公开(公告)号：DE102018112632A1

公开(公告)日：2019-11-28

申请号：DE102018112632

申请日：2018-05-25

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： VOIGTLAENDER HANS-JOACHIM ,  STEINER THOMAS ,  BUCHER MANFRED ,  MALE MATHIAS

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/68 ,  H01L21/82

Abstract: Nach verschiedenen Ausführungsformen kann eine Substrathalteranordnung (100) Folgendes einschließen: eine Stützstruktur (102), die ausgelegt ist, um ein Substrat (120) auf einer oder mehreren Oberflächen (102s) der Stützstruktur (102) zu stützen; ein Positionierungssystem (106), das ausgelegt ist, um eine Substratkante-Schutzstruktur (104) bezogen auf die eine oder mehreren Oberflächen (102s) der Stützstruktur (102) zu positionieren, um einen Kantenbereich (120e) des Substrats (120), der sich in einem Spalt (113) zwischen der Substratkante-Schutzstruktur (104) und der einen oder den mehreren Oberflächen (102s) der Stützstruktur (102) befindet, zu schützen, wobei das Positionierungssystem (106) ausgelegt ist, um Daten (106d), die einer Dicke (120d) des Substrats (120) zugeordnet sind, zu empfangen und die Substratkante-Schutzstruktur (104) basierend auf den der Dicke (120d) des Substrats (120) zugeordneten Daten (106d) zu positionieren.

公开(公告)号：DE102021115349A1

公开(公告)日：2022-01-20

申请号：DE102021115349

申请日：2021-06-14

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： KÜNLE MATTHIAS ,  FIEDLER OLAF ,  HUBER THOMAS ,  ILLEMANN CHRISTIAN ,  MALE MATHIAS

IPC: C23C16/455

Abstract: Eine Prozesskammer zur Prozessierung eines Substrats umfasst einen Kammerkörper, der einen inneren Substratprozessierungsbereich definiert. Die Prozesskammer umfasst ferner einen Substratträger zum Halten eines Substrats und einen Vorwärmring mit einer zentralen Öffnung, die so bemessen ist, dass sie um das auf dem Substratträger zu platzierende Substrat herum angeordnet ist. Ein Prozessgaseinlass ist so konfiguriert, dass er Prozessgas in einer seitlichen Richtung leitet, um über den Vorwärmring und über das auf dem Substratträger zu platzierende Substrat zu strömen. Ein Prozessgasauslass ist gegenüber dem Prozessgaseinlass angeordnet. Ein Prozessgasströmungsablenker umfasst einen radial äußeren Befestigungsabschnitt und einen radial inneren, sich in radialer Richtung erstreckenden, blattförmigen Prozessgasablenkungsabschnitt, wobei der radial innere, blattförmige Prozessgasablenkungsabschnitt als Ringsegment ausgebildet ist. Der radial innere, blattförmige Prozessgasablenkungsabschnitt ist oberhalb des Prozessgaseinlasses angeordnet und so dimensioniert, dass er mit dem Vorwärmring überlappt, wobei der Grad der Überlappung zwischen dem Vorwärmring und dem Prozessgasströmungsablenker in radialer Richtung mindestens 1/2 der radialen Abmessung des Vorwärmrings beträgt.

公开(公告)号：DE102015208699A1

公开(公告)日：2015-11-19

申请号：DE102015208699

申请日：2015-05-11

Applicant: INFINEON TECHNOLOGIES AG

Inventor： BUCHER MANFRED ,  MAIER CHRISTIAN ,  MALE MATHIAS ,  SCHWEIZER PHILEMON ,  STEINER THOMAS

IPC: H01L21/683 ,  C23C16/458 ,  H02N13/00

Abstract: Ausführungsformen der vorliegenden Erfindung stellen ein Einspannsystem zur Handhabung eines Wafers bereit, der eine erste Hauptoberfläche und eine zweite Hauptoberfläche umfasst. Das Einspannsystem umfasst eine Einspannvorrichtung, die konfiguriert ist, den Wafer an der zweiten Hauptoberfläche zu halten, die zu der Einspannvorrichtung gerichtet ist. Das Einspannsystem umfasst ferner einen Aktor, der konfiguriert ist, die Freigabevorrichtung von dem der Einspannvorrichtung anzuheben. Die Freigabevorrichtung ist derart konfiguriert, dass die Freigabevorrichtung in den Wafer an einem Randabschnitt der zweiten Hauptoberfläche des Wafers mechanisch eingreift, wenn dieser angehoben wird, sodass der Wafer von der Einspannvorrichtung freigegeben wird.