HEAT EXCHANGE DEVICE FOR A SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING SAID HEAT EXCHANGE DEVICE
    2.
    发明申请
    HEAT EXCHANGE DEVICE FOR A SEMICONDUCTOR COMPONENT AND METHOD FOR PRODUCING SAID HEAT EXCHANGE DEVICE 审中-公开
    热交换装置用于生产半导体元件和方法

    公开(公告)号:WO2006058860A3

    公开(公告)日:2006-08-17

    申请号:PCT/EP2005056187

    申请日:2005-11-24

    Abstract: The invention relates to a heat exchange device and to a method for producing said heat exchange device. The invention also relates to an arrangement of a structural component and the heat exchange device and to a method for producing said arrangement. The heat exchange device comprises at least one laminated composite comprising a layer and at least one additional layer, a fluid channel for guiding a temperature-adjusting fluid being arranged between the layer and the additional layer in such a manner that the fluid channel is delimited by the two layers and at least one of the layer comprises a plastic film. The method for producing the heat exchange device comprises the following steps: a) providing a layer having a trench, and b) laminating a plastic film onto said layer having the trench in such a manner that the fluid channel is formed. The inventive arrangement is characterized in that the heat exchange device and the structural component are positioned in relation to each other in such a manner that heat can be exchanged by heat conduction between the structural component and at least one of the layers of the laminated composite of the heat exchange device. The method for producing the heat exchange device comprises the following steps: a') providing a structural component on a substrate, and b') applying the heat exchange device in such a manner that heat conduction between the structural component and at least one of the layers of the laminated composite can take place. The heat exchange device is used for cooling a semiconductor module.

    Abstract translation: 本发明涉及一种热交换装置和用于制造所述热交换装置的方法。 此外,提供了用于生产的组件和组件的布置的热交换装置和方法。 热交换装置具有带层和至少一个另外的层,其特征在于,流体通道布置成用于使温度调节流体的层和另外的层之间的所述至少一个复合层,该流体通道是由两个层界定,并且这些层中的至少一个是具有塑料膜 , 用于生产提供了下列方法步骤的热交换装置:a)提供具有沟槽的层,和b)用,使得流体通道形成在沟槽中的层上层叠塑料薄膜。 在热交换装置和所述装置的结构被布置成彼此成使得热交换可以通过在部件和热交换装置的层复合材料的层中的至少一个之间的热传导发生。 为了制造以下的处理步骤被执行的组件组成:a“)在基板上设置的部件,以及b”)沉积的热交换装置,使得可以存在的部件之间的热管的层复合材料的层中的至少一个。 的热交换装置被用于冷却功率半导体模块。

    Kühlvorrichtung und Lötanlage
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102011081606B4

    公开(公告)日:2022-08-04

    申请号:DE102011081606

    申请日:2011-08-26

    Abstract: Kühlvorrichtung zum Abkühlen des noch flüssigen Lotes (23) mindestens einer herzustellenden großflächigen Lötverbindung, wobei die Kühlvorrichtung eine evakuierbare Kammer (1) umfasst, eine in der evakuierbaren Kammer (1) angeordnete Halterung (2), sowie eine in der evakuierbaren Kammer (1) angeordnete Wärmesenke, und wobei die Wärmesenke so gesteuert werden kann, dass eine passgenau in die Halterung (2) eingelegte ebene Kupferplatte (5), die- eine ebene untere Hauptfläche (5b) aufweist,- eine ebene obere Hauptfläche (5t), die in einer vertikalen Richtung (v) von der unteren Hauptfläche (5b) beabstandet ist und die eine Anzahl von N ≥ 2 zwei nebeneinander liegende, rechteckige Oberflächenabschnitte (51) mit einer Fläche von jeweils wenigstens 30 mm x 30 mm,- eine konstante Dicke von 5 mm, sowie- eine homogene Anfangstemperatur von mindestens 220°C, in einer Stickstoffatmosphäre bei einem Druck in der evakuierbaren Kammer (1) von 1013,25 hPa gekühlt wird, so dass die Temperatur an der oberen Hauptfläche (5t) in keinem der Oberflächenabschnitte (51) ein lokales Maximum aufweist, das vom Rand (52) des betreffenden Oberflächenabschnitts (51) beabstandet ist, und zwar so lange, bis in keinem der Oberflächenabschnitte (51) eine Mindestabkühltemperatur vorliegt, die wenigstens 200°C beträgt.

