급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법
    2.
    发明公开
    급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법 有权
    使用快速热蒸气沉积制备金属氧化物纳米结构的方法

    公开(公告)号:KR1020080104581A

    公开(公告)日:2008-12-03

    申请号:KR1020070051530

    申请日:2007-05-28

    CPC classification number: H01L21/02603 H01L21/02664

    Abstract: The method for manufacturing metal oxide nanostructures using the rapid thermal deposition is provided to use the relatively wide substrate. Therefore, the nanostructures of the high quality are mass-produced. The method for manufacturing metal oxide nanostructures comprises as follows. A step(S10) is for preparing chamber having one or the halogen lamps. A step(S20) is for charging the metal source within the chamber and substrate. A step(S30) is for supplying the carrier gas having the flux of the substrate direction from the metal source within the chamber. A step(S40) is for heating the metal source by using the halogen lamp to form the metal oxide nanostructures on the substrate. A step(S50) is for cooling the metal oxide nanostructures formed in the substrate.

    Abstract translation: 提供使用快速热沉积制造金属氧化物纳米结构的方法来使用相对宽的衬底。 因此,高质量的纳米结构大量生产。 金属氧化物纳米结构体的制造方法如下。 步骤(S10)用于制备具有一个或卤素灯的室。 步骤(S20)用于对室和衬底内的金属源进行充电。 步骤(S30)用于从腔室内的金属源供给具有基板方向的通量的载气。 步骤(S40)是通过使用卤素灯在基板上形成金属氧化物纳米结构来加热金属源。 步骤(S50)是用于冷却在基板中形成的金属氧化物纳米结构体。

    급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법
    3.
    发明授权
    급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법 有权
    使用快速热蒸镀法制造金属氧化物纳米结构的方法

    公开(公告)号:KR100953825B1

    公开(公告)日:2010-04-20

    申请号:KR1020070051530

    申请日:2007-05-28

    Abstract: 본 발명은 나노구조물의 형성 전후의 원하지 않는 반응을 억제하여 고품질의 금속산화물 나노구조물을 제작할 수 있는 급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법을 개시한다. 본 발명에 따른 급속 열증착을 이용한 금속산화물 나노구조물 제조방법은 하나 또는 그 이상의 할로겐 램프들이 그 주위에 설치된 챔버를 준비하는 단계, 챔버 내에 금속 소스 및 기판을 장입하는 단계, 금속 소스로부터 기판 방향의 유속을 갖는 캐리어 가스를 챔버 내로 공급하는 단계, 기판 상에 금속산화물 나노구조물을 형성하기 위하여, 할로겐 램프를 이용하여 금속 소스를 가열하는 단계, 및 기판 상에 형성된 금속산화물 나노구조물을 냉각하는 단계를 포함한다.
    금속산화물, 나노구조물, 급속 열증착, 할로겐램프

    박막 트랜지스터
    5.
    发明公开
    박막 트랜지스터 审中-实审
    薄膜晶体管

    公开(公告)号:KR1020150081026A

    公开(公告)日:2015-07-13

    申请号:KR1020140000574

    申请日:2014-01-03

    CPC classification number: H01L29/78618 H01L29/78696

    Abstract: 박막트랜지스터가제공된다. 박막트랜지스터는기판, 상기기판위에형성된활성층, 상기활성층위에형성된게이트절연막, 상기게이트절연막위에형성된게이트전극, 상기게이트전극양쪽의상기활성층에형성된도핑영역, 및상기게이트전극양측의상기기판상에서로이격되고상기도핑영역과직접접촉하는소스전극및 드레인전극을포함한다.

