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公开(公告)号：WO2012064102A2
公开(公告)日：2012-05-18
申请号：PCT/KR2011/008512
申请日：2011-11-09
CPC classification number: C23C16/26 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/186 , C21D1/68 , C21D1/72 , C21D3/04 , C21D8/0284 , C21D8/0484 , C23C8/22 , C23C14/022 , C23C14/0605 , C23C16/02 , C23C16/487 , Y10T428/30 , Y10T428/31678
Abstract: 본 발명은 그래핀 피복 강판 및 이의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명의 그래핀 피복 강판은 강판; 및 상기 강판 위에 형성된 그래핀층을 포함하고 있어, 철의 산화 등 철의 부식을 방지할 수 있고, 열 전도도 및 전기 전도도가 매우 우수하여, 그래핀의 열적 안정성에 기인하여 우수한 내열성을 가지는 그래핀 피복 강판을 제공할 수 있다. 본 발명에서는 또한, 결점이나 불순물이 거의 없는 단일 결정 형태를 띠는 매우 우수한 품질의 그래핀으로 피복된 강판을 제조하는 방법을 제공할 수 있다.
Abstract translation: 石墨烯涂覆钢板及其制造方法技术领域本发明涉及石墨烯涂覆钢板及其制造方法。 本发明的石墨烯涂布钢板包括：钢板; 以及形成在钢板上的石墨烯层。 因此，提供了一种石墨烯涂覆钢板，其中防止铁的腐蚀，例如铁的氧化，并且具有非常优异的导热性和导电性，以及由于热稳定性导致的优异的耐热性 石墨烯。 此外，根据本发明的制造石墨烯涂层钢板的方法能够制造具有单一形状的颗粒和很少或没有缺陷或杂质的高品质石墨烯涂层钢板。
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公开(公告)号：KR101178555B1
公开(公告)日：2012-08-30
申请号：KR1020100037993
申请日：2010-04-23
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: 일함수가 조절된 그래핀을 형성하는 방법을 제공한다. 상기 방법은 기본 그래핀(pristine graphene)을 준비하고, 알곤 이온(argon ion)을 가속시키고, 가속된 상기 알곤 이온을 상기 기본 그래핀에 조사하여 상기 기본 그래핀의 일함수(work function) 와 다른 일함수를 갖는 변형 그래핀을 형성하는 것을 포함한다.
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公开(公告)号：KR101067054B1
公开(公告)日：2011-09-22
申请号：KR1020090019437
申请日：2009-03-06
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
IPC: H01L21/306
Abstract: 방향성 다중고리 화합물의 하나인 펜타신으로 구성된 극자외선용 감광막 및 그의 형성 방법을 제공한다. 진공 중에서 펜타신을 고체 시료에 증착시키고, 이에 극자외선을 조사하며, 가열을 통해 노광되지 않은 감광막을 제거한다. 최근 미세화되고 있는 반도체 공정에 이용될 수 있다.
펜타신(Pentacene), 감광제, 감광막, 극자외선-
公开(公告)号：KR100631748B1
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：KR1020050025426
申请日：2005-03-28
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
IPC: G01N35/10
Abstract: 본 발명의 진공 챔버 내부로의 시료 이송장치는 진공 챔버 내부에서 시료를 분석함에 있어서, 진공 챔버 내부로 시료 홀더의 이송을 용이하게 하고, 이송된 시료 홀더의 장착을 용이하게 하는 것으로서, 시료를 진공 챔버 내부로 이송하여 장착하며, 시료를 부착하는 시료 홀더, 상기 시료 홀더의 일측에 형성되는 삽입구로 삽입되어 삽입구의 다른 측에 결합되는 돌기를 그 선단에 구비하는 커넥션 로드, 및 상기 커넥션 로드의 시료 홀더 반대측에 결합되는 바아(bar)를 포함한다.
방사광, 가속기, 진공 챔버, 시료, 홀더Abstract translation: 用于将样品转移到真空室中的样品转移装置便于将样品架转移到真空室中并且便于将转移的样品架安装在分析真空室中的样品中。 连接杆插入到形成在样品保持器的一侧处的插入端口中，并且在连接杆的尖端设置有与插入端口的另一侧连接的突起， 还有一个连接到支架另一侧的杆。
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公开(公告)号：KR1020100008022A
公开(公告)日：2010-01-25
申请号：KR1020080068395
申请日：2008-07-15
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
Abstract: PURPOSE: A method for manufacturing a molecule monolayer including an alkyne compound is provided to form a molecule monolayer of an alkyne compound in a minute and precise level from a furoxan monolayer on the surface of a substrate using extreme ultraviolet rays. CONSTITUTION: A method for manufacturing a molecule monolayer including an alkyne compound comprises: a molecular layer formation step that forms a furoxan monolayer on the surface of a substrate; and a light irradiation step that irradiates extreme ultraviolet rays to the furoxan monolayer formed in the sample preparation step. A method for forming a molecule monolayer comprises the steps of: washing a substrate for forming the furoxan monolayer; forming an APDES((3-aminoproryl)diethoxymethylsilane) molecular monolayer on the surface of washed substrate; and forming the furoxan monolayer by reacting the furoxan compound on the APDES molecular monolayer.
