公开(公告)号：KR101172743B1

公开(公告)日：2012-08-14

申请号：KR1020090115109

申请日：2009-11-26

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김종문 ,  오현석 ,  김현택 ,  전정우 ,  정성일

IPC: B41F15/14 ,  B41F15/08

Abstract: 본 발명은, 새로운 비접촉식 임프린트 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 롤투롤 임프린트 공정에서 기존의 롤러에서의 분진 발생, 임프린트된 제품의 품질 저하, 롤의 신뢰성 등의 문제를 비접촉 방식인 자기베어링을 사용함으로써 해결할 수 있는 비접촉식 임프린트 장치에 관한 것이다.
이를 위하여 본 발명에서는 롤투롤 임프린트 장치에 있어서, 연성기판에 패턴을 형성하도록 회전운동하는 원통 금형과; 전자기력에 의해 반경방향의 운동을 제어하는 레이디얼 베어링과; 축방향의 운동을 제어하도록 상기 원통 금형의 회전축 방향으로 좌우 양단에 구비되는 한 쌍의 스러스트 베어링과; 상기 레이디얼 베어링 및 상기 스러스트 베어링의 회전자와 상기 원통 금형을 포함하는 롤과; 상기 원통 금형과 상기 연성 기판 사이에 장력을 형성하는 한 쌍의 반송 롤러를 포함하며, 상기 레이디얼 베어링 각각의 고정자는 상측의 제1고정자부와 상기 제1고정자부에 분리된 하측의 제2고정자부로 구성되는 것을 특징으로 하는 비접촉식 임프린트 장치를 제공한다.
이러한 구성을 포함하는 본 발명의 비접촉식 임프린트 장치는 기존의 롤 임프린트 공정보다 분진이 적고, 임프린트된 제품의 품질이 양호하며, 상기 롤의 신뢰성이 향상되며, 유지보수성 및 양산성이 매우 뛰어난 효과가 있다.
자기부상, 자기베어링, 비접촉식, 임프린트

公开(公告)号：KR1020110057295A

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：KR1020090113633

申请日：2009-11-24

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 정성일 ,  오현석 ,  니키브로프 ,  김판겸 ,  김현택 ,  전정우 ,  김종문

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/08 ,  C23C14/48 ,  H01J37/305 ,  H01J37/32009

Abstract: PURPOSE: A device and method for processing various kinds of spices using plasma immersion ions are provided to efficiently polish a surface of large cylindrical processing materials by colliding ions accelerated to a sheath with rotary processing materials. CONSTITUTION: Plasma is filled in a vacuum chamber. A support(12) and a rotation device(13) are installed in a vacuum chamber. A cover(15) includes a slot(14) arranged along the surface of the processing materials. The cover is electrically connected to the processing materials. A power source(16) supplies power to the processing materials and the cover.

Abstract translation: 目的：提供使用等离子体浸渍离子处理各种香料的装置和方法，以通过与旋转处理材料碰撞加速到护套的离子来有效地抛光大圆柱形处理材料的表面。 构成：将等离子体填充在真空室中。 支撑件（12）和旋转装置（13）安装在真空室中。 盖（15）包括沿着处理材料的表面布置的槽（14）。 盖子与处理材料电连接。 电源（16）向处理材料和盖子供电。

公开(公告)号：KR1020120065015A

公开(公告)日：2012-06-20

申请号：KR1020100126316

申请日：2010-12-10

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김판겸 ,  오현석 ,  정성일 ,  김종문 ,  김현택 ,  전정우

IPC: B29C59/04 ,  B82B3/00

CPC classification number: G03F7/0035 ,  B29C59/04 ,  B29C59/16 ,  B82B3/0009 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/20

Abstract: PURPOSE: An anti fingerprint film with nano-pattern and method for fabricating the same are provided to prevent bodily secretions from remaining on the surface of a film. CONSTITUTION: An anti fingerprint film with nano-pattern and a method for fabricating the same formed are as follows. An UV(Ultraviolet) imprint roll-to-roll process is performed by using a cylindrical mold of nanostructure. A nano pattern(300) corresponding to the nanostructure is formed in the surface of a film. The nanostructure of the surface of the cylindrical mold is formed by a plasma treatment in a vacuum chamber.

