Abstract:
본 발명은 PDMS나 자외선 경화 수지를 사용하여 제조한 종래의 고분자 몰드가 가지는 문제점을 해결할 수 있는 새로운 재질의 고분자 몰드 및 그 제조 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 기판에 전사하고자 할 나노 또는 마이크로 패턴이 형성된 마스터 몰드를 제공하는 공정; 상기 패턴이 형성된 마스터 몰드의 표면에 PVA 수용액을 도포한 후 경화시켜 PVA 몰드층을 형성하는 공정; 상기 PVA 몰드층에 접합층을 개재한 상태로 몰드 베이스층을 적층 형성하는 공정; 및 상기 마스터 몰드를 분리하여 PVA 몰드층 및 접합층, 몰드 베이스층으로 이루어진 일체의 고분자 몰드를 완성하는 공정;을 포함하는 미세 패턴 형성용 고분자 몰드의 제조 방법을 제공한다.
Abstract:
본 발명은 플라즈마 잠입 이온을 이용한 나노패턴 가공 장치 및 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가속 이온을 이용한 저온 플라즈마 잠입 이온으로 시편의 표면에 다양한 형태의 나노패턴을 형성하는 장치 및 방법에 관한 것이다. 이에 본 발명은, 전기적으로 절연되며, 플라즈마가 채워지는 진공 챔버; 가공물이 놓여지는 부분으로서, 진공 챔버의 내부에 설치되어 가공물과 함께 회전가능한 받침대; 상기 가공물 및 받침대의 회전을 위한 회전수단; 전도성을 가지면서 가공물을 둘러싸서 가공물을 플라즈마로부터 분리시키며, 전기적으로 가공물과 연결되는 덮개; 적어도 상기 덮개의 한 면 이상에 회전가능하게 구비되고, 가공물의 표면을 따라 배치되는 슬롯;을 포함하며, 상기 슬롯을 회전시켜 형성하고자 하는 나노패턴의 형상에 따라 소정의 각도로 세팅함으로써, 플라즈마로부터 나온 이온이 슬롯을 통해 덮개와 가공물 사이의 공간으로 이끌리게 되어 가공물의 표면에 충돌하게 될 때, 상기 슬롯의 각도에 따라 가공물의 표면에 원하는 나노패턴을 형성할 수 있도록 된 것을 특징으로 하는 플라즈마 잠입 이온을 이용한 나노패턴 가공 장치를 제공한다.
Abstract:
The present invention relates to a device and a method for processing nanopatterns using plasma immersion ions and, more specifically, to a device and a method for forming nanopatterns of various types on the surface of a sample by low temperature plasma immersion ions by using acceleration ions. The device for processing nanopatterns using plasma immersion ions comprises: a vacuum chamber which is electrically insulated and is filled with plasma; a rack which is installed in the vacuum chamber to receive a processed article and is rotatable along with the processed article; a rotating means to rotate the processed article and the rack; a cover which has conductivity, covers the processed article to separate the processed article from the plasma, and is electrically connected to the processed article; and a slot which is included to be rotated in at least one or more surfaces of the cover and is arranged along the surface of the processed article. The desired nanopatterns are formed on the surface of the processed article according to an angle of the slot by rotating the slot to be set at a certain angle according to the shape of nanopatterns to be formed when the ions extracted from the plasma are led to the space between the cover and the processed article through the slot and the ions collide with the surface of the processed article.
Abstract:
본 발명은 지문 상의 인체 분비물에 의하여 필름 표면이 오염되는 것을 방지하기 위하여 지문 생성을 억제하는 내지문 기능을 갖는 내지문 필름 및 이러한 내지문 필름의 제조 방법에 관한 것이다. 이와 관련하여, 본 발명에서는 인체 분비물이 필름의 기재의 표면에 머무르는 것을 저해할 수 있도록 간단한 제조 공정에 의하여 내지문 기능을 수행하기 위한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법에 의하여 제조된 내지문 필름을 제공하고자 한다. 이를 위해, 본 발명에서는 내지문 필름의 제조 방법에 있어서, 나노 구조물이 형성된 원통형 금형을 이용하여 UV 임프린트 롤 투 롤 공정을 수행함에 따라, 필름 표면 상에 상기 나노 구조물에 대응되는 나노 패턴이 형성되는 것을 특징으로 하는 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 제공한다. 또한, 본 발명에서는 이러한 나노 패턴이 형성된 내지문 필름의 제조 방법을 구현함에 있어서, 상기 원통형 금형은 진공 챔버 내에서 플라즈마 처리를 수행함에 따라 형성된 표면의 나노 구조물을 갖도록 구성하는 한편, 상기 UV 임프린트 롤 투 롤 공정에서는 필름 표면에 UV 경화성 수지를 도포한 다음, 원통형 금형에 밀착하여 나노 구조물을 전사시킨 후, UV를 조사하여 경화시키는 공정으로 구현함으로써 간단한 공정을 통하여 대량 생산이 가능한 내지문 필름의 제조 방법 및 이러한 방법을 통하여 제작된 나노 패턴이 형성된 내지문 필름을 제공한다.