Abstract translation: 目的：提供用于制造包含炔化合物的分子单层的方法，以使用极紫外线从基底表面上的呋喃糖单层以微细且精确的水平形成炔化合物的分子单层。 构成：制造包含炔化合物的分子单层的方法包括：分子层形成步骤，在基材表面上形成呋喃糖单层; 以及向样品制备工序中形成的呋喃糖单层照射极紫外线的光照射工序。 形成分子单层的方法包括以下步骤：洗涤形成呋喃糖单层的底物; 在洗涤的底物的表面上形成APDES（（3-氨基环戊基）二乙氧基甲基硅烷）分子单层; 并通过使呋喃糖化合物与APDES分子单层反应形成呋喃糖单层。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020090042059A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：KR1020070107939
申请日：2007-10-25
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70033 , B82Y40/00
Abstract: A patterning method using a polyatomic molecule is provided to perform a minute surface pattering by using an extreme ultraviolet, a soft X ray, and a polyatomic molecule. A molecule layer(102) is formed by absorbing a polyatomic molecule on a surface of a solid. The polyatomic molecule is NH2 or H2O. A pattern is formed by selectively irradiating an extreme ultraviolet or a soft X-ray on a part of the surface of the molecule layer. A silicone substrate on which the molecule layer is formed is positioned inside a chamber of an ultra high vacuum state. A molecule pattern is formed by absorbing a functional molecule to the pattern.
Abstract translation: 提供使用多原子分子的图案化方法，通过使用极紫外线，软X射线和多原子分子来执行微小表面图案。 通过吸收固体表面上的多原子分子形成分子层（102）。 多原子分子是NH2或H2O。 通过在分子层的表面的一部分上选择性地照射极紫外线或软X射线来形成图案。 形成有分子层的有机硅基板位于超高真空状态的室内。 通过将功能分子吸收到图案形成分子图案。
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公开(公告)号：KR100888886B1
公开(公告)日：2009-03-17
申请号：KR1020070097459
申请日：2007-09-27
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/2008 , B82Y40/00 , G03F7/70841
Abstract: A patterning method using monatomic molecule is provided to realize the surface patterning elaborate and minute by using the extreme ultraviolet radiation with short wave length. The monatomic molecule is absorbed to the surface of the solid and forms the molecule layer. The contaminant layer is formed on the surface of the formed molecule layer. The extreme ultraviolet radiation or the soft X-ray(Soft X-ray) is selectively irradiated onto the surface of the formed contaminant layer and the pattern is formed. The silicon substrate in which the contaminant layer is formed is positioned within the chamber with the ultra-high vacuum state, the extreme ultraviolet radiation or the soft X-ray is irradiated.
Abstract translation: 提供使用单原子分子的图案化方法，通过使用具有短波长的极紫外线辐射来实现表面图案的精细化和细微化。 单原子分子被吸收到固体的表面并形成分子层。 污染物层形成在形成的分子层的表面上。 将极紫外线或软X射线（软X射线）选择性地照射到形成的污染物层的表面上，形成图案。 其中形成污染物层的硅衬底位于具有超高真空状态的室内，照射极紫外线或软X射线。
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公开(公告)号：KR101532170B1
公开(公告)日：2015-06-30
申请号：KR1020140051038
申请日：2014-04-28
Applicant: 주식회사 포스코 , 포항공과대학교 산학협력단
CPC classification number: C23C16/26 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B32/186 , C21D1/68 , C21D1/72 , C21D3/04 , C21D8/0284 , C21D8/0484 , C23C8/22 , C23C14/022 , C23C14/0605 , C23C16/02 , C23C16/487 , Y10T428/30 , Y10T428/31678
Abstract: 본발명은그래핀피복강판및 이의제조방법에관한것이다. 본발명의그래핀피복강판은강판; 및상기강판위에형성된그래핀층을포함하고있어, 철의산화등 철의부식을방지할수 있고, 열전도도및 전기전도도가매우우수하며, 그래핀의열적안정성에기인하여우수한내열성을가지는그래핀피복강판을제공할수 있다. 본발명에서는또한, 결점이나불순물이거의없는단일결정형태를띠는매우우수한품질의그래핀으로피복된강판을제조하는방법을제공할수 있다.
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公开(公告)号：KR100921932B1
公开(公告)日：2009-10-15
申请号：KR1020070107939
申请日：2007-10-25
Applicant: 포항공과대학교 산학협력단
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 다원자분자를 이용한 패터닝방법에 관한 것으로서, 본 발명에 따르면, 극자외선 또는 소프트 엑스레이를 사용하여 EUV에 의한 다원자분자막의 변화 (질화(nitridation),산화(oxidation) 등)를 유도하고 실리콘기판의 표면에 패턴을 형성시킴으로써 -NH
2 , -OH 등의 작용기를 이용하여 미세한 수준에서 정밀도가 높은 패턴을 형성시킬 수 있는 기술이 개시된다.
리소그래피, EUV, 패터닝, 흡착, NH₃H₂O, 다원자분자-
公开(公告)号：KR1020060103627A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：KR1020050025426
申请日：2005-03-28
Applicant: 학교법인 포항공과대학교 , 포항공과대학교 산학협력단
IPC: G01N35/10
Abstract: 본 발명의 진공 챔버 내부로의 시료 이송장치는 진공 챔버 내부에서 시료를 분석함에 있어서, 진공 챔버 내부로 시료 홀더의 이송을 용이하게 하고, 이송된 시료 홀더의 장착을 용이하게 하는 것으로서, 시료를 진공 챔버 내부로 이송하여 장착하며, 시료를 부착하는 시료 홀더, 상기 시료 홀더의 일측에 형성되는 삽입구로 삽입되어 삽입구의 다른 측에 결합되는 돌기를 그 선단에 구비하는 커넥션 로드, 및 상기 커넥션 로드의 시료 홀더 반대측에 결합되는 바아(bar)를 포함한다.
방사광, 가속기, 진공 챔버, 시료, 홀더
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