Abstract translation: 目的：提供具有纳米图案的防指纹膜及其制造方法，以防止身体分泌物残留在膜的表面上。 构成：具有纳米图案的防指纹膜及其制造方法如下。 通过使用纳米结构的圆柱形模具进行UV（UV）压印卷对卷工艺。 在膜的表面形成对应于纳米结构的纳米图案（300）。 圆柱形模具的表面的纳米结构通过在真空室中进行等离子体处理而形成。

公开(公告)号：KR101048057B1

公开(公告)日：2011-07-11

申请号：KR1020090113633

申请日：2009-11-24

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 정성일 ,  오현석 ,  니키브로프 ,  김판겸 ,  김현택 ,  전정우 ,  김종문

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/302 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01J37/08 ,  C23C14/48 ,  H01J37/305 ,  H01J37/32009

Abstract: 본 발명은 가속 이온을 이용한 저온 플라즈마 잠입 이온으로 다양한 종류의 시편을 가공 처리하는 장치와 방법에 관한 것이다.
본 발명의 플라즈마 잠입 이온을 이용한 가공장치는 챔버 내부에 원통형 가공물이 놓여짐과 아울러 원통형 가공물 주위로 저온 플라즈마가 둘러싸게 되고, 다중 슬롯을 갖는 가공물 덮개가 원통형 가공물 주위에 씌워지면서 플라즈마로부터 분리시키게 되며, 스퍼터링을 유발시키기에 충분한 음전위가 원통형 가공물과 가공물 덮개에 부가됨으로써, 플라즈마로부터 나온 이온이 덮개와 플라즈마 사이에 형성된 쉬스층 안으로 가속되고, 슬롯을 통과하여 원통형 가공물에 충돌하게 되어 원통형 가공물의 표면 거칠기를 감소시키는 방식으로 이루어진다.
이러한 본 발명의 가공 장치 및 방법은 대면적의 원통형 기판, 특히 마이크로 또는 나노 패턴 전사 기술을 위한 기판의 표면을 수 나노 미터의 표면 거칠기로 만드는데 효과가 있다.
그리고, 본 발명의 방법은 단일 또는 다중 챔버 내에서 플라즈마 세정, 표면 활성, 표면 연마, 건식 식각, 증착, 플라즈마 잠입 이온 주입 및 증착 등의 공정을 수행할 수 있다.
플라즈마, 잠입, 이온, 표면처리, 스퍼터링, 챔버, 가공물 덮개, 슬롯, 가속, 가공

Abstract translation: 本发明涉及使用加速离子使用低温等离子体流入离子处理各种样品的设备和方法。

公开(公告)号：KR1020110067790A

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：KR1020090124537

申请日：2009-12-15

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 전정우 ,  오현석 ,  미티카카라이아니 ,  정성일 ,  김현택 ,  이창린 ,  김종문

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/24 ,  G03F7/703 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70791 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70841 ,  H01L21/68 ,  G03F7/709

Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage and a lithography are provided to efficiency process a pattern of a nano size on the surface of a cylinder by actively controlling the position of the device with error tolerance of several nano meters. CONSTITUTION: In a cylindrical magnetic levitation stage and a lithography, a rotation cylindrical driving unit and a liner transfer cylinder driving unit(13) support a cylindrical mold from both sides and is rotated or linearly moved through a magnetic levitation force and magnetic transfer force. a rotation cylindrical fixing unit and a liner transfer cylinder fixing unit are arranged under the rotation cylindrical driving unit and a liner transfer cylinder driving unit and supports the cylindrical driving unit with contactless. A magnet array and an electromagnetic array are mutually reacted to generate the magnetic levitation force and magnetic transfer force.

Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台和光刻技术，以通过主动控制具有几纳米误差的装置的位置来有效地处理气缸表面上的纳米尺寸图案。 构成：在圆柱形磁悬浮台和光刻中，旋转圆柱形驱动单元和衬垫传动滚筒驱动单元（13）从两侧支撑圆柱形模具，并通过磁悬浮力和磁力传递力旋转或线性移动。 旋转圆柱形固定单元和衬里传送圆筒固定单元布置在旋转圆柱形驱动单元和衬垫传送滚筒驱动单元的下面，并且支撑具有非接触式的圆柱形驱动单元。 磁体阵列和电磁阵列相互反应，产生磁悬浮力和磁力传递力。

公开(公告)号：KR1020120076805A

公开(公告)日：2012-07-10

申请号：KR1020100138525

申请日：2010-12-30

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 전정우 ,  오현석 ,  김종문 ,  김현택 ,  미티카카라이아니 ,  이창린 ,  정성일

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H02K7/09 ,  H02K16/00 ,  H02K21/12 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/15 ,  H02K2201/18 ,  H01L21/682 ,  G03F7/70716 ,  G03F7/70775 ,  G03F9/7003 ,  H01L21/02027 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage is provided to directly process a pattern of nanometer size on the cylinder surface of large size by actively controlling the location of a cylinder with an error of the nanometer size. CONSTITUTION: A cylinder movable unit is composed of a rotary cylinder movable unit(110b) and a linear transfer cylinder movable unit(110a). A base unit supports the cylinder movable unit which can be rotated without contact. The base unit comprises electromagnet arrangement bodies(122a, 123a, 122b, 123b). A horizontal magnetic levitation auxiliary unit(140) controls the horizontal direction location of a cylinder mold and the cylinder movable unit. The horizontal magnetic levitation auxiliary unit comprises an electromagnet arrangement body(141).

Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台，通过主动控制圆柱体的位置，以纳米尺寸的误差直接处理大尺寸圆柱体表面的纳米尺寸图案。 构成：缸体可动单元由旋转圆筒可动单元（110b）和直线传动滚筒活动单元（110a）构成。 基座单元支撑可旋转而不接触的气缸可动单元。 基座单元包括电磁铁排列体（122a，123a，122b，123b）。 水平磁悬浮辅助单元（140）控制气缸模具和气缸活动单元的水平方向位置。 水平磁悬浮辅助单元包括电磁体排列体（141）。

公开(公告)号：KR1020110067237A

公开(公告)日：2011-06-22

申请号：KR1020090123745

申请日：2009-12-14

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김판겸 ,  오현석 ,  정성일 ,  김현택 ,  전정우 ,  김종문

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H02K21/12 ,  G03F7/18 ,  H02K7/09 ,  H02K16/00 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/15 ,  H02K2201/18 ,  B05D7/00 ,  H01L21/67709

Abstract: PURPOSE: A coating apparatus for a cylindrical substrate using magnetic levitation is provided to perform thin coating with high accuracy over the area of the cylindrical structure by rotating a substrate fixing unit in contactless through magnetic levitation. CONSTITUTION: A base unit(20) comprises a coil assembly. The base unit supports a substrate fixing unit from a lower part without contacting it and is rotatable. A magnetic levitating type substrate fixing unit comprises a magnetism assembly(12) which is arranged on the coil assembly. A cylindrical substrate(1) is mounted in the magnetic levitating type substrate fixture A nozzle unit(30) ejects a coating solution through a nozzle on the surface of the cylindrical substrate which is magnetically levitated and rotated.

Abstract translation: 目的：提供一种使用磁悬浮的圆柱形基板的涂覆装置，通过磁悬浮将基板固定单元非接触地旋转而在圆柱形结构的区域上以高精度执行薄涂层。 构成：基座单元（20）包括线圈组件。 基座单元从下部支撑基板固定单元，而不与其接触并且是可旋转的。 磁悬浮型基板固定单元包括布置在线圈组件上的磁组件（12）。 圆筒状基板（1）安装在磁悬浮式基板固定装置（A）中。喷嘴单元（30）通过喷嘴喷射在圆柱形基板的磁悬浮和旋转的表面上。

公开(公告)号：KR1020110061012A

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：KR1020090117520

申请日：2009-12-01

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김종문 ,  오현석 ,  김현택 ,  전정우 ,  정성일

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H02K7/09 ,  G03F7/70716 ,  H02K21/12 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/15 ,  H02K2201/18 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70758

Abstract: PURPOSE: An electromagnetic holder device for an exposing device is provided to improve processing performance by decreasing the length of a mover by removing the chuck part of a magnetic levitation stage mover. CONSTITUTION: A rotating side electromagnet holder(16) is arranged on the upper side of a rotating side mover(11). A rotating side mover includes a rotating side permanent magnet(10). The rotating side electromagnet holder is comprised of a core(14a) and a coil(15a). The rotating side electromagnet holder controls the current to lift the rotating side mover and the transferring side mover up and down. The rotating side electromagnet holder includes a bracket(18a) which connects a core to a transfer stage.

