Optoelektronisches Halbleiterbauelement und Verfahren zu dessen Herstellung

    公开(公告)号:DE102011105010A1

    公开(公告)日:2012-12-20

    申请号:DE102011105010

    申请日:2011-06-20

    Abstract: Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement angegeben, das ein Trägersubstrat (2) und zumindest einen darauf angeordneten Halbleiterchip (1) umfasst. Der Halbleiterchip (1) weist eine zur Strahlungserzeugung geeignete aktive Schicht (1a) auf. Auf dem Trägersubstrat (2) sind zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterchips (1) Leiterbahnen angeordnet. Der Halbleiterchip (1) ist mit einem Vergussmaterial (5) umhüllt. Das Vergussmaterial (5) weist zumindest eine erste, eine zweite und eine dritte Vergussschicht (5a, 5b, 5c) auf, die sich in ihrer Materialzusammensetzung und/oder in ihren optischen und/oder chemischen Eigenschaften voneinander unterscheiden. Weiter ist ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleiterbauelements angegeben.

    Optoelektronische Vorrichtung mit einer Mischung aufweisend ein Silikon und ein fluor-organisches Additiv

    公开(公告)号:DE102015105661A1

    公开(公告)日:2016-10-20

    申请号:DE102015105661

    申请日:2015-04-14

    Abstract: Optoelektronische Vorrichtung mit einer Mischung aufweisend ein Silikon und ein fluor-organisches Additiv Die vorliegende Erfindung betrifft eine optoelektronische Vorrichtung (6) umfassend zumindest einen strahlungsemittierenden oder strahlungsdetektierenden Halbleiter (1) und eine Mischung aufweisend ein Silikon und ein fluor-organisches Additiv, wobei die Mischung Bestandteil zumindest eines der folgenden Elemente ist: Gehäusekörper-Element (2), das den zumindest einen Halbleiter (1) zumindest stellenweise umgibt; Strahlungsleitendes Element (3), das in einem Strahlengang der vom Halbleiter (1) emittierten oder vom Halbleiter (1) detektierten Strahlung angeordnet ist; Wärmeleitendes Element, das eine vom Halbleiter (1) abgegebene oder vom Halbleiter (1) aufgenommene Wärme leiten kann; Haftelement (4). Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Vorrichtung angegeben.

    Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Parylen-Beschichtung

    公开(公告)号:DE102010010819A1

    公开(公告)日:2011-09-15

    申请号:DE102010010819

    申请日:2010-03-10

    Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Parylen-Beschichtung (2) auf zumindest einer Oberfläche (11) zumindest eines Bauteils (1) angegeben, bei dem ein erstes Gas mit Parylen-Monomeren (4) bereitgestellt wird und die Parylen-Monomere auf der zumindest einen Oberfläche (11) des Bauteils (1) durch Zuleitung des ersten Gases mit den Parylen-Monomeren (4) mittels einer ersten Düse (3) zur zumindest einen Oberfläche (11) abgeschieden werden, wobei das Bauteil (1) in einer Umgebung mit Atmosphärendruck angeordnet ist. Weiterhin wird eine Vorrichtung zur Herstellung einer Parylen-Beschichtung angegeben.

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