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公开(公告)号:KR100177591B1
公开(公告)日:1999-04-15
申请号:KR1019930001597
申请日:1993-02-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67781 , H01L21/6838 , Y10S414/137 , Y10S414/141
Abstract: 웨이퍼에 레지스트를 도포·현상하는 장치는, 웨이퍼를 수용하는 여러 개의 캐리어 및 받아 건네는 대가 배설된 캐리어 스테이숀과, 여러 개의 처리 유니트를 가지는 처리부와, 상기 캐리어 스테이숀과 처리부 사이에서 배설된 반송 로보트를 구비한다. 상기 로보트는 상기 캐리어와 상기 받아 건네는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 1개의 판형상 아암과, 상기 처리 유니트와 상기 받아 건네는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 2개의 말굽형 포크를 구비한다. 상기 로보트는, 아암 및 포크를 상기 캐리어, 처리 유니트, 및 받아 건네는 대와 대향시키도록 반송로를 따라서 이동 가능하게 되어 있다.
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公开(公告)号:KR100272188B1
公开(公告)日:2000-12-01
申请号:KR1019940028108
申请日:1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor: 가와카미야스노리 , 후쿠다다카히데 , 후지모토아키히로 , 다케쿠마다카시 , 난부미쓰히로 , 이이다나루아키 , 고토히데아키 , 다테야마마사노리 , 요시모토유지 , 이시모토도모코 , 야스에가시히데타미
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67265 , H01L21/67173 , H01L21/67766 , H01L21/67778 , Y10S134/902 , Y10S414/135 , Y10S414/136 , Y10S414/137 , Y10S414/141
Abstract: 본 발명은, 낱장처리에 의하여 피처리체에 처리액을 도포하는 도포처리부로부터 피처리체를 피처리체 유지부재로 옮기는 제1의 이송수단, 및 복수의 피처리체 유지부재를 부착 및 이탈가능하게 얹어놓음과 함께 복수의 피처리체 유지 수단을 동시에 이동하는 이동수단을 가지는 인터페이스부와, 이동수단에 얹어놓인 피처리체 유지수단과, 도포처리가 행해진 복수의 피처리체에 배치처리체 의하여 열처리를 행하는 열처리부에 옮기는 제2의 이송수단을 가지는 열처리부를 구비하는 기판 처리장치를 제공한다.
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公开(公告)号:KR100264109B1
公开(公告)日:2000-09-01
申请号:KR1019950018716
申请日:1995-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/67184
Abstract: 본 발명은, 복수매의 피처리체를 수용한 적어도 하나의 카세트를 얹어놓는 카세트 스테이션과, 피처리체에 처리를 하는 복수의 처리실 및 처리실에 피처리체를 반입하고, 처리실로 부터 피처리체를 반출하는 피처리체 반송수단을 포함하는 처리스테이션과, 카세트 스테이션과 처리스테이션과의 사이에서 피처리체를 주고 받는 제1의 피처리체 주고 받기 수단과, 피처리체를 대기시키는 피처리체 대기영역 및 처리스테이션과의 사이에서 피처리체의 주고 받기를 하는 제2의 피처리체 주고 받기 수단을 포함하는 인터페이스부를 가지며, 처리스테이션에 있어서의 처리실이 피처리체 반송수단의 둘레에 배치되어 있고, 피처리체 반송수단은 연직방향으로 거의 평행한 회전축을 가지며, 회전축을 따라서 연직방향으로 승강가능하며, 회전축에 대하여 회전 가능한 기판처리시스템을 제공한다.
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公开(公告)号:KR1019960002497A
公开(公告)日:1996-01-26
申请号:KR1019950018716
申请日:1995-06-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/02
Abstract: 본 발명은, 복수매의 피처리체를 수용한 적어도 하나의 카세트를 얹어 놓는 카세트 스테이션과, 피처리체에 처리를 복수의 처리실 및 처리실에 피처리체를 반입하고, 처리실로 부터 피처리체를 반출하는 피처리체 반송수단을 포함하는 처리 스테이션과, 카세트 스테이션과 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체를 주고 받는 제1의 피처리체 주고 받기 수단과, 피처리체를 대기시키는 피처리체 대기영역 및 처리 스테이션과의 사이에서 피처리체의 주고 받기를 하는 제2의 피처리체 주고받기 수단을 포함하는 인텨페이스부를 가지며, 처리 스테이션에 있어서의 처리실이 피처리체 반송수단의 둘레에 배치되어 있고, 피처리체 반송수단은 연직방향으로 거의 평행한 회전축을 가지며, 회전축을 따라서 연직방향으로 승강가능하며, 회전축에 대하여 회전가 능한 기판처리 시스템을 제공한다.
