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公开(公告)号：KR1020110067790A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：KR1020090124537
申请日：2009-12-15
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/68 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70825 , G03F7/70841 , H01L21/68 , G03F7/709
Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage and a lithography are provided to efficiency process a pattern of a nano size on the surface of a cylinder by actively controlling the position of the device with error tolerance of several nano meters. CONSTITUTION: In a cylindrical magnetic levitation stage and a lithography, a rotation cylindrical driving unit and a liner transfer cylinder driving unit(13) support a cylindrical mold from both sides and is rotated or linearly moved through a magnetic levitation force and magnetic transfer force. a rotation cylindrical fixing unit and a liner transfer cylinder fixing unit are arranged under the rotation cylindrical driving unit and a liner transfer cylinder driving unit and supports the cylindrical driving unit with contactless. A magnet array and an electromagnetic array are mutually reacted to generate the magnetic levitation force and magnetic transfer force.
Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台和光刻技术，以通过主动控制具有几纳米误差的装置的位置来有效地处理气缸表面上的纳米尺寸图案。 构成：在圆柱形磁悬浮台和光刻中，旋转圆柱形驱动单元和衬垫传动滚筒驱动单元（13）从两侧支撑圆柱形模具，并通过磁悬浮力和磁力传递力旋转或线性移动。 旋转圆柱形固定单元和衬里传送圆筒固定单元布置在旋转圆柱形驱动单元和衬垫传送滚筒驱动单元的下面，并且支撑具有非接触式的圆柱形驱动单元。 磁体阵列和电磁阵列相互反应，产生磁悬浮力和磁力传递力。
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公开(公告)号：KR101117199B1
公开(公告)日：2012-03-07
申请号：KR1020090124537
申请日：2009-12-15
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/68 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70825 , G03F7/70841 , H01L21/68
Abstract: 본발명은자기부상원리로원통을부상하여비접촉으로회전및 축방향으로이송시키면서원통표면에직접나노미터크기의패턴을새길수 있는새로운형태의스테이지와원통표면에빛을조사하는광원을구현함으로써, 나노미터크기의오차로위치를능동제어할수 있는등 기계가공에의한오차및 외란을실시간적으로보정할수 있고, 결국대형크기의원통표면에나노미터크기의패턴을효율적으로가공할수 있는한편, 스테이지와조합되어광원과원통표면사이를부분적으로진공환경이유지되도록하는차동진공수단을구현함으로써, X선이나전자빔, 그리고극자외선(EUV)과같은광원을적용할수 있는원통형자기부상스테이지및 노광장치를제공한다.
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公开(公告)号：KR100977466B1
公开(公告)日：2010-08-23
申请号：KR1020080065102
申请日：2008-07-04
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: G03F7/70825 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , H02K7/09 , H02K16/00 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , H02N15/00
Abstract: 본 발명은 반도체 칩의 소형화와 대용량화 추세로 인한 회로 패턴의 미세화로 고정밀도의 노광장치가 요구됨에 따라 종래의 평면형 스테이지를 대신하여 대면적의 반도체 기판이나 디스플레이 패널의 기판상에 다양한 임의 형상의 미세 크기의 패턴을 생성하기 위하여 원통형 기판을 사용하는 경우에 있어서, 원통형 기판과 상기 원통형 기판에 결합된 제1영구자석 배열과 제1코일 배열의 조합 그리고 제2영구자석 배열과 제2코일 배열의 조합을 포함하도록 구성하여 상기 코일 배열들에 전류를 인가함에 따라 발생한 자기장이 대응하는 상기 영구자석 배열들의 자기장과의 상호작용에 의하여 발생하는 자기력을 제어하여 미세하게 상기 원통형 기판의 부상과 이송 그리고 회전을 가능하도록 하는 원통형 자기부상 스테이지를 제공한다.
또한, 상기 코일 배열에 열이 발생하는 것을 해소하기 위하여 상기 코일 배열이 조립된 고정자에 냉각핀으로 접촉하고, 상기 고정자의 내부에 형성된 냉각관로를 포함하는 냉매 순환 루프를 포함하는 원통형 자기부상 스테이지용 냉각장치를 제공한다.
원통형 기판, 자기부상, 자기부상 스테이지, 노광 장치-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101264224B1
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020100138525
申请日：2010-12-30
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/68 , H01L21/02 , H01L21/027
CPC classification number: H02K7/09 , H02K16/00 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18
Abstract: 본발명은원통형자기부상스테이지에관한것으로서, 원통의부상이이루어지는수직방향(상하방향), 직선이송방향이되는축방향, 그리고원통의회전방향과더불어, 원통단면상좌우방향이되는수평방향으로도원통의위치를정밀하게제어할수 있는원통형자기부상스테이지를제공하는데주된목적이있는것이다. 상기한목적을달성하기위해, 원통금형에일체로장착되고영구자석배열체를구비하여영구자석배열체와하기베이스부의전자석배열체간 상호작용에의한자기부상력, 자기회전력, 자기이송력에의해부상하여비접촉식으로회전및 직선이송이가능한원통이동부와; 전자석배열체를구비하고상기원통이동부의하측으로배치되어비접촉으로원통이동부를회전및 직선이송가능하게지지하는베이스부와; 상기원통이동부의측방으로배치되고전자석배열체를구비하여상기전자석배열체와원통이동부의영구자석배열체간 상호작용에의해발생하는수평이송력으로원통이동부및 원통금형의수평방향위치를제어하는수평자기부상보조부;를포함하여구성되는원통형자기부상스테이지가개시된다.
