公开(公告)号：KR1019950012620A

公开(公告)日：1995-05-16

申请号：KR1019940028108

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가와카미야스노리 ,  후쿠다다카히데 ,  후지모토아키히로 ,  다케쿠마다카시 ,  난부미쓰히로 ,  이이다나루아키 ,  고토히데아키 ,  다테야마마사노리 ,  요시모토유지 ,  이시모토도모코 ,  야스에가시히데타미

IPC: H01L21/302

Abstract: 본 발명은, 낱장처리에 의하여 피처리체에 처리액을 도포하는 도포처리부로부터 피처리체를 피처리체 유지부재로 옮기는 제1의 이송수단 및 복수의 피처리체 유지부재르 부착 및 이탈가능하게 얹어놓음과 함께 복수의 피처리체 유지수단을 동시에 이동하는 이동수단을 가지는 인터페이스부와, 이동수단에 얹어놓인 피처리체 유지수단과, 도포처리가 행해진 복수의 피처리체에 배치처리체 의하여 열처리를 행하는 열처리부에 옮기는 제2의 이송수단을 가지는 열처리부를 구비하는 기판처리장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR100272188B1

公开(公告)日：2000-12-01

申请号：KR1019940028108

申请日：1994-10-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가와카미야스노리 ,  후쿠다다카히데 ,  후지모토아키히로 ,  다케쿠마다카시 ,  난부미쓰히로 ,  이이다나루아키 ,  고토히데아키 ,  다테야마마사노리 ,  요시모토유지 ,  이시모토도모코 ,  야스에가시히데타미

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67265 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67778 ,  Y10S134/902 ,  Y10S414/135 ,  Y10S414/136 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: 본 발명은, 낱장처리에 의하여 피처리체에 처리액을 도포하는 도포처리부로부터 피처리체를 피처리체 유지부재로 옮기는 제1의 이송수단, 및 복수의 피처리체 유지부재를 부착 및 이탈가능하게 얹어놓음과 함께 복수의 피처리체 유지 수단을 동시에 이동하는 이동수단을 가지는 인터페이스부와, 이동수단에 얹어놓인 피처리체 유지수단과, 도포처리가 행해진 복수의 피처리체에 배치처리체 의하여 열처리를 행하는 열처리부에 옮기는 제2의 이송수단을 가지는 열처리부를 구비하는 기판 처리장치를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020060045764A

公开(公告)日：2006-05-17

申请号：KR1020050031463

申请日：2005-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

CPC classification number: G03F7/3064 ,  H01L21/6715

Abstract: 기판에서의 전사발생을 억제한 현상처리장치 및 현상처리방법을 제공한다.
현상처리유닛(24)은, 기판(G)을 약 수평자세로 반송하는 제 2 롤러반송 기구(14b)와, 기판(G)의 표면에 현상액을 공급하는 현상노즐(51a. 51b)과, 현상노즐(51a) 등으로부터의 현상액토출을 제어하는 현상액 토출제어기구(56)와, 현상노즐(51a) 등을 소정방향으로 이동시키는 현상노즐이동기구(55)와, 제 2 기판반송기구(14b)에 지지된 기판(G)을 기판 반송방향 전후에 소정거리 요동하면서, 현상노즐(51a) 등으로부터 현상액을 토출시키면서 현상노즐(51a) 등을 기판반송방향과는 반대방향으로 이동시킴으로써, 요동하는 기판(G)상에 현상액 패들이 형성되도록, 제 2 기판반송기구(14b)와 현상액 토출제어기구(56)와 현상노즐이동기구(55)를 제어하는 패들형성 제어장치(57)를 구비한다.

公开(公告)号：KR102206500B1

公开(公告)日：2021-01-21

申请号：KR1020140111396

申请日：2014-08-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리야마시게루 ,  오노우에고우타로 ,  고토히데아키 ,  후지와라마사키

IPC: G01N21/956 ,  G06T7/00 ,  G01B11/24

Abstract: 본발명은경량화를도모할수 있고, 저렴한측정장치, 기판처리시스템및 측정방법을제공하는것을목적으로한다. 실시형태의일 형태에따른측정장치는, 반송부와, 촬상부와, 측정부를구비한다. 반송부는패턴이형성된기판을반송한다. 촬상부는반송부의상방에배치되며, 반송부에배치된기판의패턴을촬상한다. 또한, 측정부는촬상부에의해촬상된패턴의화상정보에기초하여패턴의형상을측정한다.

