29），衬底输入端口，衬底输出端口，输送器（10,38）和控制器。 第一和第二单元（22b，29）在基板上执行不同的预定处理。 基板输入端口将基板输入到第一处理单元（22b）。 基板输出端口输出被处理的基板。 输送机将输入基板从第一处理单元（22b）传送​​到第二处理单元（29），并从基板输出端口传送到可输送的位置。 控制器根据主输送设备（10,38）的时间到基板输出端口的相应位置来控制输送机（10,38）输送基板的状态。

公开(公告)号：KR100562839B1

公开(公告)日：2006-03-23

申请号：KR1019990052754

申请日：1999-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 혼다요이치 ,  시모무라유지 ,  타나카시노부 ,  아라키신이치로 ,  사카이미쯔히로

IPC: H01L21/68

Abstract: 본 발명은 기판처리장치에 관한 것으로, 기판(G)에 레지스트를 도포하기 위한 레지스트도포 유니트(22a)와, 레지스트가 도포된 기판을 비가열상태에서 건조하는 건조처리 유니트(22b)와, 도포유니트(2a)로 기판을 반입하기 위한 기판반입포트(81)와, 처리종료 후의 기판을 장치 밖으로 반출하기 위한 기판반출포트(82)와, 기판을 레지스트도포 유니에서 건조처리 유니트로 반송하고, 또한 기판반출포트에서 반출가능한 위치로 반송하는 유니트간 반송기구(41, 42)와 주반송장치(18)가 기판반출위치(85)에 오는 타이밍에 따라서 유니트간 반송기구에 의한 기판반송을 제어하는 콘트롤러(91, 93)를 가짐으로써, 2이상의 일련의 처리를 제어하여 이들 처리를 기판에 악영향을 미치지 않으면서 고 쓰루우풋으로 연속적으로 수행할 수 있는 기판처리장치를 제공하는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明是一种抗蚀剂涂敷单元（22A），以及烘干处理单元（22B），和一个涂层单元通过将抗蚀剂施加到基板（G）的装置，以抵抗干燥的在开放条件下的比对涂覆的基材进行约 用于将基板搬运到基板处理装置2a的基板搬入口81，用于将处理后的基板搬运到装置外部的基板搬出口82， 控制器，其控制由交叉部输送机构根据所述单元之间的定时来输出端口出来的位置传送机构（41，42）和所述主传送装置18中，基板搬出位置（85），所述衬底传送在返回到（ 由此可以控制两个或更多个的一系列过程，并且这些过程可以高通量地连续进行而不会不利地影响基板 这是呈现。

公开(公告)号：KR1020010039620A

公开(公告)日：2001-05-15

申请号：KR1020000028049

申请日：2000-05-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사카이미쓰히로 ,  다나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: A substrate treating device is provided to accurately position a substrate carried in the peripheral section treating unit from a coating unit. CONSTITUTION: A peripheral section treating unit, which removes an applied solution from the peripheral section of a substrate(G) after the solution is applied to the substrate(G) by means of a coating unit is provided with a stage(71), on which the substrate(G) is placed and a positioning mechanism(72), which positions the substrate(G) carried onto the stage(71). The positioning mechanism(72) positions the substrate(G) to a prescribed position by pushing the substrate(G) in both directions along the diagonal line of the substrate(G), by means of a pair of rollers(81) which are attached to the Y-shaped front end section of the arm(82) of the mechanism(72), by nearly horizontally moving the arm(82) through the means of a horizontally moving mechanism(84).

Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，用于从包覆单元精确地定位周边部分处理单元中承载的基板。 构成：在通过涂布单元将溶液施加到基板（G）上之后，从基板（G）的周边部分去除涂布的溶液的周边部分处理单元设置有阶段（71），在 放置基板（G）的定位机构（72）和定位机构（72），将基板（G）定位在载物台（71）上。 定位机构72将基板（G）沿着基板（G）的对角线沿两个方向推压基板（G），通过一对连接的辊（81）将基板（G）定位到规定位置 通过水平移动机构（84）的装置将臂（82）几乎水平地移动到机构（72）的臂（82）的Y形前端部。

公开(公告)号：KR1020000012023A

公开(公告)日：2000-02-25

申请号：KR1019990030744

申请日：1999-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타카모리히데유키 ,  타테야마키요히사 ,  미조사키켄고 ,  아나이노리유키 ,  사카이미쯔히로 ,  타나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67034

Abstract: PURPOSE: A method for forming a predetermined layer on a surface of a substrate is provided to prevent layer thickness irregularity of resist solution and formation of a lithography on the substrate by heating the substrate in a substantial unheated state after coating the resist solution. CONSTITUTION: A coating solution is coated on the surface of the substrate and is dried under a first decompression circumstance. A dry processing of the substrate is performed utilizing an unheated method under a second decompression circumstance. In set temperature, the second decompression circumstance is lower than the first decompression circumstance. After the dry processing of the substrate, a heating dry processing thereof is performed.