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公开(公告)号:KR1019950012620A
公开(公告)日:1995-05-16
申请号:KR1019940028108
申请日:1994-10-29
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor: 가와카미야스노리 , 후쿠다다카히데 , 후지모토아키히로 , 다케쿠마다카시 , 난부미쓰히로 , 이이다나루아키 , 고토히데아키 , 다테야마마사노리 , 요시모토유지 , 이시모토도모코 , 야스에가시히데타미
IPC: H01L21/302
Abstract: 본 발명은, 낱장처리에 의하여 피처리체에 처리액을 도포하는 도포처리부로부터 피처리체를 피처리체 유지부재로 옮기는 제1의 이송수단 및 복수의 피처리체 유지부재르 부착 및 이탈가능하게 얹어놓음과 함께 복수의 피처리체 유지수단을 동시에 이동하는 이동수단을 가지는 인터페이스부와, 이동수단에 얹어놓인 피처리체 유지수단과, 도포처리가 행해진 복수의 피처리체에 배치처리체 의하여 열처리를 행하는 열처리부에 옮기는 제2의 이송수단을 가지는 열처리부를 구비하는 기판처리장치를 제공한다.
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公开(公告)号:KR1019930018700A
公开(公告)日:1993-09-22
申请号:KR1019930001597
申请日:1993-02-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 웨이퍼에 레지스트를 도포·현상하는 장치는, 웨이퍼를 수용하는 여러개의 캐리어 및 받아 건내는 대가 배설된 캐리어 스테이숀과, 여러 개의 처리 유니트를 가지는 처리부와, 상기 캐리어 스테이숀과 처리부 사이에서 배설된 반송 로보트를 구비한다. 상기 로보트는 상기 캐리어와 상기 받아 건내는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 1개의 판형상 아암과, 상기 처리 유니트와 상기 받아 건내는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 2개의 말굽형 포크를 구비한다. 상기 로보트는, 아암 및 포크를 상기 캐리어, 처리 유니트, 및 받아 건내는 대와 대향시키도록 반송로를 따라서 이동가능하게 되어 있다.
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公开(公告)号:KR101760311B1
公开(公告)日:2017-07-21
申请号:KR1020130038071
申请日:2013-04-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , H01L21/02
CPC classification number: H01L21/677 , H01L21/67265 , H01L21/67772 , H01L21/67775 , H01L21/67778
Abstract: 기판전달장치의높이를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 격벽에형성된개구부에, 기판반송용기의전면에형성된기판취출구를당해격벽의일면측으로부터대향시키고, 상기기판반송용기의덮개체를상기격벽의타면측으로분리하여기판의전달을행하는장치에서, 상기개구부를상기격벽의타면측으로부터개폐하는도어와, 상기도어를, 상기개구부를폐색하는제 1 위치와당해위치로부터전방으로떨어진제 2 위치와의사이에서진퇴시키기위한진퇴부와, 상기도어를, 제 2 위치와상기개구부의전방영역으로부터벗어난제 3 위치와의사이에서, 당해도어의진퇴방향을따른회동축을중심으로회동시키는회동기구를구비하도록장치를구성한다. 이와같이구성함으로써, 도어를승강시킬필요가없으므로, 장치의높이를억제할수 있다.
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公开(公告)号:KR101690229B1
公开(公告)日:2016-12-27
申请号:KR1020130156196
申请日:2013-12-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/677 , H01L21/68
Abstract: 기판의높이가예정위치로부터벗어나도반송용기로부터기판을반출가능하게하고또한신속하게장치를개시할수 있는기술을제공하는것이다. 반입포트에반송용기를재치하는공정과, 반입포트로반입된반송용기내의기판의높이위치를광학적으로검출하기위한승강가능한기판검출부를이용하고, 반입포트상의반송용기내의각 기판의높이위치에대한정보를취득하는공정과, 상기기판반송기구가당해기판반송기구에의해관리되고있는좌표상에서미리설정된높이위치에있을때에있어서, 상기기판검출부에의해관리되고있는좌표상에서의당해기판반송기구의높이위치와, 상기기판검출부에의해취득한상기정보에기초하여, 반송용기내의기판을수취할때의기판반송기구의높이위치를산출하는공정과, 이높이위치에기초하여반송용기내로부터기판을취출하는공정을행한다.