公开(公告)号：KR1020110013548A

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：KR1020110003962

申请日：2011-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70916

Abstract: PURPOSE: A development processing device and a development processing method are provided to prevent the flow trace of rinse solutions by supplying rinse solutions to the surface of a substrate which is tilted. CONSTITUTION: A substrate transfer apparatus(14a-14e) horizontally supports and transfers a substrate in a preset direction. A development nozzle(51a,51b) supplies developer to the surface of the substrate supported by the substrate transfer apparatus. A substrate tilting device tilts the transferred substrate. A rinse nozzle(52) supplies rinse solutions to the surface of the substrate supported by the substrate tilting device. A rinse nozzle moving device moves the rinse nozzle along the slope of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种显影处理装置和显影处理方法，以通过向倾斜的基底的表面提供冲洗溶液来防止冲洗溶液的流动痕迹。 构成：基板传送装置（14a-14e）沿预设方向水平地支撑并传送基板。 显影喷嘴（51a，51b）将显影剂供给到由基板输送装置支撑的基板的表面。 基板倾斜装置倾斜转印的基板。 冲洗喷嘴（52）将冲洗液提供到由基板倾斜装置支撑的基板的表面上。 冲洗喷嘴移动装置沿着基板的斜面移动冲洗喷嘴。

公开(公告)号：KR1020150029545A

公开(公告)日：2015-03-18

申请号：KR1020140111396

申请日：2014-08-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리야마시게루 ,  오노우에고우타로 ,  고토히데아키 ,  후지와라마사키

IPC: G01N21/956 ,  G01B11/24 ,  G06T7/60

Abstract: The present invention relates to a measuring apparatus, a substrate processing system, and a measuring method which promotes light weight and is not expensive. The measuring apparatus according to an embodiment includes a transfer unit, an imaging unit, and a measuring unit. The transfer unit transfers a substrate formed with a pattern, the imaging unit is positioned above the transfer unit, and takes an image of the pattern on the substrate. The measuring unit measures the shape of the pattern on the basis of the image information of the pattern taken by the imaging unit.

Abstract translation: 本发明涉及促进重量轻并且不昂贵的测量装置，基板处理系统和测量方法。 根据实施例的测量装置包括传送单元，成像单元和测量单元。 转印单元传送形成有图案的基板，成像单元位于转印单元上方，并将图案的图像作为基板。 测量单元基于由成像单元拍摄的图案的图像信息来测量图案的形状。

公开(公告)号：KR101053016B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020050031463

申请日：2005-04-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 기판에서의 전사발생을 억제한 현상처리장치 및 현상처리방법을 제공한다.
현상처리유닛(24)은, 기판(G)을 약 수평자세로 반송하는 제 2 기판반송 기구(14b)와, 기판(G)의 표면에 현상액을 공급하는 현상노즐(51a. 51b)과, 현상노즐(51a) 등으로부터의 현상액토출을 제어하는 현상액 토출제어기구(56)와, 현상노즐(51a) 등을 소정방향으로 이동시키는 현상노즐이동기구(55)와, 제 2 기판반송기구(14b)에 지지된 기판(G)을 기판 반송방향 전후에 소정거리 요동하면서, 현상노즐(51a) 등으로부터 현상액을 토출시키면서 현상노즐(51a) 등을 기판반송방향과는 반대방향으로 이동시킴으로써, 요동하는 기판(G)상에 현상액 패들이 형성되도록, 제 2 기판반송기구(14b)와 현상액 토출제어기구(56)와 현상노즐이동기구(55)를 제어하는 패들형성 제어장치(57)를 구비한다.

Abstract translation: 提供一种抑制在基板上产生转印的显影处理装置和显影处理方法。

公开(公告)号：KR101052949B1

公开(公告)日：2011-07-29

申请号：KR1020110003962

申请日：2011-01-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사다데쓰야 ,  고토히데아키 ,  가와우치다쿠오

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/30

Abstract: 기판에서의 전사발생을 억제한 현상처리장치 및 현상처리방법을 제공한다.
현상처리유닛(24)은, 현상액 패들이 형성된 기판(G)을 약 수평자세로 지지하고 소정방향으로 반송하는 제 4 기판반송기구와, 상기 기판반송기구에 의해서 반송되는 기판의, 기판반송방향의 후방측을 지지함과 동시에 그 전방측을 들어 올리는 것에 의해서, 상기 기판을 비스듬한 자세로 유지하는 기판경사기구(60)와 상기 기판경사기구에 지지된 기판의 표면에 린스액을 공급하는 린스노즐(52)과, 상기 린스노즐로부터의 린스액토출을 제어하는 린스액 토출제어기구(46)와, 상기 린스노즐을 상기 기판의 경사에 따라서 이동시키는 린스노즐 이동기구(47)와, 상기 기판경사기구에 지지된 기판의 아래쪽으로부터 위쪽을 향하여 그 표면을 따라서 상기 린스노즐을 이동시키면서, 상기 린스노즐로부터 린스액을 토출시키는 것에 의해 상기 기판의 표면이 린스처� ��되도록, 상기 린스노즐이동기구 및 상기 린스액 토출제어기구를 제어하는 린스처리 제어장치(48)를 구비한다.

Abstract translation: 提供一种抑制在基板上产生转印的显影处理装置和显影处理方法。