Abstract translation: 目的：提供一种用于在基板表面上形成预定层的方法，以在涂覆抗蚀剂溶液之后，通过在基本上未加热的状态下加热基板来防止抗蚀剂溶液的层厚度不均匀和在基板上形成光刻。 构成：将涂层溶液涂覆在基材的表面上，并在第一减压环境下干燥。 在第二减压环境下利用未加热方法进行基板的干法处理。 在设定温度下，第二减压环境低于第一减压环境。 在基板的干燥处理之后，进行其加热干燥处理。

公开(公告)号：KR100665461B1

公开(公告)日：2007-01-04

申请号：KR1020000066690

申请日：2000-11-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야히로순이치 ,  혼다요이치

IPC: G02F1/13

Abstract: 기판의 표면에 레지스트액을 도포하면서 이 기판을 회전시킴으로써 레지스트액의 박막을 형성하는 레지스트액 도포부와, 기판의 가장자리를 향하여 용제를 분출시킴으로써 기판의 가장자리를 덮는 불필요한 박막을 제거하는 박막제거헤드와, 이 박막제거헤드를 상기 기판의 가장자리를 따라 구동하는 이동기구와, 상기 박막제거헤드의 이동범위를 구간A와 구간B로 나누어, 구간A에 있어서의 구간A 속도와 구간B에 있어서의 구간B 속도를 저장하는 기억부와, 상기 기억부에서 상기 구간A 속도 및 구간B 속도를 구하여 구간A에 있어서는 구간A 속도로, 구간B에 있어서는 구간B 속도로 상기 박막제거부 구동부를 동작시키는 제어부를 구비한다. 이로 인하여 보다 간단한 순서에 의한 설정으로 기판의 4개의 모서리에 레지스트막의 나머지가 생기는 것을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR100609766B1

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：KR1019990030744

申请日：1999-07-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타카모리히데유키 ,  타테야마키요히사 ,  미조사키켄고 ,  아나이노리유키 ,  사카이미쯔히로 ,  타나카시노부 ,  혼다요이치 ,  시모무라유지

IPC: G02F1/1333

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67034

Abstract: 레지스트액의 도포 직후, 기판이 실질적으로 비가열방식에 의해 건조된다. 구체적인 예를 들면, 샤워헤드로부터 나오는 불활성가스가 기판에 부딛혀짐으로써, 기판에 도포된 레지스트액이 건조되는 것이다. 이에 의해 레지스트액의 막두께 불균일 및 회로패턴의 선폭(線幅) 변동의 지표라고 할 수 있는 전사(傳寫)를 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR1020010060289A

公开(公告)日：2001-07-06

申请号：KR1020000066690

申请日：2000-11-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야히로순이치 ,  혼다요이치

IPC: G02F1/13

Abstract: PURPOSE: A thin film forming device is provided to prevent the generation of residue of a resist film on four corners of a substrate with simplified procedure. CONSTITUTION: The thin film forming device is provided with a resist liquid coating part(50) for forming the thin film of a resist liquid by rotating a substrate G while applying the resist liquid on the surface of the substrate G, a thin film removing head(60) for removing the unnecessary thin film covering the peripheral part of the substrate by spraying a solvent to the peripheral part of the substrate G, a moving structure(62) for driving the thin film removing head(60) along the peripheral part of the substrate G, a storing part(77) for storing a section A speed for a section A and a section B speed for a section B by dividing the moving range into the section A and the section B and a control part(75) for operating the thin film removing part driving part at the section A speed in the section A and at the section B speed in the section b by taking out the section A speed and the section B speed from the storing part(77).

Abstract translation: 目的：提供一种薄膜形成装置，用于以简化的程序防止在基板的四个角上产生抗蚀剂膜残留物。 构成：薄膜形成装置设置有抗蚀剂液体涂覆部分（50），用于通过在基板G的表面上施加抗蚀剂液体的同时旋转基板G来形成抗蚀剂液体薄膜，薄膜去除头 （60），用于通过向基板G的周边部分喷涂溶剂来除去覆盖基板的周边部分的不必要的薄膜;移动结构（62），用于沿着基板G的周边部分驱动薄膜去除头 基板G，用于存储A部分的A速度的存储部分（77）和通过将移动范围分成A部分和B部分的部分B的B部分速度和用于 通过从存储部分（77）取出部分A速度和部分B速度，以部分A中的部分A速度和部分b中的部分B速度操作薄膜去除部分驱动部分。