    Abstract translation: 本发明提供一种薄膜晶体管。 薄晶体管包括衬底; 形成在所述基板上的有源层; 形成在有源层上的栅极绝缘膜; 形成在栅极绝缘膜上的栅电极; 形成在栅电极两侧的有源层上的掺杂区域; 以及源电极和漏电极在栅极两侧的衬底上彼此分离,并与掺杂区域直接接触。 因此,本发明能够提供没有接触工艺的自配置型半导体薄膜晶体管结构。

    가스감지 센서 및 그의 형성방법
    6.
    发明授权
    가스감지 센서 및 그의 형성방법 有权
    气体检测传感器及其形成方法

    公开(公告)号:KR101306985B1

    公开(公告)日:2013-09-10

    申请号:KR1020100018043

    申请日:2010-02-26

    Inventor: 박종혁 오지영

    Abstract: 가스감지 센서 및 그 형성방법이 제공된다. 가스감지 센서의 형성방법은 기판 상에 감지 전극을 형성하는 것, 그리고 감지 전극에 접촉하며, 금속 산화물 나노입자를 포함하는 감지막을 형성하는 것을 포함한다. 감지막은 용액 공정(solution process)을 수행하여 형성된다.

    나노 압전 소자 및 그 형성방법
    8.
    发明公开
    나노 압전 소자 및 그 형성방법 失效
    纳米压电器件及其形成方法

    公开(公告)号:KR1020100066271A

    公开(公告)日:2010-06-17

    申请号:KR1020090024626

    申请日:2009-03-23

    Inventor: 박종혁

    CPC classification number: H01L41/0478 B82B1/002 H01L41/18 H01L41/29 H01L41/35

    Abstract: PURPOSE: A nano piezoelectric device and a forming method thereof are provided to improve generation efficiency by maximizing the deformation per unit volume. CONSTITUTION: A nano wire(120) is extended upward from a lower electrode(110). An upper electrode(130) is formed on the nano wire. The nano wire includes a wire shell(124) and a wire core which have conductivity. The wire shell is made of piezoelectric materials. An electric charge generated from the wire shell is emitted to the upper electrode and the lower electrode through the wire core.

    Abstract translation: 目的:提供纳米压电器件及其形成方法,以通过使每单位体积的变形最大化来提高发电效率。 构成:纳米线(120)从下电极(110)向上延伸。 在纳米线上形成上电极(130)。 纳米线包括具有导电性的线壳(124)和线芯。 线壳由压电材料制成。 从线壳产生的电荷通过线芯发射到上电极和下电极。

    나노로드 밀집도가 조절된 전도성 기판 구조체 및 그전도성 기판 구조체 제조 방법

    公开(公告)号:KR100932903B1

    公开(公告)日:2009-12-21

    申请号:KR1020070098886

    申请日:2007-10-01

    CPC classification number: H01L51/5206 H01L51/442 Y02E10/549 Y02P70/521

    Abstract: The present invention provides a conductive substrate structure with controlled nanorod density so that the contact between a conductive substrate and an active layer can be expanded, and a method of manufacturing the conductive substrate structure. The conductive substrate structure includes: a base substrate (100), and a conductive substrate (200) formed on the base substrate (100), and surface treated with an organic molecule; and nanorods (300) grown from a seed layer applied on the conductive substrate, wherein the seed layer is applied only on a predetermined region of the conductive substrate by using the self-assembling characteristics of the organic molecule, and thus, controlling the density of the nanorods (300). Furthermore, the method of manufacturing the substrate structure includes: treating a conductive substrate (200), formed on top of a base substrate (100), with an organic molecule; applying the seed layer only to a predetermined region of the conductive substrate by using the self-assembling characteristics of the organic molecules: and growing nanorods (300) with a controlled density from the seed layer.

    Abstract translation: 本发明提供一种具有可控纳米棒密度的导电衬底结构,从而可以扩大导电衬底和有源层之间的接触,以及制造该导电衬底结构的方法。 导电基板结构包括:基底基板(100)和形成在基底基板(100)上并用有机分子表面处理的导电基板(200) 以及从施加在导电基板上的种子层生长的纳米棒(300),其中通过使用有机分子的自组装特性仅将种子层施加到导电基板的预定区域上,并且因此控制 纳米棒(300)。 此外,制造衬底结构的方法包括:用有机分子处理在基础衬底(100)的顶部上形成的导电衬底(200) 通过使用有机分子的自组装特征,仅将种子层施加到导电基底的预定区域;以及从种子层以受控的密度生长纳米棒(300)。

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