组合激光器和带电粒子束系统

    公开(公告)号:CN102812533A

    公开(公告)日:2012-12-05

    申请号:CN201180016692.3

    申请日:2011-04-07

    Applicant: FEI公司

    Abstract: 一种组合激光器和带电粒子束系统。脉冲激光使得能够以比针对聚焦离子束的可能的材料去除速率大几个数量级的材料去除速率实现样本的铣削。在某些实施例中,扫描电子显微镜使得能够在激光处理期间实现样本的高分辨率成像。在某些实施例中,聚焦离子束使得能够实现样本的更精确铣削。用于在激光铣削期间将成像检测器去激活的方法和结构使得能够去除由于检测器饱和而引起的成像伪像,所述检测器饱和是由于由激光束产生的等离子体羽流。在某些实施例中,采用两种类型的检测器:类型1检测器在用电子或离子束进行样本的扫描期间提供高增益成像,而类型2检测器使得能够在激光铣削期间实现较低增益的成像和端点检测。

    组合激光器和带电粒子束系统

    公开(公告)号:CN105390358A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510738998.X

    申请日:2011-04-07

    Applicant: FEI公司

    Abstract: 一种组合激光器和带电粒子束系统。脉冲激光使得能够以比针对聚焦离子束的可能的材料去除速率大几个数量级的材料去除速率实现样本的铣削。在某些实施例中,扫描电子显微镜使得能够在激光处理期间实现样本的高分辨率成像。在某些实施例中,聚焦离子束使得能够实现样本的更精确铣削。用于在激光铣削期间将成像检测器去激活的方法和结构使得能够去除由于检测器饱和而引起的成像伪像,所述检测器饱和是由于由激光束产生的等离子体羽流。在某些实施例中,采用两种类型的检测器:类型1检测器在用电子或离子束进行样本的扫描期间提供高增益成像,而类型2检测器使得能够在激光铣削期间实现较低增益的成像和端点检测。

    晶种层激光诱导的沉积
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103668109A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310385527.6

    申请日:2013-08-30

    Applicant: FEI公司

    CPC classification number: C23C16/0281 C23C16/047 C23C16/18

    Abstract: 一种在基底表面上以第一靶图案生成靶沉积材料层的方法。将该基底表面放置在真空中并且将其暴露于具有用于一种晶种沉积材料的前体分子的第一化学蒸气中,由此形成已经吸附了这些前体分子的第一基底表面区域。然后,将一个带电粒子束以第二靶图案应用于第一基底表面区域上,该第二靶图案大体上与第一靶图案相同,由此以第三靶图案形成一个晶种层。将该晶种层暴露于具有靶沉积材料前体分子的第二化学蒸气中,这些前体分子被吸附至该晶种层上。最后,将一个激光束应用于该晶种层和邻近区域,由此在已经暴露于该激光束的该晶种层上以及其附近形成一个靶沉积材料层。

    组合激光器和带电粒子束系统

    公开(公告)号:CN102812533B

    公开(公告)日:2015-12-02

    申请号:CN201180016692.3

    申请日:2011-04-07

    Applicant: FEI公司

    Abstract: 一种组合激光器和带电粒子束系统。脉冲激光使得能够以比针对聚焦离子束的可能的材料去除速率大几个数量级的材料去除速率实现样本的铣削。在某些实施例中,扫描电子显微镜使得能够在激光处理期间实现样本的高分辨率成像。在某些实施例中,聚焦离子束使得能够实现样本的更精确铣削。用于在激光铣削期间将成像检测器去激活的方法和结构使得能够去除由于检测器饱和而引起的成像伪像,所述检测器饱和是由于由激光束产生的等离子体羽流。在某些实施例中,采用两种类型的检测器:类型1检测器在用电子或离子束进行样本的扫描期间提供高增益成像,而类型2检测器使得能够在激光铣削期间实现较低增益的成像和端点检测。

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