Abstract:
PURPOSE: A method for manufacturing a multi-component metal oxide thin film with a superlattice structure of a thermoelectric device is provided to reduce manufacturing costs by not requiring a vacuum chamber to form a thin film. CONSTITUTION: A ZnO buffer layer is formed on a substrate by a sputtering method(S1). A thin film is formed by rotating the substrate with a buffer layer using a spin coating method to drop metal source containing solutions on the rotating substrate(S2). The thin film formed with the spin-coating method is dried(S3). A metal oxide thin film with the superlattice structure is formed by thermally processing the dried thin film(S4). [Reference numerals] (S1) Forming a ZnO buffer layer on a substrate by sputtering; (S2) Forming a thin film on a buffer layer with a spin-coating method; (S3) Drying a thin film; (S4) Forming a metal oxide thin film with a superlattice structure by thermally processing a thin film
Abstract:
PURPOSE: A metal oxide nanostructure ultraviolet-ray sensor and a fire-warning apparatus applying the same are provided to offer high response rate by including low background current using an upper electrode higher than a work function. CONSTITUTION: A buffer layer(200) is formed on a transparent electrode(100). A metal oxide is formed on the buffer layer. An upper electrode(400) is formed on the upper surface of a metal oxide nanostructure(300). The metal oxide nanostructure is comprised of a metal oxide. A flame detecting sensor comprises a metal oxide nanostructure ultraviolet-ray sensor. A fire warning part receives a signal from the flame detecting sensor and raises the alarm when the metal oxide nanostructure ultraviolet-ray sensor senses ultraviolet-rays. A power supply part supplies electricity to the flame detecting sensor and the fire warning part.
Abstract:
본 발명은 In-Ga-Zn-Sn-Al를 성분원소로 하는 다성분계 산화물 박막 제조방법에 관한 것으로서, 기판상에 스퍼터링을 통해 버퍼층이 형성되는 S1 단계; ZnO 버퍼층상에서 아르곤가스(Ar)와 산소가스(O 2 )를 주입하면서 스퍼터링을 통해 단결정의 IGZO 박막이 성장되는 S2 단계; 및 성장된 박막을 열처리하여 초격자구조를 형성시키는 S3 단계를 포함하며, S1 단계에서 형성되는 버퍼층은 ZnO, Indium-ZnO, Gallium-ZnO, YSZ, GaN, MgO, Indium Oxide 및 Gallium Oxide로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 물질인 것을 특징으로 한다. 본 발명에 초격자구조의 다성분계 산화물 박막제조방법은 기판상에 버퍼층이 형성됨으로써 박막의 결정화를 용이하게 하는 효과가 있다. 본 발명에 초격자구조의 다성분계 산화물 박막제조방법은 버퍼층에서 성장된 박막을 고온에서 열처리하여 자발적 초격자구조를 형성시키는 효과가 있다.
Abstract:
본 발명은 In-Ga-Zn-Sn-Al를 성분원소로 하는 다성분계 산화물 박막 제조방법에 관한 것으로서, 기판상에 스퍼터링을 통해 버퍼층이 형성되는 S1 단계; 버퍼층에서 박막이 성장되는 S2 단계; 및 성장된 박막을 열처리하여 초격자구조를 형성시키는 S3 단계를 포함하며, S1 단계에서 형성되는 버퍼층은 ZnO, Indium-ZnO, Gallium-ZnO, YSZ, GaN, MgO, Indium Oxide 및 Gallium Oxide로 이루어진 군 중에서 선택되는 어느 하나의 물질인 것을 특징으로 한다. 본 발명에 초격자구조의 박막제조방법은 기판상에 버퍼층이 형성됨으로써 박막의 결정화를 용이하게 하는 효과가 있다. 본 발명에 초격자구조의 박막제조방법은 버퍼층에서 성장된 박막을 고온에서 열처리하여 자발적 초격자구조를 형성시키는 효과가 있다.
Abstract:
PURPOSE: Semiconductor nanorods, a method for manufacturing the semiconductor nanorod, solar cell including the semiconductor nanorod, and an electroluminescent device including the semiconductor nanorod are provided to form the nanorod having excellent crystalline without containing a metal catalyst agent by forming the nanorod on a seed. CONSTITUTION: A method for manufacturing nanorods comprises the following steps: offering a substrate(10); forming a seed(15) of an island shape on the substrate; and forming the nanorod(17) on the seed. The seed is the seed of ZnO-based metal oxide. The nanorod is the nanorod of ZnO-based metal oxide. The nanorod has a wurtzite tructure which is highly oriented into c- shaft. The nanorod contains metallic impurities. The metallic impurities are Ga, Al, In, P, and Mg.
Abstract:
본 발명은 기판상에 형성되는 초격자구조 박막을 갖는 반도체소자에 있어서, 초격자구조 박막은 기판상에 절연성 박막과 반도성 박막이 순차적으로 적층된 것을 특징으로 하는 반도성 박막과 절연성 박막으로 적층형성된 초격자구조 박막이 구비된 반도체소자에 관한 것이다. 본 발명에 따른 초격자 박막은 반도성과 절연성 박막으로 적층 형성된 구조로 초격자 박막을 구성하는 반도성 박막 및 절연성 박막은 결정성과 비정질로 구성될 수 있으며, 혹은 혼합되어 사용될 수 있어 기존의 이종 반도성으로 이루어진 초격자의 두물질간의 격자상수의 불일치를 해결하기 위한 물질의 제약이 없어 다양한 소재들이 사용될 수 있는 특징을 가지고 있다.
Abstract:
The present invention relates to a method of growing a transparent electrode by atomic layer deposition. The present invention includes an S1 step of arranging a target substrate to be deposited in a reaction chamber; an S2 step of forming a ZnO thin film by the chemical reaction of a zinc precursor and an oxygen precursor, by injecting the zinc precursor and the oxygen precursor into the reaction chamber; and an S3 step of injecting a doping material precursor into the reaction chamber and then forming a doping layer on the surface of the ZnO thin film. The S2 step is repeatedly performed before the S3 step is performed one time, and the whole process is repeated, thereby controlling an increase and decrease in the concentration and each height of the doping layer and the ZnO thin film consisting of multi layers.