Abstract translation: 目的：提供一种用于曝光装置的电磁保持器装置，通过移除磁悬浮载物台移动器的卡盘部分来减小移动器的长度来提高加工性能。 构成：旋转侧电磁铁支架（16）配置在旋转侧动子（11）的上侧。 旋转侧动子包括旋转侧永磁体（10）。 旋转侧电磁铁保持器由铁心（14a）和线圈（15a）构成。 旋转侧电磁铁支架控制电流，使旋转侧移动器和输送侧移动器上下移动。 旋转侧电磁铁保持器包括将铁心连接到转移台的托架（18a）。

公开(公告)号：KR101264224B1

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：KR1020100138525

申请日：2010-12-30

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 전정우 ,  오현석 ,  김종문 ,  김현택 ,  미티카카라이아니 ,  이창린 ,  정성일

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: H02K7/09 ,  H02K16/00 ,  H02K21/12 ,  H02K41/031 ,  H02K2201/15 ,  H02K2201/18

Abstract: 본발명은원통형자기부상스테이지에관한것으로서, 원통의부상이이루어지는수직방향(상하방향), 직선이송방향이되는축방향, 그리고원통의회전방향과더불어, 원통단면상좌우방향이되는수평방향으로도원통의위치를정밀하게제어할수 있는원통형자기부상스테이지를제공하는데주된목적이있는것이다. 상기한목적을달성하기위해, 원통금형에일체로장착되고영구자석배열체를구비하여영구자석배열체와하기베이스부의전자석배열체간 상호작용에의한자기부상력, 자기회전력, 자기이송력에의해부상하여비접촉식으로회전및 직선이송이가능한원통이동부와; 전자석배열체를구비하고상기원통이동부의하측으로배치되어비접촉으로원통이동부를회전및 직선이송가능하게지지하는베이스부와; 상기원통이동부의측방으로배치되고전자석배열체를구비하여상기전자석배열체와원통이동부의영구자석배열체간 상호작용에의해발생하는수평이송력으로원통이동부및 원통금형의수평방향위치를제어하는수평자기부상보조부;를포함하여구성되는원통형자기부상스테이지가개시된다.

公开(公告)号：KR101243182B1

公开(公告)日：2013-03-14

申请号：KR1020100126316

申请日：2010-12-10

Applicant: 한국전기연구원

Inventor： 김판겸 ,  오현석 ,  정성일 ,  김종문 ,  김현택 ,  전정우

IPC: B29C59/04 ,  B82B3/00

Abstract: 본 발명은 지문 상의 인체 분비물에 의하여 필름 표면이 오염되는 것을 방지하기 위하여 지문 생성을 억제하는 내지문 기능을 갖는 내지문 필름 및 이러한 내지문 필름의 제조 방법에 관한 것이다.
이와 관련하여, 본 발명에서는 인체 분비물이 필름의 기재의 표면에 머무르는 것을 저해할 수 있도록 간단한 제조 공정에 의하여 내지문 기능을 수행하기 위한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법에 의하여 제조된 내지문 필름을 제공하고자 한다.
이를 위해, 본 발명에서는 내지문 필름의 제조 방법에 있어서, 나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 이용하여 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 수행함에 따라, 필름 표면 상에 상기 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 제공한다.
또한, 본 발명에서는 이러한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 구현함에 있어서, 상기 원통형 금형은 진공 챔버 내에서 플라즈마 처리를 수행함에 따라 형성된 표면의 나노 구조물을 갖도록 구성하는 한편, 상기 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에서는 필름 표면에 UV 경화성 수지를 도포한 다음, 원통형 금형에 밀착하여 나노 구조물을 전사시킨 후, UV를 조사하여 경화시키는 공정으로 구현함으로써 간단한 공정을 통하여 대량 생산이 가능한 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법을 통하여 제작된 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.