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公开(公告)号：KR100320585B1
公开(公告)日：2002-01-18
申请号：KR1019990054437
申请日：1999-12-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: PURPOSE: A resist treating method is provided to perform a resist treatment by including an apparatus capable of rapidly cleaning double sides of an object to be processed. CONSTITUTION: A carrier station loads/unloads a carrier in which objects to be processed are stored. A convey mechanism conveys an object taken out from the carrier station. At least one cleaning mechanism cleans the object, arranged along a convey path on which the convey mechanism conveys the object. An object reversing mechanism reverses the object, arranged along the convey path.
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公开(公告)号：KR1019950012620A
公开(公告)日：1995-05-16
申请号：KR1019940028108
申请日：1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor： 가와카미야스노리 , 후쿠다다카히데 , 후지모토아키히로 , 다케쿠마다카시 , 난부미쓰히로 , 이이다나루아키 , 고토히데아키 , 다테야마마사노리 , 요시모토유지 , 이시모토도모코 , 야스에가시히데타미
IPC: H01L21/302
Abstract: 본 발명은, 낱장처리에 의하여 피처리체에 처리액을 도포하는 도포처리부로부터 피처리체를 피처리체 유지부재로 옮기는 제1의 이송수단 및 복수의 피처리체 유지부재르 부착 및 이탈가능하게 얹어놓음과 함께 복수의 피처리체 유지수단을 동시에 이동하는 이동수단을 가지는 인터페이스부와, 이동수단에 얹어놓인 피처리체 유지수단과, 도포처리가 행해진 복수의 피처리체에 배치처리체 의하여 열처리를 행하는 열처리부에 옮기는 제2의 이송수단을 가지는 열처리부를 구비하는 기판처리장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR100307721B1
公开(公告)日：2001-12-05
申请号：KR1019940028970
申请日：1994-11-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 오리엔테이션 플랫을 가진 피처리체가 수납된 캐리어를 반입 ·반출하기 위한 캐리어 스테이션과, 상기 캐리어 스테이션으로부터 취출된 피처리체를 반송하기 위한 반송기구와, 상기 반송기구가 피처리체를 반송하는 반송로를 따라 설치되고, 피처리체를 세정하기 위한 하나의 세정기구와, 상기 반송로를 따라 설치되고, 피처리체를 반전시키기 위한 반전기구를 포함하여 구성되며, 이 반전기구는, 상기 오리엔테이션 플랫의 위치를 정렬하기 위한 오리엔테이션 플랫 위치맞춤기구를 포함하고, 상기 오리엔테이션 플랫 위치맞춤기구는, 피처리체가 그 위에 위치하는 동안에 피처리체를 회전시키기 위한 수단 및 상기 오리엔테이션 플랫을 검출하기 위한 검출수단을 포함하는 기판 양면 세정장치 및 이것을 사용하는 세정방법을 제공한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100272188B1
公开(公告)日：2000-12-01
申请号：KR1019940028108
申请日：1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor： 가와카미야스노리 , 후쿠다다카히데 , 후지모토아키히로 , 다케쿠마다카시 , 난부미쓰히로 , 이이다나루아키 , 고토히데아키 , 다테야마마사노리 , 요시모토유지 , 이시모토도모코 , 야스에가시히데타미
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67265 , H01L21/67173 , H01L21/67766 , H01L21/67778 , Y10S134/902 , Y10S414/135 , Y10S414/136 , Y10S414/137 , Y10S414/141
Abstract: 본 발명은, 낱장처리에 의하여 피처리체에 처리액을 도포하는 도포처리부로부터 피처리체를 피처리체 유지부재로 옮기는 제1의 이송수단, 및 복수의 피처리체 유지부재를 부착 및 이탈가능하게 얹어놓음과 함께 복수의 피처리체 유지 수단을 동시에 이동하는 이동수단을 가지는 인터페이스부와, 이동수단에 얹어놓인 피처리체 유지수단과, 도포처리가 행해진 복수의 피처리체에 배치처리체 의하여 열처리를 행하는 열처리부에 옮기는 제2의 이송수단을 가지는 열처리부를 구비하는 기판 처리장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR100354547B1
公开(公告)日：2002-09-30
申请号：KR1020000048569
申请日：2000-08-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: PURPOSE: A resist treating method is provided to rapidly clean double sides of an object to be processed and improve throughput by coping with various treating processes included in a photolithography process. CONSTITUTION: A carrier station(3) loads/unloads a carrier(2) in which the object to be processed is stored. A convey mechanism conveys an object taken out from the carrier station. At least one cleaning mechanism cleans the object, arranged along a convey path(6) on which the convey mechanism conveys the object. An object reversing mechanism(10) reveres the object, arranged along the convey path.
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公开(公告)号：KR1019950015626A
公开(公告)日：1995-06-17
申请号：KR1019940028970
申请日：1994-11-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 본 발명은 피처리체가 수납된 반입, 반출하는 캐리어 스테이션과, 이 캐리어 스테이션으로부터 취출된 상기 피처리체를 반송하는 반송기구와, 이 반송기구가 피처리체를 반송하는 반송로에 따라서 설치되고, 피처리체를 세정하는 적어도 한개의 세어기구와, 반송로에 따라서 설치되고, 피처리체를 반전시키는 피처리체 반전기구를 구비하는 기판 양면 세정장치를 제공한다.
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公开(公告)号：KR1019960030434A
公开(公告)日：1996-08-17
申请号：KR1019960000126
申请日：1996-01-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 처리제를 처리장치로 공급하는 장치는 액체 처리제를 저장하는 탱크와 탱크속에 구비되어 나선형 관에 의해 형성되는 열교환기를 가지고 있다. 질소가스(N
2 가스)가 탱크 속으로 도입되어 액체 처리제를 증발시킨다. 물은 열교환기의 하부에 연결된 유체 도입관으로부터 열교환기의 나선형관을 통해 열교환기의 상부에 연결된 유체 배출관으로 공급된다. 열교환기에서 물과 액체 처리제 사이의 열교환은 매우 효율적으로 수행된다. 전기를 사용하지 않아 안정성이 매우 높다. 버블링 공정에 의해 기체상태로 변화되는 액체 처리제의 온도는 효율적으로 제어되며, 탱크속에서 기화된 처리제의 농도는 안정화된다.-
公开(公告)号：KR100199681B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019960000126
申请日：1996-01-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: C23C16/4482
Abstract: 처리제를 처리장치로 공급하는 장치는 액체 처리제를 저장하는 탱크와 탱크속에 구비되어 나선형 관에 의해 형성되는 열교환기를 가지고 있다. 질소가스(N
2 가스)가 탱크 속으로 도입되어 액체 처리제를 증발시킨다. 물은 열교환기의 하부에 연결된 유체 도입관으로부터 열교환기의 나선형관을 통해 열교환기의 상부에 연결된 유체 배출관으로 공급된다. 열교환기에서 물과 액체 처리제 사이의 열교환은 매우 효율적으로 수행된다. 전기를 사용하지 않아 안정성이 매우 높다.
버블링 공정에 의해 기체상태로 변화되는 액체 처리제의 온도는 효율적으로 제어되며, 탱크속에서 기화된 처리제의 농도는 안정화된다.
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