Abstract translation: 要解决的问题:即使在基板的高度超出预设位置的情况下,也能够使输送容器的基板输出,从而能够迅速地升起装置。 解决方案:基板输送方法包括以下步骤:将输送容器放置在输送口上; 通过使用基板检测部分获取关于输送容器中的每个基板的高度的信息,该基板检测部分自由地上升或下降以光学检测在输送端口中输送的输送容器中的基板的高度; 基于在基板检测部分管理的坐标上的基板输送机构的高度和基板检测部分获得的信息时,基于输送容器中的每个基板接收基板输送机构的高度, 传送机构在由基板输送机构管理的坐标上处于预设高度; 并基于该高度将基材从输送容器中取出。
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公开(公告)号:KR1020160142778A
公开(公告)日:2016-12-13
申请号:KR1020160067476
申请日:2016-05-31
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/67 , H01L21/66
CPC classification number: H01L22/10 , G01N21/85 , G01N2021/8578 , G03F7/16 , G03F7/162 , H01L21/0273 , H01L21/67253 , H01L21/0274 , H01L21/67017 , H01L21/67126 , H01L21/6715 , H01L22/12 , H01L22/24
Abstract: 복수의유체공급로를구비하는기판처리장치에있어서, 각공급로를유통하는유체에포함되는이물을검출하는데 있어서, 장치의대형화및 제조비용의상승을방지할수 있는기술을제공하는것이다. 기판에공급되는유체의복수의공급로각각의일부이며, 유체중 이물의측정영역을구성하고, 서로열을형성해서설치되는측정용유로부와, 상기복수의유로부에공용되고, 상기유로부에광로를형성하기위한광 조사부와, 상기복수의유로부중 선택된유로부내에, 광로를형성하기위해서, 상기광 조사부를상기유로부의배열방향을따라서상대적으로이동시키는이동기구와, 상기유로부를투과하는광을수광하는수광소자를포함하는수광부와, 상기수광소자로부터출력되는신호에기초하여, 상기유체중 이물을검출하기위한검출부를구비하도록장치를구성한다. 그에의해, 필요한광 조사부의수를삭감할수 있음과함께, 장치의축소화를도모할수 있다.
Abstract translation: 一种装置,包括:作为供给到基板的流体的多个供给路径的一部分的测定流路部,构成测定流体中异物的测定区域的测量流路部, 相互排列; 光照射单元,被配置为在所述流路部分之一中形成光路,所述光照射单元由所述多个流路部分共享; 移动机构,其构造成沿着所述流路部的配置方向相对移动所述光照射单元,以在所述多个流路部中选择的流路部内形成光路; 光接收单元,其包括受光元件,所述光接收元件接收由所述流路部分透射的光; 以及检测单元,被配置为基于从所述光接收元件输出的信号来检测所述流体中的异物。 因此,可以减少必要的光照射单元的数量,并且可以使该装置小型化。
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公开(公告)号:KR1020040111070A
公开(公告)日:2004-12-31
申请号:KR1020040044273
申请日:2004-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68
CPC classification number: H01L21/67754 , H01L21/6715 , H01L21/67259 , H01L21/681 , Y10S414/139 , Y10S414/141
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and an aligning method of a substrate carrier apparatus are provided to perform a precise alignment of the substrate carrier apparatus on a processing unit. CONSTITUTION: A substrate processing apparatus includes a first optical detection mark(7A), a second optical detection mark(7B), an optical sensor(6), and a controller(C). The first optical detection mark on an outer surface of an exterior casing includes a predetermined positional coordinate in a lateral direction with respect to a carrier opening. The second optical detection mark on the outer surface of the exterior casing includes a predetermined positional coordinate in a vertical direction with respect to the carrier opening. The optical sensor is provided on the substrate carrier apparatus to detect the first or second optical detection marks. The controller includes two programs. One of the programs rotates the substrate carrier apparatus, and moves the substrate carrier apparatus in the vertical direction, to allow the substrate carrier apparatus to face the carrier opening of the processing unit. The other program allows the substrate carrier apparatus to enter a processing unit to perform an operation of data acquisition on a precise transfer position.
Abstract translation: 目的:提供基板载体装置的基板处理装置和对准方法,以在处理单元上执行基板载体装置的精确对准。 构成:基板处理装置包括第一光学检测标记(7A),第二光学检测标记(7B),光学传感器(6)和控制器(C)。 外壳的外表面上的第一光学检测标记在相对于载体开口的横向方向上具有预定的位置坐标。 外壳的外表面上的第二光学检测标记包括相对于载体开口在垂直方向上的预定位置坐标。 光学传感器设置在基板载体装置上以检测第一或第二光学检测标记。 控制器包括两个程序。 其中一个程序旋转衬底载体装置,并使衬底载体装置沿垂直方向移动,以允许衬底载体装置面对处理单元的载体开口。 另一个程序允许基板载体装置进入处理单元,以在精确的传送位置执行数据采集的操作。
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