Abstract:
PURPOSE: An electromagnetic holder device for an exposing device is provided to improve processing performance by decreasing the length of a mover by removing the chuck part of a magnetic levitation stage mover. CONSTITUTION: A rotating side electromagnet holder(16) is arranged on the upper side of a rotating side mover(11). A rotating side mover includes a rotating side permanent magnet(10). The rotating side electromagnet holder is comprised of a core(14a) and a coil(15a). The rotating side electromagnet holder controls the current to lift the rotating side mover and the transferring side mover up and down. The rotating side electromagnet holder includes a bracket(18a) which connects a core to a transfer stage.
Abstract:
A large area and high precision roll exposure apparatus is provided to manufacture a roll mold having a large area of several hundreds of millimeters and a line width of high precision of several decades of nanometers or less. A large area and high precision roll exposure apparatus comprises a rotation roll(10) which is arranged in horizontal direction; the first and second fixing chucks(11) which supports the both end parts of the rotation roll with placing the rotation roll between them; a roll support(13) which supports the fixing chucks and the rotation roll; a beam source(17) which irradiates beam in the direction perpendicular to the rotation roll; a roll rotation unit which is installed at the first and/or second fixing chucks to rotate the rotation roll; and a linear transfer part which supports the lower end part of the roll support and moves right and left the roll support linearly.
Abstract:
본 발명은 와이어 그리드 편광자와 이의 제조 장치 및 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 나노패턴을 갖는 금형 및 전주 도금공정을 이용하여 단순하면서도 생산 효율이 높은 구조로 제조되는 와이어 그리드 편광자와 이의 제조 장치 및 방법에 관한 것이다. 즉, 본 발명은 나노 패턴이 가공된 평판형 금형 또는 원통 금형과, 자외선 또는 열에 경화되는 고분자 재료를 구비하여, 기판의 금속층 표면에 레진 패턴을 형성함과 함께 전주 도금 공정을 이용하여 레진 패턴 사이에 도금 패턴이 형성되도록 한 후, 레진 패턴 및 금속 도금 패턴이 유연성 기판의 투명 접착제에 접착되며 전사되도록 함으로써, 연속 공정으로 와이어 그리드 편광자 제조가 가능하고, 제조 시간 및 생산 단가를 크게 줄일 수 있도록 한 와이어 그리드 편광자와 이의 제조 장치 및 방법을 제공하고자 한 것이다.
Abstract:
PURPOSE: A manufacturing method of articles having micro-patterns is provided to be able to solve the conventional process defect problem while the low cost production is possible, and to be able to reduce the failure rate and the cost, and to improve the production yield. CONSTITUTION: A manufacturing method of articles having micro-patterns is characterized in that micro-patterns (12b) distinguished by a transparency difference within a resin layer (12) on a substrate (11) are formed by causing the transparency difference between the light-irradiated part and the light-not-irradiated part by coating a photoreactive resin (12a) reacting with light on the substrate and irradiating light in a selected domain on the photoreactive resin coated on the substrate. The manufacturing method of articles having micro-patterns is characterized in that light is irradiated after a selective light-transmitting member (13) having a through region of a pattern layout in which light passes through is positioned on the resin coated on the substrate, or light focused by a condenser lens is directly irradiated on the desired resin domain so that light is irradiated only on the selected domain on the photoreactive resin. [Reference numerals] (AA) Ultraviolet rays
Abstract:
PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage is provided to directly process a pattern of nanometer size on the cylinder surface of large size by actively controlling the location of a cylinder with an error of the nanometer size. CONSTITUTION: A cylinder movable unit is composed of a rotary cylinder movable unit(110b) and a linear transfer cylinder movable unit(110a). A base unit supports the cylinder movable unit which can be rotated without contact. The base unit comprises electromagnet arrangement bodies(122a, 123a, 122b, 123b). A horizontal magnetic levitation auxiliary unit(140) controls the horizontal direction location of a cylinder mold and the cylinder movable unit. The horizontal magnetic levitation auxiliary unit comprises an electromagnet arrangement body(141).