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公开(公告)号：KR1020080049386A
公开(公告)日：2008-06-04
申请号：KR1020060119873
申请日：2006-11-30
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G03F7/20
Abstract: A large area and high precision roll exposure apparatus is provided to manufacture a roll mold having a large area of several hundreds of millimeters and a line width of high precision of several decades of nanometers or less. A large area and high precision roll exposure apparatus comprises a rotation roll(10) which is arranged in horizontal direction; the first and second fixing chucks(11) which supports the both end parts of the rotation roll with placing the rotation roll between them; a roll support(13) which supports the fixing chucks and the rotation roll; a beam source(17) which irradiates beam in the direction perpendicular to the rotation roll; a roll rotation unit which is installed at the first and/or second fixing chucks to rotate the rotation roll; and a linear transfer part which supports the lower end part of the roll support and moves right and left the roll support linearly.
Abstract translation: 提供了一种大面积和高精度的辊式曝光装置来制造具有几百毫米的大面积和几十纳米或更小的高精度的线宽的辊模。 大面积，高精度的卷筒曝光装置包括沿水平方向布置的旋转辊（10） 第一和第二固定卡盘（11），其通过在其间放置旋转辊来支撑旋转辊的两个端部; 支撑固定卡盘和旋转辊的辊支撑件（13）; 沿垂直于旋转辊的方向照射光束的光束源（17）; 辊旋转单元，其安装在第一和/或第二固定卡盘处以旋转旋转辊; 以及线性传递部件，其支撑辊支撑件的下端部分，并且使辊支架线性地左右移动。
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公开(公告)号：KR1020120076805A
公开(公告)日：2012-07-10
申请号：KR1020100138525
申请日：2010-12-30
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/68 , H01L21/02 , H01L21/027
CPC classification number: H02K7/09 , H02K16/00 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , H01L21/682 , G03F7/70716 , G03F7/70775 , G03F9/7003 , H01L21/02027 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage is provided to directly process a pattern of nanometer size on the cylinder surface of large size by actively controlling the location of a cylinder with an error of the nanometer size. CONSTITUTION: A cylinder movable unit is composed of a rotary cylinder movable unit(110b) and a linear transfer cylinder movable unit(110a). A base unit supports the cylinder movable unit which can be rotated without contact. The base unit comprises electromagnet arrangement bodies(122a, 123a, 122b, 123b). A horizontal magnetic levitation auxiliary unit(140) controls the horizontal direction location of a cylinder mold and the cylinder movable unit. The horizontal magnetic levitation auxiliary unit comprises an electromagnet arrangement body(141).
Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台，通过主动控制圆柱体的位置，以纳米尺寸的误差直接处理大尺寸圆柱体表面的纳米尺寸图案。 构成：缸体可动单元由旋转圆筒可动单元（110b）和直线传动滚筒活动单元（110a）构成。 基座单元支撑可旋转而不接触的气缸可动单元。 基座单元包括电磁铁排列体（122a，123a，122b，123b）。 水平磁悬浮辅助单元（140）控制气缸模具和气缸活动单元的水平方向位置。 水平磁悬浮辅助单元包括电磁体排列体（141）。
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公开(公告)号：KR1020100004756A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：KR1020080065102
申请日：2008-07-04
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: G03F7/70825 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , H02K7/09 , H02K16/00 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , H02N15/00
Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage is provided to implement the integration of an apparatus through a high precision control by using magnetic levitation principle and controlling the rotation of the cylindrical substrate. CONSTITUTION: A first cylindrical substrate holder(11) and a second cylindrical substrate holder(12) are connected to both ends of a cylindrical substrate. A first permanent magnet is arranged on a first movable element(23), and a second permanent magnet is arranged on a second movable element(33). A first connector(13) interlinks the first movable element and the first cylindrical substrate holder. A second connector(14) interlinks the second movable element and the second cylindrical substrate holder.
Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台，通过使用磁悬浮原理和控制圆柱形基板的旋转，通过高精度控制实现设备的集成。 构成：第一圆柱形衬底保持器（11）和第二圆柱形衬底保持器（12）连接到圆柱形衬底的两端。 第一永久磁铁布置在第一可移动元件（23）上，第二永久磁铁布置在第二可移动元件（33）上。 第一连接器（13）将第一可移动元件和第一圆柱形基板支架互连。 第二连接器（14）将第二可移动元件和第二圆柱形基板支架互连。
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公开(公告)号：KR100861001B1
公开(公告)日：2008-09-30
申请号：KR1020060119873
申请日：2006-11-30
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G03F7/20
Abstract: 본 발명은 대면적 초정밀 롤 노광 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 레이저빔 또는 전자빔을 이용하여 롤 표면에 직접 노광을 할 수 있고, 롤 회전축을 중심으로 정속 회전운동은 물론 회전축 방향으로 정속 직선운동을 할 수 있도록 한 대면적 초정밀 롤 노광 장치에 관한 것이다.
이를 위해, 본 발명은 수평방향으로 배치된 회전롤과; 상기 회전롤을 사이에 두고 상기 회전롤의 양단부를 지지하는 제1 및 제2고정척과; 상기 고정척 및 회전롤을 떠받쳐주는 롤지지체와; 상기 회전롤에 수직방향으로 빔을 조사하는 빔소스와; 상기 제1 및 제2고정척 중 어느 하나 또는 둘 다에 설치되어 상기 회전롤을 회전시켜주는 롤회전수단과; 상기 롤지지체의 하단부를 지지하고, 상기 롤지지체를 좌우로 직선이동시켜주는 리니어 이송부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 대면적 초정밀 롤 노광 장치를 제공한다.
회전롤, 고정척, 자기부상, 미케니컬 베어링, 스러스트 마그네틱 베어링, 레이저 간섭계, 리니어모터, 전자석, 영구자석, 로크 앤 롤 장치
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