    7.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102004018476B4

    公开(公告)日:2009-06-18

    申请号:DE102004018476

    申请日:2004-04-16

    Inventor: LICHT THOMAS

    Abstract: A power semiconductor arrangement has an electrically insulating and thermally conductive substrate, which is provided with structured metallization on at least one side, a cooling device which is in thermal contact with the other side of the substrate, at least one semiconductor component which is arranged on the substrate and is electrically connected to the structured metallization, an entirely or partially electrically insulating film which is arranged at least on that side of the substrate at which the at least one semiconductor component is placed, and which is laminated without any cavities onto the substrate including or excluding the at least one semiconductor component, and a contact-pressure device which exerts a force on the substrate locally and via the at least one semiconductor component such that the substrate is pressed against the cooling device.

    8.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102007046349A1

    公开(公告)日:2008-04-10

    申请号:DE102007046349

    申请日:2007-09-27

    Abstract: An arrangement for cooling a power semiconductor module, the power semiconductor module having a substrate with a ceramic plate and may have a metallization thereon, the arrangement has a container for the intake of a coolant with a heat-conducting plate; the heat-conducting plate having two sides, one side joined to the metallization of the substrate and the other side being in contact with the coolant; wherein the heat-conducting plate is made of materials having a metal matrix composite (MMC) material with a filling content, which results in a thermal expansion of below that of copper.

    Kühlvorrichtung und Lötanlage
    10.
    发明专利

    公开(公告)号:DE102011081606A1

    公开(公告)日:2013-02-28

    申请号:DE102011081606

    申请日:2011-08-26

    Abstract: Eine Kühlvorrichtung zum Abkühlen des noch flüssigen Lotes (23) einer herzustellenden großflächigen Lötverbindung umfasst eine evakuierbare Kammer (1), eine in der evakuierbaren Kammer (1) angeordnete Halterung (2), sowie eine in der evakuierbaren Kammer (1) angeordnete Wärmesenke. In die Halterung (2) kann eine als Testkörper dienende ebene Kupferplatte (5) eingelegt werden, mit der sich die Wirkungsweise der Kühlvorrichtung testen und überprüfen lässt. Die Kupferplatte (5) weist eine ebene untere Hauptfläche (5b) auf, eine ebene obere Hauptfläche (5t), die in einer vertikalen Richtung (v) von der unteren Hauptfläche (5b) beabstandet ist, eine konstante Dicke von 5 mm, sowie eine homogene Anfangstemperatur von mindestens 220°C. Auf der oberen Hauptfläche (5t) läßt sich eine Anzahl von N ≥ 2 zwei nebeneinander liegender, rechteckiger Oberflächenabschnitte (51) mit einer Fläche von jeweils wenigstens 50 mm × 50 mm festlegen. Das Kühlen der Kupferplatte mit Hilfe der Wärmesenke kann so erfolgen, dass die Temperatur an der oberen Hauptfläche in keinem der rechteckigen Oberflächenabschnitte ein lokales Maximum aufweist, das vom Rand des betreffenden Oberflächenabschnitts beabstandet ist, und zwar so lange, bis in keinem der Oberflächenabschnitte eine Temperatur von mehr als 150°C vorliegt. Wenn das Lot bei 150°C ausreichend verfestigt ist, so liegt eine fertig gefügte Lötverbindung zwischen den Lötpartnern vor. Eine solche Kühlvorrichtung läßt sich in eine Lötanlage integrieren.

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